Proposed new ICH and USP methods for elemental impurities: The application of ICP-MS and ICP-OES for pharmaceutical analysis
Technické články | 2014 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP-OES
ZaměřeníFarmaceutická analýza
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Kontrola prvkových nečistôt v farmaceutických produktoch je zásadná pre ochranu zdravia pacientov, zabezpečenie stability liekov a splnenie medzinárodných regulačných požiadaviek. Prvkové nečistoty môžu byť prítomné v surovinách, medziproduktoch, excipientoch aj vo finálnych dávkových formách. Staršia farbimetrická metóda USP<231> sa ukázala ako nedostatočne citlivá a nešpecifická, čo viedlo k vzniku nových dokumentov ICH Q3D a USP<232>/<233>, ktoré zavádzajú moderné prístupy na presnú kvantifikáciu jednotlivých prvkov a speciačnú analýzu tam, kde je to potrebné.Cíle a přehled studie / článku
Cieľom white paperu je predstaviť návrh nových generálnych kapitol USP<232> (Limity) a USP<233> (Postupy) spolu s ICH Q3D Guidelines for Elemental Impurities. Dokumenty rozširujú zoznam analyzovaných prvkov, sprísňujú denné expozičné limity podľa toxicity a zavádzajú uzavretú mikrovlnnú digesciu vzoriek a moderné multielementové metódy ICP-MS a ICP-OES. Autori popisujú, ako spektrometre Agilent 7900 ICP-MS a 5100 ICP-OES spĺňajú požiadavky týchto nových postupov.Použitá metodika a instrumentace
Nové metódy vychádzajú z toxikologických údajov a definujú Permitted Daily Exposure (PDE) pre jednotlivé prvky (As, Cd, Hg, Pb a ďalších 11 prvkov) rozdelených do štyroch tried podľa toxicity. Koncentrácie vo vzorkách sa prepočítavajú na µg/g v závislosti od maximálnej dennodennej dávky lieku. Vzorky sa väčšinou pripravujú uzavretou mikrovlnnou digesciou s kyselinami alebo jednoduchou dilúciou/rozpustením, pričom sú dôležité stabilizačné činidlá (napr. HCl pre Hg a platinné prvky). Metódy vyžadujú overenie detekovateľnosti, opakovateľnosti, špecifickosti a pri kvantitatívnej analýze aj presnosti a robustnosti.Použitá instrumentace
- Agilent 7900 ICP-MS s ORS4 v He režime pre elimináciu polyatomických interferencií (napr. ArCl, ClO), ultraširokým dynamickým rozsahom (11 dekád) a detekčnými limitmi v ppt úrovni.
- Peltierom chladená rozprašovacia komora a voliteľný Ultra High Matrix Introduction (UHMI) systém pre vysokú odolnosť voči maticám s vysokým obsahom soli.
- Agilent 5100 ICP-OES s axiálnym plameňom pre vysokú citlivosť, CCD detektorom pre súbežné meranie viacero vĺn a možnosťou internej verifikácie koncentrácií na primárnych a sekundárnych emisných čiarach.
- Softvér Agilent OpenLAB Data Store / ECM a Spectroscopy Database Administrator (SDA) pre zabezpečenie 21 CFR Part 11 a EU Annex 11 compliance, User Access Control a archiváciu elektronických záznamov.
Hlavní výsledky a diskuse
Testy s vysokými koncentráciami chloridov (1 % HNO3 / 0,5 % HCl) potvrdili, že He-mode na 7900 ICP-MS znižuje background equivalent concentration (BEC) pre V z 2,49 µg/L na 0,023 µg/L a pre As z 2,55 µg/L na 0,005 µg/L. Detekčné limity v He-mode sú pre všetky regulované prvky < 0,02 µg/L. Dynamický rozsah a citlivosť ICP-MS umožňujú pri 250× dilúcii (0,2 g vzorky na 50 mL) spoľahlivo merať prvky na úrovni J-hodnôt definovaných v USP<232> a ICH Q3D, vrátane Hg a PGEs. 5100 ICP-OES preukázal stabilitu signálu < 2,4 % RSD počas 4 h a presné overenie koncentrácií na dvoch emisných čiarach Cd (214,439 nm a 226,502 nm).Přínosy a praktické využití metody
- Nahradenie subjektívnej farbimetrie metódou s vysoko presnou multielementovou detekciou.
- Zabezpečenie dodržania medzinárodných noriem (ICH Q3D, USP<232>/<233>, EMA) pre orálne, parenterálne aj inhalované formy.
- Možnosť kontroly prvkových nečistôt v surovinách, medziproduktoch, API a finálnych dávkových formách.
- Podpora princípov Quality by Design v farmaceutickej výrobe a validácia výrobných procesov.
- Zníženie rizika strata prchavých prvkov počas vzorkovania vďaka uzavretej mikrovlnnej digescii.
Budoucí trendy a možnosti využití
Metódy špecifikácie prvkového speciačného zloženia sa budú ďalej rozvíjať pre organické a anorganické formy toxických prvkov (napr. metyl-ortuť). Očakáva sa širšie aplikovanie hyphenovaných techník HPLC–ICP-MS pre separáciu foriem a štandardizácia rýchlych screeningových režimov pre kontrolu kvality v reálnom čase. Vývoj automatizovaných pracovných postupov a vyššieho stupňa integrácie s LIMS zlepší produktivitu a zaručí traceabilitu dát vo farmaceutických laboratóriách.Závěr
Nové generálne kapitoly ICH Q3D a USP<232>/<233> prinášajú moderné, robustné a spoľahlivé prístupy na analýzu prvkových nečistôt, čím nahrádzajú zastaralý farbimetrický test USP<231>. Agilent 7900 ICP-MS a 5100 ICP-OES poskytujú technickú a regulačnú podporu pre implementáciu týchto kapitol v farmaceutickej praxi, a to vrátane compliantného softvérového riešenia a overenia výkonu prístrojov.Reference
- Blake KB. Harmonization of the USP, EP and JP heavy metals testing procedures. Pharm Forum. 1995;21(6):1632–1637.
- Ciciarelli R, Jäkel D, König E, Müller-Käfer R, Röck M, Thevenin M, Ludwig H. Pharm Forum. 1995;21(6):1638–1640.
- Lewen N, Mathew S, Schenkenberger M, Raglione T. J Pharm Biomed Anal. 2004;35(4):739–752.
- Wang T, Wu J, Hartman R, Jia X, Egan RS. J Pharm Biomed Anal. 2000;23(5):867–890.
- United States Pharmacopeia. Elemental Impurities–Limits. Pharm Forum. 2013;40(2).
- International Conference on Harmonisation. Draft Guideline for Elemental Impurities Q3D Step 2b. 2013.
- United States Pharmacopeia. Elemental Impurities–Procedures. Pharm Forum. 2013;40(2).
- Al-Ammar AS, Northington J. J Anal At Spectrom. 2011;26:1531–1533.
- Jackson SE, Fryer BJ, Gosse W, Healey DC, Longerich HP, Strong DF. Chem Geol. 1990;83:119–132.
- Frimpong A, Fryer BJ, Longerich HP, Chen Z, Jackson SE. Analyst. 1995;120:1675–1680.
- Lira S, Brush P, Senak L, Wu C, Malawer E. Pharm Forum. 2008;34(6):1613–1618.
- McCurdy E, Woods G. J Anal At Spectrom. 2004;19:607–615.
- Wilbur S, McCurdy E. Spectroscopy. 2010;25(5):2–7.
- Hussain S, Liba A, McCurdy E. Validating the Agilent 7700x ICP-MS for elemental impurities in pharmaceuticals. Application note. Agilent Technologies. 2011.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-MS Solution
2021|Agilent Technologies|Technické články
White Paper USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-MS Solution Elemental Impurity Analysis Requirements Worldwide, regulatory authorities are responsible for ensuring that pharmaceutical products are both effective and safe. Potentially toxic and harmful contaminants—including elemental impurities—must…
Klíčová slova
icp, icpelemental, elementalich, ichagilent, agilentpde, pdeusp, uspelements, elementslimits, limitspharmaceutical, pharmaceuticaldilution, dilutionimpurities, impuritiesmasshunter, masshunterdrug, drugdaily, dailysoftware
USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-OES Solution
2021|Agilent Technologies|Technické články
White Paper USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-OES Solution Elemental Impurity Analysis Requirements Worldwide, regulatory authorities are responsible for ensuring that pharmaceutical products are both effective and safe. To achieve this, potentially harmful contaminants—including elemental…
Klíčová slova
icp, icpoes, oeselemental, elementalpde, pdeich, ichagilent, agilentusp, uspdrug, drugelements, elementsinorganic, inorganicpharmaceutical, pharmaceuticalimpurities, impuritiesrecords, recordsspeciation, speciationoral
Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1)
2022|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Pharmaceuticals Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1) Reducing the time and expense of ICP-MS method development and system validation for measuring elemental impurities in pharmaceuticals Authors Lindsey Whitecotton, Ed McCurdy, Craig Jones…
Klíčová slova
pde, pdeelemental, elementalpharmaceutical, pharmaceuticalelements, elementsicp, icpspike, spikeich, ichpdes, pdeselement, elementmean, meanprocedures, proceduresimpurities, impuritiesday, dayoral, orallimits
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials
2022|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials Agilent Atomic Spectroscopy Solutions USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1) Implementing Elemental Impurities Tests in the Pharmaceutical Industry Worldwide regulations for pharmaceutical materials Worldwide pharmacopeias have introduced revised standards for controlling elemental impurities in drug…
Klíčová slova
qualification, qualificationpde, pdeelemental, elementalimpurities, impuritiesyou, youcrosslab, crosslabyour, youragilent, agilentparenteral, parenteralcompliance, compliancecrms, crmssoftware, softwareich, ichhave, haveinhalational