ICPMS
Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Language English

    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace | LabRulez ICPMS

    Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS

    Aplikace
    | 2004 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    The deep ultraviolet spectroscopic properties of a next-generation photoresist

    Aplikace
    | 2011 | Agilent Technologies
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza, Polovodiče

    Determination of Ultratrace Impurities in Semiconductor Photoresist Using ICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    The determination of thin film thickness using reflectance spectroscopy

    Aplikace
    | 2011 | Agilent Technologies
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Materiálová analýza

    Trace level analysis of sulfur, phosphorus, silicon and chlorine in NMP using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Farmaceutická analýza

    Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ

    Aplikace
    | 2019 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2016 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
    • Před
    • 1
    • Další
     

    Mohlo by Vás zajímat

    ‌

    Měření čistoty malých objemů DNA při 4 °C s použitím Agilent Cary 60 UV-Vis spektrofotometru s optickým vláknem s mikrosondou

    Út, 16.4.2024
    Altium International
    ‌

    Stanovení nominální hodnoty koncentrace analytu a její nejistoty ve vodných kalibračních roztocích prvků primárními metodami

    Po, 15.4.2024
    ANALYTIKA
    ‌

    Tuk je možné vydolovat i z tisíce let staré keramiky, říká Veronika Brychová

    Čt, 25.4.2024
    Akademie věd České republiky
    ‌
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.