Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(4)
Klinická analýza
(1)
Materiálová analýza
(4)
Ostatní
(2)
Instrumentace
AAS
(3)
ICP/MS
(34)
ICP/MS/MS
(28)
ICP/OES
(3)
Výrobce
Agilent Technologies
(38)
Elemental Scientific
(2)
Autor
Agilent Technologies
Chemické listy
(4)
RAFA
(7)
Shimadzu
(1)
Agilent Technologies
Typ Publikace
Aplikace
(27)
Ostatní
(2)
Postery
(5)
Příručky
(4)
Rok vydání
Aplikace od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS
Postery
| 2018 | Agilent Technologies
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Using ICP-QQQ for UO2 + product ion measurement to reduce uranium hydride ion interference and enable trace 236U isotopic analysis
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Accurate Analysis of Trace Mercury in Cosmetics using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2019 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Ostatní
Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Před
1
2
3
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Laboratoř anorganické chemie ALS Czech Republic v Praze
St, 22.5.2024
ALS Czech Republic
Pozvánka na LABOREXPO - stánek ALTIUM INTERNATIONAL
Út, 21.5.2024
Altium International
Přednáška LABOREXPO 2024: Budoucnost analýzy potravin a krmiv pomocí NIR spektrometrie
Po, 20.5.2024
LabRulez
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.