ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Leave Interferences Behind With MS/MS

Brožury a specifikace | 2025 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Efektivní odstraňování interferencí je základním předpokladem pro přesné a reprodukovatelné výsledky v ICP-MS analýzách. Použití technologie třetího kvadrupólu s MS/MS umožňuje selektivní potlačení nežádoucích signálů a rozšíření oblastí aplikací od polovodičového průmyslu až po environmentální a biochemické analýzy.

Cíle a přehled studie / článku


Cílem článku je prezentovat schopnosti Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS s MS/MS ve druhé generaci a demonstrovat jeho výhody v řadě analytických aplikací. Studie ukazuje dosažené limity detekce, efektivitu rozlišení izobarických překryvů, schopnost analýzy nanopartikelů a odolnost vůči vysokému obsahu matice.

Použitá metodika a instrumentace


Popisovaná metoda využívá ICP-QQQ s dvěma kvadrupóly (Q1 a Q2) a středovou reaktorovou zónou ORS4 pro řízenou reakční chemii. Klíčové komponenty:
  • Peltierem chlazený vstřikovač vzorku a Advanced Valve System pro rychlé diskrétní vzorkování
  • Ultra High Matrix Introduction (UHMI) pro toleranci až 25 % TDS
  • Čtyřkanálová regulace plynů, 27 MHz RF generátor a STS plazmový hořák
  • Ni nebo Pt konické membrány, iontový kompresor a výkonný čtyřstupňový vakuový systém
  • Detektor elektronového multiplikátoru s dynamickým rozsahem 11 řádů
  • Software Agilent ICP-MS MassHunter s IntelliQuant a moduly pro analýzu nanopartiklí a speciační techniky

Hlavní výsledky a diskuse


  • Limity detekce pod 10 ng/L pro Si a pod 5,5 ng/L pro S v MS/MS režimu s O₂
  • Rozlišení izobarických překryvů (204Hg/204Pb, 176Hf/176Lu/Yb) selektivní reaktivní chemií
  • Charakterizace 50 nm SiO₂ nanopartiklí s jednočásticovou ICP-MS, včetně rozlišení od pozadí
  • Stabilní plazmový provoz a potlačení matice i ve vzorcích s vysokým obsahem rozpuštěných pevných látek

Přínosy a praktické využití metody


  • Spolehlivá ultratrace analýza v polovodičovém, environmentálním, potravinářském i biopharmaceutickém průmyslu
  • Integrované speciační přístupy (LC, GC, CE, IC, FFF) pro cílené stanovení S, P, Cl a organických látek
  • Pokročilá jednočásticová a jednobuněčná analýza nano a biomateriálů
  • Automatizace procesů díky vzorkovačům, dilučním systémům a intuitivnímu softwaru

Budoucí trendy a možnosti využití


Tato technologie otevírá cestu k novým aplikacím v geochronologii, jaderné chemii a materiálovém výzkumu. Očekává se rozšíření použití v jednobuněčných proteomických studiích, mapování elementární distribuce v tkáních a kombinace s umělou inteligencí pro pokročilou analýzu dat.

Závěr


Agilent 8900 ICP-QQQ s MS/MS přináší vysokou selektivitu, nízké limity detekce a široké spektrum aplikací. Modulární konstrukce a snadná automatizace umožňují efektivní provoz a otevírají nové analytické horizonty.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS brochure
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS brochure
2024|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Leave Interferences Behind With MS/MS. Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Put Your ICP-MS Results Beyond Doubt Reliable interference removal is easier to achieve with the 2nd generation Agilent 8900 ICP-QQQ. In 2012, Agilent released the Agilent 8800, the world’s first…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnanoparticle, nanoparticlecps, cpsions, ionsmasshunter, masshuntercell, cellparticle, particlesingle, singleagilent, agilentanalysis, analysisintegrated, integratedreaction, reactioninterferences, interferencesspeciation
Agilent ICP-MS Journal  (July 2016 – Issue 66)
Agilent ICP-MS Journal (July 2016 – Issue 66)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal July 2016 – Issue 66 Inside this Issue 2-3 The New Agilent 8900 ICP-QQQ Provides Improved Performance and Enhanced Flexibility 4 Building on the Success of the Innovative Agilent 8800 ICP-QQQ 5 Characterization of Nanoparticle Content…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnuclear, nuclearagilent, agilentapplications, applicationsnanoparticle, nanoparticleinterferences, interferencessensitivity, sensitivityperformance, performancesemiconductor, semiconductoruranium, uraniumnps, npsawards, awardstrace, tracereaction
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
2025|Agilent Technologies|Technické články
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Technical Overview Introduction Agilent is the worldwide market leader in quadrupole ICP-MS, and the only supplier of triple quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ). Introduced in 2012, ICP‑QQQ has transformed interference removal in ICP‑MS, using MS/MS to control…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqsensitivity, sensitivityacceleration, accelerationions, ionscell, celldls, dlsreaction, reactionquadrupole, quadrupoleapplications, applicationssemiconductor, semiconductorsignal, signalaxial, axialhigh, highnps
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.