ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900

Příručky | 2022 | Agilent TechnologiesInstrumentace
GC, HPLC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Zaměření
Životní prostředí, Potraviny a zemědělství, Průmysl a chemie, Farmaceutická analýza, Materiálová analýza, Polovodiče, Klinická analýza
Výrobce
Agilent Technologies, Elemental Scientific
Klíčová slova
PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Applications of ICP-MS ICP-QQQ Applications in Geochemistry, Mineral Analysis, and Nuclear Science Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Explore New Opportunities in Geochemistry, Mineral Analysis, and Nuclear Science With the Agilent 8900 ICP-QQQ Agilent…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpree, reeqqq, qqqmass, masscps, cpscell, cellgas, gasybo, yboshift, shiftrare, rareelement, elementwwtp
Application Note Semiconductor Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS Analysis of dissolved and particulate inorganic impurities in two grades of NMP using the Agilent 8900 ICP-QQQ Author Introduction Yoshinori Shimamura Ideally, analytical quality control (QC) testing procedures…
Klíčová slova
nmp, nmpppt, pptgrade, gradeicp, icpparticle, particlenanoparticle, nanoparticleconc, concsemiconductor, semiconductorgrades, gradeselements, elementsimpurities, impuritiesgas, gasfabs, fabsnps, npsindustry
Application Note Semiconductor Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ Authors Kazuo Yamanaka and Kazuhiro Sakai Agilent Technologies, Japan Introduction Hydrochloric acid (HCl) is a component of the standard RCA cleaning process used to remove…
Klíčová slova
icp, icpgas, gashcl, hclqqq, qqqqms, qmscrc, crchydrochloric, hydrochloricions, ionspurity, puritycool, coolbecs, becsimpurities, impuritiesmode, modeomega, omegadls
Další projekty
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.