Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Před
1
Další
Mohlo by Vás zajímat
LECO/MERCI Seminář Biomasa 2024
Po, 29.4.2024
LECO
XI. česko-slovenská konference Doprava, zdraví a životní prostředí (REGISTRACE)
Po, 29.4.2024
Centrum dopravního výzkumu (CDV)
Wiley vydal AntiBase Library 2024 - nejnovější verzi Wileyho knihovny pro identifikaci přírodních látek