ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Produkty z kategorie Plyny v tlakových lahvích - strana 3

Linde Helium 4.6, tlaková lahev
Linde Helium 4.6, tlaková lahev
Linde helium 4.6 (≥99,996 %) pro chromatografii, detekci netěsností a průmysl. Spolehlivý nosný a chladicí plyn.
Linde Kyslík 6.0, tlaková lahev
Linde Kyslík 6.0, tlaková lahev
Linde kyslík 6.0 (≥99,9999 %) pro ultra čisté aplikace v analytice, polovodičích a výzkumu. Maximální čistota pro nejvyšší nároky.
Linde Kyslík 5.0, tlaková lahev
Linde Kyslík 5.0, tlaková lahev
Linde kyslík 5.0 (≥99,999 %) pro analytiku, polovodiče a výzkum. Ultra čistý plyn pro náročné laboratorní a technologické aplikace.
Linde Kyslík 4.5, tlaková lahev
Linde Kyslík 4.5, tlaková lahev
Linde kyslík 4.5 (≥99,995 %) pro analytiku, chemii a polovodiče. Vysoce čistý plyn pro laboratorní a technologické aplikace.
Linde Kyslík 3.5, tlaková lahev
Linde Kyslík 3.5, tlaková lahev
Linde kyslík 3.5 (≥99,95 %) pro řezání kovů, laserové a průmyslové aplikace. Vyšší čistota pro rychlejší a kvalitnější procesy.
Linde Metan 2.5, tlaková lahev
Linde Metan 2.5, tlaková lahev
Linde Metan 2.5 (≥99,5 %) pro metalurgii, mikroelektroniku a měření. Spolehlivý topný a procesní plyn pro průmysl i laboratoře.
Linde Oxid uhličitý 4.5 (CO₂), tlaková lahev
Linde Oxid uhličitý 4.5 (CO₂), tlaková lahev
Linde CO₂ 4.5 (≥99,995 %) pro analytiku, kalibrace a CO₂ lasery. Vysoce čistý plyn pro laboratoře, polovodiče i výzkum.
Linde Oxid uhličitý 3.0 (CO₂), tlaková lahev
Linde Oxid uhličitý 3.0 (CO₂), tlaková lahev
Oxid uhličitý CO₂ 3.0 (≥99,9 %) pro analytiku, kalibrace a průmysl. Spolehlivý provozní plyn pro laboratoře, výrobu i výzkum.
Linde Oxid dusný 2.5
Linde Oxid dusný 2.5
Oxid dusný 2.5 Linde pro AAS, extrakce a polovodiče. Oxidační plyn s vysokou stabilitou pro analytické a technologické aplikace.
Linde Vodík 5.6, tlaková lahev
Linde Vodík 5.6, tlaková lahev
Vodík 5.6 Linde (≥99,9996 %) pro ultra čisté aplikace v GC a analytice. Maximální čistota, stabilita a minimální kontaminace.
 

Mohlo by Vás zajímat

Webináře LabRulezICPMS týden 27/2026

Webináře LabRulezICPMS týden 27/2026

Po, 29.6.2026
LabRulez
Nadace Experientia zná držitelku start-up grantu a stipendisty pro rok 2026

Nadace Experientia zná držitelku start-up grantu a stipendisty pro rok 2026

Po, 29.6.2026
Nadace Experientia
Od workshopů k systému: proč vysokoškolská výuka potřebuje víc než tipy a triky

Od workshopů k systému: proč vysokoškolská výuka potřebuje víc než tipy a triky

Pá, 26.6.2026
Universitas
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
FacebookLinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.