ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Qualifying and Quantifying Plasma Samples with Lunatic

Aplikace
| 2020 | Unchained Labs
UV–VIS Spektrofotometrie, Charakterizace částic
Instrumentace
UV–VIS Spektrofotometrie, Charakterizace částic
Výrobce
Unchained Labs
Zaměření
Proteomika

Plasma Robustness and Matrix Tolerance

Technické články
| 2020 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření

Determination of ultratrace elements in semiconductor grade TMAH developer

Aplikace
| 2018 | Thermo Fisher Scientific
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Materiálová analýza

Dedicated axial or radial plasma view for superior speed and performance

Technické články
| 2012 | Agilent Technologies
ICP-OES
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření

High performance radio frequency generator technology for the Thermo Scientific iCAP 7000 Plus Series ICP-OES

Technické články
| 2017 | Thermo Fisher Scientific
ICP-OES
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření

Thermo Scientific iCAP 7000 Plus Series ICP-OES: Innovative ICP-OES optical design

Technické články
| 2017 | Thermo Fisher Scientific
ICP-OES
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření

Determination of Wear Metals in Lubricating Oil on The Liberty Series II ICP-OES With the Axially-Viewed Plasma

Aplikace
| 2010 | Agilent Technologies
ICP-OES
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie

Economical Carbon Enhanced Plasma Ionization: Substituting Acetic Acid with Carbon Dioxide

Aplikace
| 2024 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Potraviny a zemědělství

WCPS: Fundamental Studies of a Nitrogen Microwave Plasma for Analytical Emission Spectroscopy

Postery
| 2017 | Agilent Technologies
GD/MP/ICP-AES
Instrumentace
GD/MP/ICP-AES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření

PLASMA ROBUSTNESS IN ICP-MS BENEFITS OF A LOW CeO/Ce RATIO

Ostatní
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
FacebookLinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.