Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent ICP-MS Journal (April 2018. Issue 72)
Ostatní
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství, Polovodiče
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Příručky
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES, AAS, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Guide to TRS100 Analytical Method Development
Příručky
| 2022 | Agilent Technologies
RAMAN Spektrometrie
Instrumentace
RAMAN Spektrometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing