ICPMS
Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Language English

    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS | LabRulez ICPMS

    Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Determination of Trivalent and Hexavalent Chromium in Toy Materials

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
    Instrumentace
    HPLC, ICP/MS, Speciační analýza
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Using Heteroatoms as “Natural Labels” in the Quantitative Analysis of Active Pharmaceutical Ingredients by HPLC-ICP-MS

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    HPLC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    HPLC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Farmaceutická analýza

    Analysis of Ultratrace Impurities in High Silicon Matrix Samples by ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Agilent ICP-MS Journal (February 2018. Issue 71)

    Ostatní
    | 2018 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Analysis of Metallic Impurities in Specialty Semiconductor Gases Using Gas Exchange Device (GED)-ICP-MS

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Agilent ICP-MS Journal (May 2016 – Issue 65)

    Ostatní
    | 2016 | Agilent Technologies
    Software, Speciační analýza, Laserová ablace, ICP/MS, Elementární analýza
    Instrumentace
    Software, Speciační analýza, Laserová ablace, ICP/MS, Elementární analýza
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí, Potraviny a zemědělství

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing

    Příručky
    | 2022 | Agilent Technologies
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat

    ‌

    Laureátkou ceny Via Chimica pro rok 2024 je Karolína Slonková

    Ne, 2.6.2024
    Nadace Experientia
    ‌

    „První komunikátoři vědy pro mě byli už učitelé na střední,“ říká výzkumnice a laureátka ceny Učené společnosti Barbora Rudzanová

    Ne, 2.6.2024
    RECETOX - Centrum pro výzkum toxických látek v prostředí
    ‌

    Podcast CHEmic #29 – Divadlo i věda nám pomáhají porozumět světu, říká dramatik a matematik René Levínský

    Čt, 30.5.2024
    Ústav organické chemie a biochemie AV ČR
    ‌
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.