Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Measuring the Performance of Compact Visual Displays
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Agilent 55B AA spectrometer
Brožury a specifikace
| 2019 | Agilent Technologies
AAS
Instrumentace
AAS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Damage-free failure/defect analysis in electronics and semiconductor industries using micro-ATR FTIR imaging
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
FTIR Spektroskopie
Instrumentace
FTIR Spektroskopie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza, Polovodiče
Agilent Recirculating Chiller
Ostatní
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Agilent Cary 610/620 FTIR microscopes and imaging systems
Brožury a specifikace
| 2014 | Agilent Technologies
FTIR Spektroskopie, Mikroskopie
Instrumentace
FTIR Spektroskopie, Mikroskopie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Agilent Cary 60 UV-Vis Spectrophotometer Site Preparation Checklist
Manuály
| 2023 | Agilent Technologies
UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Ostatní
Optical Characterization of Materials Using Spectroscopy
Příručky
| 2023 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Materiálová analýza, Polovodiče
Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.