Rozcestník
Novinky
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
Knihovna
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Webináře
Produkty
Přístroje a služby
Bazar
Společnosti
Komerční
Nekomerční
Mediální
Kariéra
Nabídky práce
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Novinky
Knihovna
Webináře
Produkty
Společnosti
Kariéra
Novinky
Nejbližší akce
Akademie - již brzy
ICPMS
GCMS
LCMS
Webináře
Přístroje a služby
Bazar
Komerční
Nekomerční
Mediální
Nabídky práce
Databáze
ICPMS
GCMS
LCMS
Zaměření
Farmaceutická analýza
(4)
Forenzní analýza a toxikologie
(1)
Klinická analýza
(3)
Materiálová analýza
(5)
Instrumentace
FTIR Spektroskopie
(5)
ICP/MS
(48)
ICP/MS/MS
(30)
Laserová ablace
(1)
Výrobce
Agilent Technologies
(46)
Elemental Scientific
(3)
Shimadzu
(9)
Autor
Agilent Technologies
(46)
Shimadzu
(9)
Typ Publikace
Aplikace
(29)
Brožury a specifikace
(1)
Ostatní
(12)
Postery
(6)
Rok vydání
WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS
Postery
| 2018 | Agilent Technologies
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of trace elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
TOC suspension method for sediments and soils
Aplikace
| 2006 | Shimadzu
TOC
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Životní prostředí
Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated, high sensitivity analysis of single nanoparticles using the Agilent 7900 ICP-MS with Single Nanoparticle Application Module
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Materiálová analýza
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of Microplastics Using AIRsight Infrared/Raman Microscope
Aplikace
| 2022 | Shimadzu
FTIR Spektroskopie, Mikroskopie
Instrumentace
FTIR Spektroskopie, Mikroskopie
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Životní prostředí
Před
1
2
...
Další
Mohlo by Vás zajímat
Aktualizace služeb: Úspěšná akreditace a rozšíření nabídky
St, 24.4.2024
ALS Czech Republic
Pozvánka na LABOREXPO & PROCESEXPO 2024
Út, 23.4.2024
CHEMAGAZÍN
Aktuality v oblasti servisních služeb a zákaznických školení (M. Juříček) - NPI2023
Út, 23.4.2024
Altium International
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
Webináře
O nás
Kontaktujte nás
Podmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.