ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS brochure

Brožury a specifikace | 2024 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Ostatní
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Odstranění hmotnostních interferencí je klíčovou výzvou v analýze stopových prvků metodou ICP-MS. Tradiční kvadrupólové systémy často nedokážou eliminovat polyatomární ani izobarické překryvy, což omezuje přesnost a citlivost měření. Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS s MS/MS režimem přináší schopnost selektivního výběru iontů, řízené reakční chemie a dvojitého kvadrupólu, čímž dramaticky zlepšuje spolehlivost výsledků.

Cíle a přehled studie / článku


Článek představuje druhou generaci systému Agilent 8900 ICP-QQQ a popisuje jeho výhody oproti jednovadným ICP-MS přístrojům. Hlavním cílem je ukázat, jak MS/MS režim rozšiřuje analytické možnosti ve výzkumu i rutinní praxi: od stanovení ultratrace Si a S přes geochronologii až po charakterizaci nanočástic.

Použitá metodika a instrumentace


MS/MS princip spočívá v následujících krocích:
  • První kvadrupól (Q1) selektuje pouze ionty požadované hmotnosti a blokuje všechny nežádoucí složky.
  • Reakční buňka ORS4 s řízenou atmosférou (He, O2, NH3) odstraňuje polyatomární a izobarické interference.
  • Druhý kvadrupól (Q2) propouští čisté ionty analytu nebo jeho produktů reakce do detektoru.

Klíčová instrumentace:
  • Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS
  • 27 MHz adaptivní RF generátor
  • Chlazený nízkoprůtokový vstřikovací systém s UHMI pro vysokou matricovou toleranci
  • Ultračisté trubice, Peltier chlazení, AVS MS a SPS 4 autosampler
  • Iontová optika (extrakční a Omega lens), konické Ni/Pt rozhraní a čtyřstupňové vakuum
  • MassHunter software s moduly IntelliQuant a Single Nanoparticle

Hlavní výsledky a diskuse


Detekční limity pod 10 ng/L pro Si a S v MS/MS režimu s O2 cell gas potvrzují mimořádnou citlivost. Přímým oddělením izobar (204Hg/204Pb, 176Hf/176Yb) lze dosáhnout přesných izotopových poměrů bez nutnosti vysokého rozlišení. Single-particle ICP-MS analýza pod 50 nm SiO2 nanopartikel demonstruje schopnost rychlého sledování a velikostní distribuce částic. UHMI systém umožňuje rutinní měření vzorků s až 25 % rozpuštěných látek.

Přínosy a praktické využití metody


Agilent 8900 ICP-QQQ nabízí:
  • Vysoce selektivní odstranění interferencí pomocí MS/MS
  • Detekční limity v řádu ng/L pro obtížně měřitelné prvky
  • Přesné geochronologické a jaderné aplikace díky odstranění izobarických překryvů
  • Rychlou a citlivou analýzu nanočástic a jednotlivých buněk
  • Vysokou matricovou toleranci a stabilitu ve složitých vzorcích

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další rozvoj MS/MS technik s pokročilou reakcí plyn–ion pro náročné izotopové aplikace, integrace s kapilárními separacemi (LC, CE, IC), rozšíření FFF pro detailní charakterizaci nanočástic, a implementace umělé inteligence pro automatické hodnocení kvality dat. Modularita softwaru a SDK umožní hladkou integraci nových periferií a rozšíření kapacit laboratoří.

Závěr


Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS s MS/MS režimem představuje univerzální platformu pro analytickou chemii, která zásadně posouvá hranice citlivosti a selektivity v rutinním i výzkumném provozu. Přístroj spojuje robustnost, vysokou produktivitu a flexibilitu pro široké spektrum aplikací od semikonců, životního prostředí až po nano- a biochemii.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Leave Interferences Behind With MS/MS
Leave Interferences Behind With MS/MS
2025|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Leave Interferences Behind With MS/MS Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Put Your ICP-MS Results Beyond Doubt Reliable interference removal is easier to achieve with the second generation Agilent 8900 ICP-QQQ. In 2012, Agilent released the Agilent 8800, the world’s first…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnanoparticle, nanoparticlecps, cpsions, ionsmasshunter, masshuntercell, cellparticle, particlesingle, singleinterferences, interferencesanalysis, analysisreaction, reactionconfigurations, configurationsagilent, agilentspeciation
Agilent ICP-MS Journal  (July 2016 – Issue 66)
Agilent ICP-MS Journal (July 2016 – Issue 66)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal July 2016 – Issue 66 Inside this Issue 2-3 The New Agilent 8900 ICP-QQQ Provides Improved Performance and Enhanced Flexibility 4 Building on the Success of the Innovative Agilent 8800 ICP-QQQ 5 Characterization of Nanoparticle Content…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnuclear, nuclearagilent, agilentapplications, applicationsnanoparticle, nanoparticleinterferences, interferencessensitivity, sensitivityperformance, performancesemiconductor, semiconductoruranium, uraniumnps, npsawards, awardstrace, tracereaction
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
2025|Agilent Technologies|Technické články
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Technical Overview Introduction Agilent is the worldwide market leader in quadrupole ICP-MS, and the only supplier of triple quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ). Introduced in 2012, ICP‑QQQ has transformed interference removal in ICP‑MS, using MS/MS to control…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqsensitivity, sensitivityacceleration, accelerationions, ionscell, celldls, dlsreaction, reactionquadrupole, quadrupoleapplications, applicationssemiconductor, semiconductorsignal, signalaxial, axialhigh, highnps
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.