Leave Interferences Behind With MS/MS
Brožury a specifikace | 2025 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Efektivní odstraňování interferencí je základním předpokladem pro přesné a reprodukovatelné výsledky v ICP-MS analýzách. Použití technologie třetího kvadrupólu s MS/MS umožňuje selektivní potlačení nežádoucích signálů a rozšíření oblastí aplikací od polovodičového průmyslu až po environmentální a biochemické analýzy.
Cílem článku je prezentovat schopnosti Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS s MS/MS ve druhé generaci a demonstrovat jeho výhody v řadě analytických aplikací. Studie ukazuje dosažené limity detekce, efektivitu rozlišení izobarických překryvů, schopnost analýzy nanopartikelů a odolnost vůči vysokému obsahu matice.
Popisovaná metoda využívá ICP-QQQ s dvěma kvadrupóly (Q1 a Q2) a středovou reaktorovou zónou ORS4 pro řízenou reakční chemii. Klíčové komponenty:
Tato technologie otevírá cestu k novým aplikacím v geochronologii, jaderné chemii a materiálovém výzkumu. Očekává se rozšíření použití v jednobuněčných proteomických studiích, mapování elementární distribuce v tkáních a kombinace s umělou inteligencí pro pokročilou analýzu dat.
Agilent 8900 ICP-QQQ s MS/MS přináší vysokou selektivitu, nízké limity detekce a široké spektrum aplikací. Modulární konstrukce a snadná automatizace umožňují efektivní provoz a otevírají nové analytické horizonty.
ICP/MS, ICP/MS/MS
ZaměřeníVýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Efektivní odstraňování interferencí je základním předpokladem pro přesné a reprodukovatelné výsledky v ICP-MS analýzách. Použití technologie třetího kvadrupólu s MS/MS umožňuje selektivní potlačení nežádoucích signálů a rozšíření oblastí aplikací od polovodičového průmyslu až po environmentální a biochemické analýzy.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem článku je prezentovat schopnosti Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS s MS/MS ve druhé generaci a demonstrovat jeho výhody v řadě analytických aplikací. Studie ukazuje dosažené limity detekce, efektivitu rozlišení izobarických překryvů, schopnost analýzy nanopartikelů a odolnost vůči vysokému obsahu matice.
Použitá metodika a instrumentace
Popisovaná metoda využívá ICP-QQQ s dvěma kvadrupóly (Q1 a Q2) a středovou reaktorovou zónou ORS4 pro řízenou reakční chemii. Klíčové komponenty:
- Peltierem chlazený vstřikovač vzorku a Advanced Valve System pro rychlé diskrétní vzorkování
- Ultra High Matrix Introduction (UHMI) pro toleranci až 25 % TDS
- Čtyřkanálová regulace plynů, 27 MHz RF generátor a STS plazmový hořák
- Ni nebo Pt konické membrány, iontový kompresor a výkonný čtyřstupňový vakuový systém
- Detektor elektronového multiplikátoru s dynamickým rozsahem 11 řádů
- Software Agilent ICP-MS MassHunter s IntelliQuant a moduly pro analýzu nanopartiklí a speciační techniky
Hlavní výsledky a diskuse
- Limity detekce pod 10 ng/L pro Si a pod 5,5 ng/L pro S v MS/MS režimu s O₂
- Rozlišení izobarických překryvů (204Hg/204Pb, 176Hf/176Lu/Yb) selektivní reaktivní chemií
- Charakterizace 50 nm SiO₂ nanopartiklí s jednočásticovou ICP-MS, včetně rozlišení od pozadí
- Stabilní plazmový provoz a potlačení matice i ve vzorcích s vysokým obsahem rozpuštěných pevných látek
Přínosy a praktické využití metody
- Spolehlivá ultratrace analýza v polovodičovém, environmentálním, potravinářském i biopharmaceutickém průmyslu
- Integrované speciační přístupy (LC, GC, CE, IC, FFF) pro cílené stanovení S, P, Cl a organických látek
- Pokročilá jednočásticová a jednobuněčná analýza nano a biomateriálů
- Automatizace procesů díky vzorkovačům, dilučním systémům a intuitivnímu softwaru
Budoucí trendy a možnosti využití
Tato technologie otevírá cestu k novým aplikacím v geochronologii, jaderné chemii a materiálovém výzkumu. Očekává se rozšíření použití v jednobuněčných proteomických studiích, mapování elementární distribuce v tkáních a kombinace s umělou inteligencí pro pokročilou analýzu dat.
Závěr
Agilent 8900 ICP-QQQ s MS/MS přináší vysokou selektivitu, nízké limity detekce a široké spektrum aplikací. Modulární konstrukce a snadná automatizace umožňují efektivní provoz a otevírají nové analytické horizonty.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS brochure
2024|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Leave Interferences Behind With MS/MS. Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Put Your ICP-MS Results Beyond Doubt Reliable interference removal is easier to achieve with the 2nd generation Agilent 8900 ICP-QQQ. In 2012, Agilent released the Agilent 8800, the world’s first…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnanoparticle, nanoparticlecps, cpsions, ionsmasshunter, masshuntercell, cellparticle, particlesingle, singleagilent, agilentanalysis, analysisintegrated, integratedreaction, reactioninterferences, interferencesspeciation
Agilent ICP-MS Journal (July 2016 – Issue 66)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal July 2016 – Issue 66 Inside this Issue 2-3 The New Agilent 8900 ICP-QQQ Provides Improved Performance and Enhanced Flexibility 4 Building on the Success of the Innovative Agilent 8800 ICP-QQQ 5 Characterization of Nanoparticle Content…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnuclear, nuclearagilent, agilentapplications, applicationsnanoparticle, nanoparticleinterferences, interferencessensitivity, sensitivityperformance, performancesemiconductor, semiconductoruranium, uraniumnps, npsawards, awardstrace, tracereaction
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
2025|Agilent Technologies|Technické články
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Technical Overview Introduction Agilent is the worldwide market leader in quadrupole ICP-MS, and the only supplier of triple quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ). Introduced in 2012, ICP‑QQQ has transformed interference removal in ICP‑MS, using MS/MS to control…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqsensitivity, sensitivityacceleration, accelerationions, ionscell, celldls, dlsreaction, reactionquadrupole, quadrupoleapplications, applicationssemiconductor, semiconductorsignal, signalaxial, axialhigh, highnps
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode