Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Aplikace od Agilent Technologies | LabRulez ICPMS
A New Design of Ion Lens and Collision/Reaction Cell for ICP-MS
Postery
| N/A | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
IMSC: A New Design of Ion Lens and Collision/Reaction Cell for ICP-MS
Postery
| 2009 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
ORS4 AND HELIUM MODE FOR MORE EFFECTIVE INTERFERENCE REMOVAL IN COMPLEX SAMPLES
Ostatní
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
WCPS: Analysis of Metal Impurities in Pharmaceutical Ingredients in Preparation for the New USP Methods
Postery
| 2011 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
Octopole Collision/Reaction Cell and Helium mode
Technické články
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
WCPS: Analysis of radioactive iodine-129 by ICP-QQQ using MS/MS mode and a new octopole reaction cell with axial acceleratio
Postery
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Průmysl a chemie
APWC: Analysis of radioactive iodine-129 by ICP-QQQ using MS/MS mode and an octopole reaction cell with axial acceleration
Postery
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.