ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS

    Spectrophotometric Spatial Profiling of Coated Optical Wafers

    Aplikace
    | 2020 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Direct Analysis of Metallic Impurities in SiC and GaN Wafers by LA-GED-MSAG-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Coated Wafer Mapping Using UV-Vis Spectral Reflection and Transmission Measurements

    Aplikace
    | 2020 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza, Polovodiče

    Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)

    Aplikace
    | 2001 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

    Aplikace
    | 2003 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Investigating the Angular Dependence of Absolute Specular Reflection

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    The deep ultraviolet spectroscopic properties of a next-generation photoresist

    Aplikace
    | 2011 | Agilent Technologies
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza, Polovodiče

    Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Laboratoř anorganické chemie ALS Czech Republic v Praze

    St, 22.5.2024
    ALS Czech Republic

    Pozvánka na LABOREXPO - stánek ALTIUM INTERNATIONAL

    Út, 21.5.2024
    Altium International

    Přednáška LABOREXPO 2024: Budoucnost analýzy potravin a krmiv pomocí NIR spektrometrie

    Po, 20.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.