ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Validating the Agilent 7700x/7800 ICP-MS for the determination of elemental impurities in pharmaceutical ingredients according to draft USP general chapters <232>/<233>

Aplikace | 2015 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS
Zaměření
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Nové obecné kapitoly USP <232> a <233> přinášejí přísné limity pro elementární nečistoty ve farmaceutických produktech a surovinách. Cílem je chránit pacienty před toxickými kovy a zajistit standardizovanou metodiku přípravy vzorku i analýzy s dostatečnou citlivostí a specifickým rozlišením analytů.

Cíle a přehled studie


Autoři validovali Agilent 7700x ICP-MS pro stanovení 16 prvků (As, Cd, Hg, Pb, V, Cr, Ni, Mo, Mn, Cu, Pt, Pd, Ru, Rh, Os, Ir) ve vzorcích želatinových kapslí podle návrhu USP <232>/<233>. Cílem bylo prokázat shodu s požadavky na přesnost, opakovatelnost, detekovatelnost a specifickou identifikaci analyzovaných prvků.

Použitá metodika a instrumentace


Uzavřená mikrovlnná digesce vzorků v roztoku 2% HNO3/0,5% HCl/ H2O2 pomocí Milestone Ethos (10 pozic, 150 °C, 1200 W). Stabilizace těkavých či mastných prvků (Hg, PGEs) přidáním HCl. Analýza na Agilent 7700x ICP-MS:
  • Micromist nefelometrická tryska, spray chamber 2 °C
  • ORS3 v režimu kolize s heliem (4 mL/min)
  • RF výkon 1550 W, nosný plyn 0,95 L/min, KED 4 V

Hlavní výsledky a diskuse


  • Detekční limity (MDL) v rozsahu desítek ng/L, výrazně pod limity USP.
  • Drift a stabilita metody: RSD <3 % a celkový drift <7,5 % během 7hodinové sekvence.
  • Validační testy limitní procedury: přesnost 99–107 %, RSD <2,5 %.
  • Kvantitativní procedura: spike recovery 103–116 % (0,5J až 1,5J), RSD <3 %.
  • Ruggedness: mezi-denní srovnání <10 % rozdíl.
  • Specifičnost potvrzena analýzou sekundárních izotopů a celospektrálním screeningem.

Přínosy a praktické využití metody


Metoda umožňuje farmaceutickým laboratořím splnit požadavky USP <232>/<233> na kontrolu elementárních nečistot, automatizovat system suitability testy a flexibilně reagovat na různé matriční interferenty. Jedna platforma ICP-MS pokryje všechny regulované prvky s vysokou citlivostí a spolehlivostí.

Budoucí trendy a možnosti využití


  • Aktualizace limitů a rozšíření seznamu analyzovaných prvků podle nových farmakopeálních norem.
  • Integrace chromatografických technik (HPLC/GC) pro speciační analýzy As a Hg.
  • Aplikace pro kontrolu doplňků stravy (USP <2232>) a v dalších průmyslových odvětvích.
  • Zavádění plně automatizovaných workflow a pokročilé datové analýzy pro vyšší efektivitu laboratoří.

Závěr


Agilent 7700x ICP-MS ve spojení s uzavřenou mikrovlnnou digescí a heliovým kolizním režimem je validovanou metodou splňující požadavky návrhu USP <232>/<233>. Poskytuje rychlou, citlivou a reprodukovatelnou analýzu elementárních nečistot ve farmaceutických vzorcích.

Reference


  • Elemental Impurities — Limits, Pharm. Forum 37(3), Chapter 232 (2011).
  • Elemental Impurities — Procedures, Pharm. Forum 37(3), Chapter 233 (2011).
  • A. Liba, E. McCurdy: Nové kapitoly USP <232>/<233>: ICP-MS pro farmacii, Agilent 5990-9382EN (2011).
  • E. McCurdy, G. Woods: J. Anal. At. Spectrom. 19, 607–615 (2004).
  • S. Wilbur, E. McCurdy: Spectroscopy 25(5), 2–7 (2010).
  • Elemental Impurities — Dietary Supplements, Pharm. Forum 36(1), Chapter 2232 (2010).

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1)
Application Note Pharmaceuticals Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1) Reducing the time and expense of ICP-MS method development and system validation for measuring elemental impurities in pharmaceuticals Authors Lindsey Whitecotton, Ed McCurdy, Craig Jones…
Klíčová slova
pde, pdeelemental, elementalpharmaceutical, pharmaceuticalicp, icpelements, elementsspike, spikepdes, pdesich, ichelement, elementmean, meanprocedures, proceduresimpurities, impuritiesday, daylimits, limitsoral
WCPS: Validating ICP-MS Using USP<232>/<233> for Elemental Impurity Analysis in Pharmaceutical Products
Validating ICP-MS Using USP<232>/<233> for Elemental Impurity Analysis in Pharmaceutical Products Ed McCurdy1, Amir Liba1, Samina Hussain2. 1: Agilent Technologies Inc., Santa Clara, CA, USA. 2: Exova, Santa Fe Springs, CA, USA Winter Conference on Plasma Spectrochemistry, 2012 ThP43 Introduction…
Klíčová slova
ppb, ppbicp, icpsolvents, solventsactual, actualdigestion, digestionrotor, rotorpharmaceutical, pharmaceuticaldilution, dilutionionized, ionizedplasma, plasmahcl, hclcell, celldrift, driftrecovery, recoveryorganic
Analysis of Artificial Tear Eye Drops For Elemental Impurities
Application Note Pharma & Biopharma Analysis of Artificial Tear Eye Drops For Elemental Impurities Using an ICP-MS and USP <232>/<233> and ICH Q3D(R2)/Q2(R1) protocols. Authors Jennifer Sanderson and Lindsey Whitecotton Agilent Technologies, Inc. Introduction As pharmaceutical products are released to…
Klíčová slova
pde, pdeppb, ppbday, dayratio, ratioelement, elementconcentration, concentrationtear, tearelemental, elementalelements, elementsdaily, dailyeye, eyedrops, dropsruggedness, ruggednessspike, spikeartificial
Validation of quantitative method for determination of elemental impurities in pharmaceutical products following USP 232/233 on ICPMS-2030
Application News No. AD-0189 Elemental Analysis: ICPMS-2030 Validation of quantitative method for determination of elemental impurities in pharmaceutical products following USP 232/233 on ICPMS-2030 Raymond Li , Zhaoqi Zhan Overview The 24 elemental impurities defined in USP<232> in three generic…
Klíčová slova
pde, pdeintensity, intensityoral, oralelemental, elementalimpurities, impuritiesconcentration, concentrationdigestion, digestionmicrowave, microwavenews, newsvessel, vesselmethod, methodchamber, chamberproducts, productselement, elementloq
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.