ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

ICH Q3D Elemental Impurities Analysis of Tablets by EDX - Verification Based on USP <233> ELEMENTAL IMPURITIES-PROCEDURES

Aplikace | 2020 | ShimadzuInstrumentace
X-ray
Zaměření
Farmaceutická analýza
Výrobce
Shimadzu

Souhrn

Význam tématu


Analýza elementárních nečistot v léčivých přípravcích je zásadní pro zajištění bezpečnosti pacientů a souladu s mezinárodními normami ICH Q3D a USP 232/233. Přesné stanovení stopových kovů přispívá k minimalizaci rizik a splnění regulatorních požadavků.

Cíle a přehled studie


Studie si kladla za cíl ověřit použitelnost spektrometrie s energiově disperzní rentgenovou fluorescencí (EDXRF) pomocí přístroje EDX-7000 jako alternativní metody k doporučeným technikám ICP-MS a ICP-AES pro stanovení nečistot As, Hg, Pb, Cd, V, Co, Ni a Pd v tabletách.

Použitá metodika a instrumentace


  • Vzorky byly přeměněny na prášek: standardizační prášek (cellulóza) a testovací vzorky se zásahem standardů ve dvou koncentracích (cílová a 80 % cílové).
  • Kalibrace: tříbodový kalibrační graf pro každé stanovené prvky (0, 0,5 a 1,5 násobek jednotky J) s vysokou linearitou (R ≥ 0,999).
  • Instrumentace: EDX-7000 s detektorem SDD, rentgenovou lampou s Rh anódou, napětím 50 kV, automatickým proudem, použitím tří filtrů (#1, #2, #4) a dobou integrace 1800 s na filtr.
  • Předspracování: vzorky umístěné do kontejnerů vyložených polypropylenovou fólií bez dalších chemických úprav.

Hlavní výsledky a diskuse


  • Detekovatelnost nečistot splnila kritéria ± 15 % od referenčních hodnot v obou zásahových koncentracích.
  • Specifičnost prokázala eliminaci interferujících matricových efektů a překryvů spekter, zejména korekce As-lišta pro Pb a Co pro Fe.
  • Opakovatelnost měření dosáhla RSD ≤ 1,9 % pro všechny prvky, výrazně pod limitem 20 %.
  • Metoda byla schválena jako validní dle požadavků USP 233 „Limit Procedures“.

Přínosy a praktické využití metody


  • EDXRF umožňuje rychlé a ekonomické stanovení širokého spektra kovových nečistot bez nutnosti složitého rozpuštění vzorku.
  • Metodu lze aplikovat v kontrole kvality tablet a dalších pevných forem s podobnou maticí.
  • Při vhodné validaci lze nahradit nákladnější techniky ICP-MS a ICP-AES pro rutinní analýzy.

Budoucí trendy a možnosti využití


Další rozšiřování využití EDXRF v oblasti farmaceutické analýzy může zahrnovat automatizaci předzpracování vzorků, integraci s pokročilým softwarem pro korekci maticových efektů a adaptaci metod pro kapalné či gelové formulace.

Závěr


Verifikace metody EDXRF na přístroji EDX-7000 potvrdila její spolehlivost a splnění požadavků USP 233. Metoda představuje efektivní alternativu k ICP technikám pro kontrolu elementárních nečistot v tabletách, přináší úsporu nákladů a zkrácení doby analýzy.

Reference


  1. United States Pharmacopeia, General Chapter 232 Elemental Impurities–Limits
  2. United States Pharmacopeia, General Chapter 233 Elemental Impurities–Procedures
  3. Shimadzu Application News No. X271, ICH Q3D Elemental Impurities Analysis of Drug Substances by EDX
  4. ICH Harmonised Guideline Q3D(R1), Guideline for Elemental Impurities, 22 March 2019

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
ICH Q3D Elemental Impurities Analysis of Drug Substances by EDX
LAAN-A-XR-E044 Application News No. X271 X-Ray Analysis ICH Q3D Elemental Impurities Analysis of Drug Substances by EDX The ICH Harmonised Guideline, Guideline for Elemental Impurities (ICH Q3D) of drug products, (1) requires control of the residual amounts of 24 elements…
Klíčová slova
captopril, captoprilbenazepril, benazeprilhydrochloride, hydrochlorideunspiked, unspikedelement, elementpass, passdrug, drugsample, samplespike, spikespiked, spikededx, edxappropriateness, appropriatenesssubstance, substancequantitative, quantitativeconcentration
Validation of Analysis Method Using ICPMS-2030 Based on USP <233> ELEMENTAL IMPURITIES - PROCEDURES
Application News No. Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry Validation of Analysis Method Using ICPMS-2030 Based on USP <233> ELEMENTAL IMPURITIES - PROCEDURES J128 „ Introduction „ Sample The Guideline for Elemental Impurities ICH Q3D (1) was setting the Permitted Daily…
Klíčová slova
interelement, interelementcollision, collisiongas, gastarget, targetelement, elementcorrection, correctionconcentration, concentrationelements, elementsmultiwave, multiwavequantitative, quantitativeaccuracy, accuracynews, newstest, testwithout, withoutaverage
Elemental Impurity Analysis in Cutaneous and Transcutaneous Drug Products Using ICP-MS Based on ICHQ3D (R2)
ICP-MS ICPMS -2030 Elemental Impurity Analysis in Cutaneous and Transcutaneous Drug Products Using ICP-MS Based on ICHQ3D (R2) Application News Kisho Hori User Benefits  Even if Option 1 is used to convert the PDE to the target concentration, the…
Klíčová slova
transcutaneous, transcutaneouscutaneous, cutaneouselement, elementelemental, elementalconcentration, concentrationaverage, averagequantitative, quantitativespike, spikeimpurity, impurityaccuracy, accuracyprecision, precisionpde, pdestandard, standardspiked, spikedtarget
Analysis of Artificial Tear Eye Drops For Elemental Impurities
Application Note Pharma & Biopharma Analysis of Artificial Tear Eye Drops For Elemental Impurities Using an ICP-MS and USP <232>/<233> and ICH Q3D(R2)/Q2(R1) protocols. Authors Jennifer Sanderson and Lindsey Whitecotton Agilent Technologies, Inc. Introduction As pharmaceutical products are released to…
Klíčová slova
pde, pdeppb, ppbday, dayratio, ratioelement, elementconcentration, concentrationtear, tearelemental, elementalelements, elementsdaily, dailyeye, eyedrops, dropsruggedness, ruggednesssuitability, suitabilityspike
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.