ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900

Příručky | 2022 | Agilent TechnologiesInstrumentace
GC, HPLC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Zaměření
Životní prostředí, Potraviny a zemědělství, Průmysl a chemie, Farmaceutická analýza, Materiálová analýza, Polovodiče, Klinická analýza
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific

Souhrn

Význam tématu


Triple kvadrupólová ICP-MS technika (ICP-QQQ) je klíčová pro spolehlivou analýzu stopových prvků na úrovni pg/L v ultrapure vodách a vysoce čistých chemikáliích používaných v polovodičovém průmyslu. Díky dvojitému výběru hmotnosti (MS/MS) a řízené chemii v reakčním článku tato metoda účinně odstraňuje široké spektrum spektrálních interferencí z polyatomárních i izobarických zdrojů.

Cíle a přehled studie


Hlavním cílem bylo demonstrovat schopnost Agilent 8800/8900 ICP-QQQ stanovit stopové kovy a vybrané nekovy (P, S, Si, Cl) v klíčových półwických matricích: ultrapure voda, vysoce čistý H₂O₂, HNO₃ a HCl, bez potřeby předúprav vzorku. Studie zahrnovala:
  • Analýzu 26 SEMI prvků v ultrapure vodě (UPW).
  • Ultratrace stanovení prvků v 35% H₂O₂ a automatizaci přípravy vzorků pomocí prepFAST S.
  • Detekci Ca a K v UPW při ppq úrovni pozadí.
  • Stanovení P, S, Si, Cl pomocí O₂ a H₂ režimů v UPW a H₂O₂.
  • Analýzu stopových kontaminantů v 68% HNO₃ a 20% HCl.

Použitá metodika a instrumentace


Analýzy byly provedeny na ICP-QQQ Agilent 8800 nebo 8900 (semiconductor configuration) vybaveném:
  • PFA nebulizérem a quartzovou sprejovou komorou.
  • Octopole Reaction System (ORS4) s dvojitým kvadrupólem (Q1, Q2).
  • Možností volby plynů He, H₂, O₂, NH₃ a režimů chlazené/plné plazmy.
  • Volitelnou instrumentací prepFAST S pro automatizovanou přípravu vzorků a standardní přídavky (MSA).

Pro kvantifikaci byl použit Metoda standardních přídatků (MSA) s následnou konverzí na externí kalibraci pro vzorky téže matice.

Hlavní výsledky a diskuse


  • Upřesnění pozadí (BEC) 26 SEMI prvků v UPW: většina <0,5 ppt, B a Li v ppq úrovni.
  • Automatizovaná analýza 35% H₂O₂: DL a BEC <0,3 ppt pro 25 prvků, B <1,2 ppt.
  • Ca a K v UPW detekovány pod 50 ppq použitím MS/MS + H₂ nebo NH₃ modulů.
  • P, S, Si, Cl v UPW/H₂O₂ stanoveny v režimu mass-shift (O₂, H₂), DL od jednotek do desítek ppt.
  • Ultratrace kovové nečistoty ve 68% HNO₃ a 20% HCl bez ředění: všechny SEMI prvky pod 1 ppt, obtížné matriční Cu, As, Ge <10 ppt.

Přínosy a praktické využití metody


ICP-QQQ umožňuje:
  • Bezpřepsovou analýzu vysoce čistých reagencií bez složité předúpravy.
  • Univerzální multifunkční provoz: chlazená vs. horká plazma, režimy on-mass i mass-shift.
  • Maximálně nízké detekční limity vhodné pro kontrolu kvality v čistých provozech fabs.
  • Automatizaci a vyšší throughput s minimem rizika kontaminace.

Budoucí trendy a možnosti využití


  • Rozšíření MS/MS režimů pro speciační a nanopartiklové aplikace (spICP-QQQ).
  • Využití ultra rychlých detektorů pro analýzu transientních signálů při laserové ablaci.
  • Implementace ICP-QQQ do klinických a environmentálních analýz s vysokou specifičností a citlivostí.

Závěr


Agilent ICP-QQQ (8800/8900) představuje průlom v analýze stopových prvků ve vysoce čistých chemikáliích. Díky řízené chemii v reakčním článku MS/MS, pokročilým režimům plazmy a flexibilní volbě plynů lze dosáhnout BEC a DL na úrovni ppq–ppt ve složitých polovi­vodičových matricích bez nutnosti komplikované předúpravy vzorků.

Reference


  • ASTM D5127-13, Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries.
  • SEMI C30-1110, Specifications for Hydrogen Peroxide.
  • SEMI F63-0521, Guide for Ultrapure Water Used in Semiconductor Processing.
  • Agilent Application Notes: 5991-7701EN, 5991-6852EN, 5991-5372EN, 5990-7354EN.
  • Yamanaka et al., Analyses of Ultratrace Elements in High Purity Reagents by ICP-QQQ.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
ICP-QQQ Applications in Geochemistry, Mineral Analysis, and Nuclear Science
Applications of ICP-MS ICP-QQQ Applications in Geochemistry, Mineral Analysis, and Nuclear Science Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Explore New Opportunities in Geochemistry, Mineral Analysis, and Nuclear Science With the Agilent 8900 ICP-QQQ Agilent…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpree, reeqqq, qqqmass, masscps, cpscell, cellgas, gasybo, yboshift, shiftwwtp, wwtprare, rareelement
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Application Note Semiconductor Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS Analysis of dissolved and particulate inorganic impurities in two grades of NMP using the Agilent 8900 ICP-QQQ Author Introduction Yoshinori Shimamura Ideally, analytical quality control (QC) testing procedures…
Klíčová slova
nmp, nmpppt, pptgrade, gradeicp, icpparticle, particleconc, concnanoparticle, nanoparticlesemiconductor, semiconductorgrades, gradeselements, elementsimpurities, impuritiesgas, gasnps, npsindustry, industryfabs
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Application Note Semiconductor Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ Authors Kazuo Yamanaka and Kazuhiro Sakai Agilent Technologies, Japan Introduction Hydrochloric acid (HCl) is a component of the standard RCA cleaning process used to remove…
Klíčová slova
icp, icpgas, gashcl, hclqqq, qqqqms, qmscrc, crchydrochloric, hydrochloricions, ionsbecs, becspurity, puritycool, coolimpurities, impuritiesmode, modeomega, omegadetermination
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.