ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Pořadatel
TESCAN
TESCAN
TESCAN svým zákazníkům umožňuje výzkum a analýzu v nanorozlišení. Jeho řešení se uplatňují v geovědách, materiálových vědách, polovodičovém průmyslu a ve vědách o živé přírodě. Společnost má třicetiletou historii vývoje inovativních elektronových mikroskopů, mikrotomografů a souvisejících softwarových řešení pro uživatele z mnoha oblastí výzkumu a průmyslu. Příkladem je také 4D-STEM (4D rastrovací transmisní elektronový mikroskop) TENSOR, který byl jako první na světě od základu postaven pro zcela novou úroveň výkonu a uživatelského komfortu.
Tagy
Mikroskopie
LinkedIn Logo

New insights from Semiconductor Failure Analysis with TESCAN's Integrated Workflow

ZÁZNAM | Proběhlo Út, 23.1.2024
Připojte se k poutavému webináři, který rozšíří váš pohled na analýzu poruch polovodičů.
Přejít na webinář
TESCAN: New insights from Semiconductor Failure Analysis with TESCAN's Integrated Workflow
TESCAN: New insights from Semiconductor Failure Analysis with TESCAN's Integrated Workflow

A Comprehensive Approach to Semiconductor FA

Do you wish to stay abreast of the ever-evolving landscape of semiconductor technology and its impact on device efficiency and reliability? Join us on January 23rd, 2024, for a captivating webinar that will expand your perspective on semiconductor failure analysis.

Webinar Title: “Streamlining Millimeter-Scale Semiconductor Failure Analysis: An Integrated Workflow with Plasma FIB-SEM, Laser Techniques, and Advanced FA Tools

This online session promises to bring new insights for professionals in the semiconductor industry.

What to Anticipate:

  • Navigating the Miniaturization Maze: Discover how advancements in miniaturization, component integration, and optimization are transforming the performance and power consumption of electronic devices, including displays and batteries.

  • The Imperative of Rapid Failure Analysis: Learn about the escalating challenges in detecting defects beneath complex surfaces and the critical role of swift and accurate failure analysis in accelerating market readiness and ensuring device dependability.

  • Innovations in Workflow Integration: Explore the dynamic integration of plasma FIB technology with high-speed laser ablation techniques (3D-Micromac microPREP™ PRO), enhancing the speed and precision of semiconductor failure analysis.

  • Introducing TESCAN’s Large Volume Workflow Update: Delve into the latest enhancements, developed in collaboration with the European FA4.0 project, including a versatile shared sample holder and the pioneering Essence AutoSection™ software for automated alignment and ROI identification.

What You Will Gain

Participants will be treated to practical demonstrations on a variety of challenging samples, showcasing the workflow’s adaptability in handling complex devices and non-conductive materials.

Together, we will learn how these state-of-the-art techniques enable rapid, artifact-free sample preparation, essential for ultra-high-resolution SEM imaging and comprehensive failure root-cause analysis.

Presenter: Lukas Hladik (Product Marketing Manager at TESCAN Group)

TESCAN
LinkedIn Logo
 

Mohlo by Vás zajímat

Detection of Phenol Leakage into Wastewater Using TOC Measurement

Aplikace
| 2026 | Shimadzu
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Životní prostředí

Routine Analysis of Rare Earth Elements in Basalt using ICP-MS

Aplikace
| 2026 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza

Analysis of rare earth elements in clay using XRF and XRD

Aplikace
| 2026 | Thermo Fisher Scientific
Instrumentace
XRD
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Materiálová analýza

Measurement of TOC in Chloroisocyanuric Acid Used as Disinfectant

Aplikace
| 2026 | Shimadzu
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Farmaceutická analýza

High Precision Analysis of Major Components in Precious Metals by ICP-OES

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
FacebookLinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.