Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of selenoproteins in rat serum by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Proteomika, Metabolomika
The ultratrace determination of iodine 129 in aqueous samples using the 7700x ICP-MS with oxygen reaction mode
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Analysis of Rare Earth Elements in Geological Samples by Laser Ablation - Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (LA-ICP-MS)
Aplikace
| 2002 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Elemental bioimaging of Al2O3/ZrO2/TiO2 nanoparticles in lung tissue
Aplikace
| 2018 | Shimadzu
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Shimadzu, Tekmar Teledyne
Zaměření
Klinická analýza
Analysis of Ultratrace Impurities in High Silicon Matrix Samples by ICP-QQQ
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of inorganic impurities in lubricating oils by ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS