ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace se zaměřením na Laserová ablace | LabRulez ICPMS

    WCPS: Direct Metal Analysis by New Galvano-Mirror fs-LA-ICP-MS using 100%-Normalization Method with NIST 612 Glass CRM as Calibration Standard

    Postery
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
    • Před
    • 1
    • Další
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Měření čistoty malých objemů DNA při 4 °C s použitím Agilent Cary 60 UV-Vis spektrofotometru s optickým vláknem s mikrosondou

    Út, 16.4.2024
    Altium International

    Stanovení nominální hodnoty koncentrace analytu a její nejistoty ve vodných kalibračních roztocích prvků primárními metodami

    Po, 15.4.2024
    ANALYTIKA

    Tuk je možné vydolovat i z tisíce let staré keramiky, říká Veronika Brychová

    Čt, 25.4.2024
    Akademie věd České republiky
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.