Agilent ICP-MS Journal (February 2015 – Issue 60)
Ostatní | 2015 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Moderní iontová hmotnostní spektrometrie (ICP-MS) představuje klíčový nástroj pro sledování ultra-stopových hladin kovových nečistot v polovodičovém průmyslu, charakterizaci nanočástic v komplexních matricích i kontrolu kvality kapalných paliv. Pokrok ve vývoji reaktivních buněk, vícekvadrupólových konfigurací a kombinací separačních technik (CE, GC) umožňuje dosáhnout vyšší citlivosti, rozlišení a spolehlivosti v řadě aplikací.
Souhrn článků ukazuje, že kombinace inovativních buněk, reaktivních plynů a vícekvadrupólových konfigurací výrazně rozšiřuje aplikační pole ICP-MS od polovodičů přes nanoanalytiku až po kontrolu kvality paliv. Další vývoj směřuje k plně bezinterferenčním, vysoce automatizovaným systémům pro multidisciplinární použití.
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
ZaměřeníŽivotní prostředí, Průmysl a chemie
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Moderní iontová hmotnostní spektrometrie (ICP-MS) představuje klíčový nástroj pro sledování ultra-stopových hladin kovových nečistot v polovodičovém průmyslu, charakterizaci nanočástic v komplexních matricích i kontrolu kvality kapalných paliv. Pokrok ve vývoji reaktivních buněk, vícekvadrupólových konfigurací a kombinací separačních technik (CE, GC) umožňuje dosáhnout vyšší citlivosti, rozlišení a spolehlivosti v řadě aplikací.
Cíle a přehled článků
- Analýza kontaminace křemíkových waferů metodou VPD-ICP-QQQ (Agilent 8800) ve výrobě polovodičů.
- Simultánní stanovení více velikostních frakcí a chemického složení nanočástic v kosmetických a vodních vzorcích pomocí CE-ICP-MS.
- Detekce a kvantifikace těkavé organoleadné sloučeniny (TEL) a uhlovodíků v leteckém benzinu pomocí GC-ICP-MS (Agilent 7890/7900).
- Historický vývoj ICP-MS od prvních experimentálních přístrojů až po současné systémy triple quadrupole (8800) a bench-top (7900) s vylepšenou odolností matricím.
Použitá instrumentace
- Agilent 8800 ICP-QQQ s reaktivní buňkou H₂/O₂ pro MS/MS analýzu stopových kovů v HF matrix.
- Kapilární CE-ICP-MS: Agilent HP 3D CE + 7500ce, separační kapilára 75 µm×60 cm, běžící pufr tris-borát.
- GC-ICP-MS: Agilent 7890 GC spárovaný s ICP-MS 7900 v časově rozlišeném režimu TRA pro ¹³C a ²⁰⁸Pb.
- Současné systémy 4500, 7500, 7700 a 8800 od Agilent/TAD jako příklady vývoje ICP-MS technologií.
Hlavní výsledky a diskuse
- VPD-ICP-QQQ umožnil rozlišení a kvantifikaci 31 prvků na hladinách DL a BEC pod 1 ppt i v přítomnosti silikátové matrice díky MS/MS režimu a reaktivním plynům.
- CE-ICP-MS prokázal schopnost oddělit rozpustné ionty od nanočástic různých velikostí (10, 20, 40 nm) a současně určit jejich velikostní rozdělení srovnatelné s TEM, ale rychleji a bez komplikované přípravy.
- GC-ICP-MS spolehlivě odhalil nepřítomnost těžkého nafty v podezřelých nádržích B-17 a dokázal kvantifikovat TEL v rozsahu 0,41–0,43 g/L spolu s profilem větvených uhlovodíků.
- Historická exkurze ukázala, jak postupné inovace (off-axis čočky, ORS, HMI, MS/MS) vedly k miniaturizaci, rozšíření dynamického rozsahu a zvýšení tolerance vůči složitým matricím.
Přínosy a praktické využití metody
- Umožňuje robustní QA/QC kontrolu procesních kapalin a povrchových kontaminantů ve výrobě čipů.
- Zrychluje screening kosmetických a environmentálních vzorků na přítomnost a velikost nanočástic.
- Umožňuje jednorázové multimetrické analýzy paliv pro letecký provoz a diagnostiku kontaminací.
- Zkušenosti z vývoje ICP-MS napomáhají vývoji daleko citlivějších a méně složitých systémů pro širokou škálu aplikací.
Budoucí trendy a možnosti využití
- Rozvoj vícekvadrupólových a high-resolution ICP-MS pro zcela bezinterferenční analýzu složitých matric.
- Další integrace separačních technik (HPLC, CE) s MS/MS pro vícedimenzionální analytiku.
- Automatizace a miniaturizace přístrojů pro on-site a polní analýzy stopových prvků a částic.
- Vývoj zákaznicky orientovaných workflow a databází referenčních signatur pro rychlé ID a kvantifikaci napříč odvětvími.
Závěr
Souhrn článků ukazuje, že kombinace inovativních buněk, reaktivních plynů a vícekvadrupólových konfigurací výrazně rozšiřuje aplikační pole ICP-MS od polovodičů přes nanoanalytiku až po kontrolu kvality paliv. Další vývoj směřuje k plně bezinterferenčním, vysoce automatizovaným systémům pro multidisciplinární použití.
Reference
- K. Mizobuchi, M. Yukinari, Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode, Agilent publication 5991-5372EN, 2014.
- L. Liu, B. He, Q. Liu et al., Identification and Accurate Size Characterization of Nanoparticles in Complex Media by CE-ICP-MS, Angew. Chem. Int. Ed. 2014, 53, 14476–14479.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Agilent ICP-MS Journal (July 2016 – Issue 66)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal July 2016 – Issue 66 Inside this Issue 2-3 The New Agilent 8900 ICP-QQQ Provides Improved Performance and Enhanced Flexibility 4 Building on the Success of the Innovative Agilent 8800 ICP-QQQ 5 Characterization of Nanoparticle Content…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnuclear, nuclearagilent, agilentapplications, applicationsnanoparticle, nanoparticleinterferences, interferencessensitivity, sensitivityperformance, performancesemiconductor, semiconductoruranium, uraniumnps, npsawards, awardstrace, tracereaction
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS (Technical Overview)
2025|Agilent Technologies|Technické články
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Technical Overview Introduction Agilent is the worldwide market leader in quadrupole ICP-MS, and the only supplier of triple quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ). Introduced in 2012, ICP‑QQQ has transformed interference removal in ICP‑MS, using MS/MS to control…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqsensitivity, sensitivityacceleration, accelerationions, ionscell, celldls, dlsreaction, reactionquadrupole, quadrupoleapplications, applicationssemiconductor, semiconductorsignal, signalaxial, axialnps, npshigh
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
2022|Agilent Technologies|Příručky
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode