WCPS: Analysis of Metal Impurities in Pharmaceutical Ingredients in Preparation for the New USP Methods
Postery
| 2011 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
WCPS: Validating ICP-MS Using USP<232>/<233> for Elemental Impurity Analysis in Pharmaceutical Products
Postery
| 2012 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
Elemental Impurities in Aspirin: USP <232>/<233> and ICH Q3D Methods Using ICP-OES
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/OES
Instrumentace
ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1)
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
Validating the Agilent 7700x/7800 ICP-MS for the determination of elemental impurities in pharmaceutical ingredients according to draft USP general chapters <232>/<233>
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Proposed new ICH and USP methods for elemental impurities: The application of ICP-MS and ICP-OES for pharmaceutical analysis
Technické články
| 2014 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/OES
Instrumentace
ICP/MS, ICP/OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
Před
1
Další
Mohlo by Vás zajímat
Představení nového ICP‑MS 7900: jedinečná technologie a výkon
Út, 28.5.2024
Altium International
Najděte svou vysněnou práci v analytické chemii s LabRulez KARIÉRA!