ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na ICP/MS/MS od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS

    Agilent ICP-MS Journal (February 2022, Issue 87)

    Ostatní
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Ultra High Matrix Introduction (UHMI)

    Technické články
    | 2021 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Agilent ICP-MS Journal (November 2015 – Issue 63)

    Ostatní
    | 2016 | Agilent Technologies
    Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Životní prostředí

    WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS

    Postery
    | 2018 | Agilent Technologies
    Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies, Elemental Scientific
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez

    SHIMADZU: Pololetní události – Příležitosti k setkání s Vámi

    St, 15.5.2024
    SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka

    Přednáška LABOREXPO 2024: Kam směřuje FTIR a Ramanova spektrometrie? Nové technologie, kde je hledat a jak je využít.

    Po, 27.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.