ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Pořadatel
TESCAN
TESCAN
TESCAN svým zákazníkům umožňuje výzkum a analýzu v nanorozlišení. Jeho řešení se uplatňují v geovědách, materiálových vědách, polovodičovém průmyslu a ve vědách o živé přírodě. Společnost má třicetiletou historii vývoje inovativních elektronových mikroskopů, mikrotomografů a souvisejících softwarových řešení pro uživatele z mnoha oblastí výzkumu a průmyslu. Příkladem je také 4D-STEM (4D rastrovací transmisní elektronový mikroskop) TENSOR, který byl jako první na světě od základu postaven pro zcela novou úroveň výkonu a uživatelského komfortu.
Tagy
Mikroskopie
LinkedIn Logo

New insights from Semiconductor Failure Analysis with TESCAN's Integrated Workflow

ZÁZNAM | Proběhlo Út, 23.1.2024
Připojte se k poutavému webináři, který rozšíří váš pohled na analýzu poruch polovodičů.
Přejít na webinář
TESCAN: New insights from Semiconductor Failure Analysis with TESCAN's Integrated Workflow
TESCAN: New insights from Semiconductor Failure Analysis with TESCAN's Integrated Workflow

A Comprehensive Approach to Semiconductor FA

Do you wish to stay abreast of the ever-evolving landscape of semiconductor technology and its impact on device efficiency and reliability? Join us on January 23rd, 2024, for a captivating webinar that will expand your perspective on semiconductor failure analysis.

Webinar Title: “Streamlining Millimeter-Scale Semiconductor Failure Analysis: An Integrated Workflow with Plasma FIB-SEM, Laser Techniques, and Advanced FA Tools

This online session promises to bring new insights for professionals in the semiconductor industry.

What to Anticipate:

  • Navigating the Miniaturization Maze: Discover how advancements in miniaturization, component integration, and optimization are transforming the performance and power consumption of electronic devices, including displays and batteries.

  • The Imperative of Rapid Failure Analysis: Learn about the escalating challenges in detecting defects beneath complex surfaces and the critical role of swift and accurate failure analysis in accelerating market readiness and ensuring device dependability.

  • Innovations in Workflow Integration: Explore the dynamic integration of plasma FIB technology with high-speed laser ablation techniques (3D-Micromac microPREP™ PRO), enhancing the speed and precision of semiconductor failure analysis.

  • Introducing TESCAN’s Large Volume Workflow Update: Delve into the latest enhancements, developed in collaboration with the European FA4.0 project, including a versatile shared sample holder and the pioneering Essence AutoSection™ software for automated alignment and ROI identification.

What You Will Gain

Participants will be treated to practical demonstrations on a variety of challenging samples, showcasing the workflow’s adaptability in handling complex devices and non-conductive materials.

Together, we will learn how these state-of-the-art techniques enable rapid, artifact-free sample preparation, essential for ultra-high-resolution SEM imaging and comprehensive failure root-cause analysis.

Presenter: Lukas Hladik (Product Marketing Manager at TESCAN Group)

TESCAN
LinkedIn Logo
 

Mohlo by Vás zajímat

Analysis of rare earth elements in clay using XRF and XRD

Aplikace
| 2026 | Thermo Fisher Scientific
Instrumentace
XRD
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Materiálová analýza

Measurement of TOC in Chloroisocyanuric Acid Used as Disinfectant

Aplikace
| 2026 | Shimadzu
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Farmaceutická analýza

High Precision Analysis of Major Components in Precious Metals by ICP-OES

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza

Analysis of Heavy Metals in Baby FoodUsing ICP-MS

Aplikace
| 2025 | Shimadzu
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Potraviny a zemědělství

ICP-OES Analysis of Copper Recovered from Li-Ion Batteries for Foil Manufacturing

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.