ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-OES Solution

Technické články | 2021 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Software, ICP-OES
Zaměření
Farmaceutická analýza
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Moderní farmaceutické výrobky musí splňovat přísné limity pro stopové nežádoucí prvky, aby byla zajištěna bezpečnost a účinnost léčiv. Harmonizované požadavky ICH Q3D a USP<232>/<233> definují povolené denní expozice (PDE) pro různé prvky podle cesty podání a jejich toxicity. Analytické techniky ICP-OES a ICP-MS jsou doporučeny pro kvantitativní a selektivní stanovení těchto prvků.

Cíle a přehled studie / článku


Článek představuje řešení Agilent pro analýzu prvkových nečistot v souladu s USP<232>/<233> a ICH Q3D. Popisuje metodiku vzorkování, přípravu, výpočet J-hodnot, instrumentální nastavení, porovnání výkonu ICP-OES a ICP-MS a kompletní pracovní postup včetně kvalifikace zařízení a softwaru.

Použitá metodika a instrumentace


Pro vzorky farmaceutických pevných i roztokových přípravků se využívá:
  • přímá analýza nebo ředění v kyselinách/organických rozpouštědlech,
  • uzavřená mikrovlnná digesce HNO₃/HCl pro úplné rozpuštění a stabilizaci prvků,
  • výpočet J-hodnoty (maximální koncentrace v měřeném roztoku) podle PDE a celkového ředění,
  • kalibrace na úrovni 0,5–1,5×J a kontrola detekovatelnosti a recovery testy podle USP<233>.

Použitá instrumentace


  • ICP-OES Agilent 5800 VDV a 5900 SVDV s vertikální sondou a CCD detektorem Vista Chip III,
  • ICP-MS Agilent 7850 s Ultra High Matrix Introduction (UHMI),
  • LC-ICP-MS integrovaný systém pro speciační analýzu As a Hg,
  • uzavřené mikrovlnné digesční jednotky kompatibilní se solí a kyselinami,
  • inertní vstřikovací systém pro vzorky s HF.

Hlavní výsledky a diskuse


Agilent ICP-OES prokazuje vynikající toleranci komplexních matric (až 25 % TDS), nízké meze detekce (<0,1–3 μg/l) a vysokou stabilitu signálu díky vertikální sondě. CCD detektor pokrývá 167–785 nm, umožňuje interní potvrzení koncentrace pomocí alternativních emisních čar. ICP-MS dosahuje detekčních limitů v jednotkách pg/l, což je výhodné pro parenterální a inhalované formy s nižšími PDE. ICP-OES nabízí dvojnásobnou rychlost analýzy (~2500 vzorků/24 hod) oproti ICP-MS (~1000 vzorků/24 hod).

Přínosy a praktické využití metody


Agilent řešení zajišťuje:
  • plnou shodu s USP<232>/<233> a ICH Q3D,
  • rychlou implementaci díky přednastaveným metodám v softwaru ICP Expert,
  • jednoduchou kvalifikaci instrumentace a softwaru (21 CFR Part 11/Annex 11),
  • vysokou robustnost a minimální údržbu vertikální sondy,
  • auditu připravenou dokumentaci a referenční materiály CRM s deklarovanou stoprocentní stoprovatelností.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další rozšíření speciačních technik pro toxické formy prvků pomocí LC-ICP-MS, automatizace vzorkovacích postupů a datových workflow pro rychlou interpretaci. Vývoj certifikovaných multi-elementových standardů a pokročilá softwarová analýza umožní efektivnější správu rizik prvkových nečistot v real-time prostředí výrobních linek.

Závěr


Agilent nabízejí komplexní řešení pro analýzu prvkových nečistot v souladě s globálními farmaceutickými předpisy. Výkonné instrumenty, integrovaný software, kvalifikace a podpora zajišťují spolehlivé výsledky, efektivní provoz a usnadňují splnění regulatorních požadavků.

Reference


  1. Elemental Impurities—Limits, Pharm. Forum, 2016, 42(2), Revision to Chapter <232>.
  2. Elemental Impurities—Procedures, Pharm. Forum, 2014, 40(2), Revision to Chapter <233>.
  3. ICH Guideline Q3D on Elemental Impurities, EMA/CHMP/ICH/353369/2013, July 2016.
  4. L. Whitecotton et al., Elemental Impurities in Aspirin: USP <232>/<233> and ICH Q3D Methods Using ICP-OES, Agilent 5991-8337EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-MS Solution
White Paper USP <232>/<233> and ICH Q3D Elemental Impurities Analysis: The Agilent ICP-MS Solution Elemental Impurity Analysis Requirements Worldwide, regulatory authorities are responsible for ensuring that pharmaceutical products are both effective and safe. Potentially toxic and harmful contaminants—including elemental impurities—must…
Klíčová slova
icp, icpelemental, elementalich, ichagilent, agilentpde, pdeusp, uspelements, elementslimits, limitsdilution, dilutionpharmaceutical, pharmaceuticalimpurities, impuritiesmasshunter, masshunterdrug, drugdaily, dailysoftware
Proposed new ICH and USP methods for elemental impurities: The application of ICP-MS and ICP-OES for pharmaceutical analysis
Proposed new ICH and USP methods for elemental impurities: The application of ICP-MS and ICP-OES for pharmaceutical analysis White paper Authors Amir Liba, Ed McCurdy and Ross Ashdown Agilent Technologies Abstract The United States Pharmacopeial Convention (USP), in parallel with…
Klíčová slova
icp, icppharmaceutical, pharmaceuticalinorganic, inorganiclimits, limitspde, pdeparenteral, parenteralich, ichelements, elementsdigestion, digestiondrug, drugusp, uspmust, mustadministration, administrationema, emaoes
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials
2022|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Measuring Elemental Impurities in Pharmaceutical Materials Agilent Atomic Spectroscopy Solutions USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1) Implementing Elemental Impurities Tests in the Pharmaceutical Industry Worldwide regulations for pharmaceutical materials Worldwide pharmacopeias have introduced revised standards for controlling elemental impurities in drug…
Klíčová slova
pde, pdequalification, qualificationelemental, elementalimpurities, impuritiesyou, youyour, yourcrosslab, crosslabagilent, agilentparenteral, parenteralcompliance, compliancecrms, crmsinhalational, inhalationalich, ichsoftware, softwarehave
Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1)
Application Note Pharmaceuticals Validating performance of an Agilent ICP‑MS for USP <232>/<233> & ICH Q3D(R2)/Q2(R1) Reducing the time and expense of ICP-MS method development and system validation for measuring elemental impurities in pharmaceuticals Authors Lindsey Whitecotton, Ed McCurdy, Craig Jones…
Klíčová slova
pde, pdeelemental, elementalpharmaceutical, pharmaceuticalicp, icpelements, elementsspike, spikepdes, pdesich, ichelement, elementmean, meanprocedures, proceduresimpurities, impuritiesday, daylimits, limitsoral
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.