ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Pořadatel
NenoVision
NenoVision
NenoVision je český start-p, který vyvíjí a vyrábí LiteScope™, unikátní mikroskop atomárních síl (AFM) vyrobený pro integraci do rastrovacích elektronových mikroskopů (SEM).
Tagy
Mikroskopie
LinkedIn Logo

Inside the Chip: Semiconductor Failure Analysis with AFM-in-SEM

ZÁZNAM | Proběhlo St, 28.5.2025
Zjistěte, jak LiteScope AFM-in-SEM umožňuje in-situ elektrickou a topografickou analýzu polovodičových komponent s vysokým rozlišením na nanoskopické úrovni.
Přejít na webinář
NenoVision: Inside the Chip: Semiconductor Failure Analysis with AFM-in-SEM
NenoVision: Inside the Chip: Semiconductor Failure Analysis with AFM-in-SEM

Dive into the world of semiconductor failure analysis and discover how integrated AFM-in-SEM technology enables in-situ, high-resolution electrical and topographical characterization - right where it matters most.

Learn how LiteScope transforms traditional workflows by combining SEM, FIB, and AFM techniques into a single, efficient process - streamlining diagnostics and revealing the root causes of device failure with nanoscale precision.

This webinar will walk you through real application examples, including dopant profiling of MOSFET transistors and conductivity mapping of complex semiconductor structures.

We’re running this webinar twice for our global audience - pick whichever timeslot fits your schedule the best!

Session 2 - May 28, 09:00 CEST - REGISTER HERE

Session 1 - May 13, 18:00 CEST - REGISTER HERE

In this webinar, you will learn how to:

  • Navigate directly to specific vias, transistors, or doped layers and perform localized electrical characterization.
  • Eliminate sample transfers with an integrated SEM, FIB, and AFM in-situ workflow.
  • Streamline diagnostics of device failures at the nanoscale level to speed up your R&D process.
  • Use LiteScope in real-world cases like dopant profiling of MOSFET transistors and conductivity mapping of complex semiconductor structures.

Presenter: Veronika Hegrová (Application manager, NenoVision s.r.o.)

NenoVision
LinkedIn Logo
 

Mohlo by Vás zajímat

Analysis of rare earth elements in clay using XRF and XRD

Aplikace
| 2026 | Thermo Fisher Scientific
Instrumentace
XRD
Výrobce
Thermo Fisher Scientific
Zaměření
Materiálová analýza

Measurement of TOC in Chloroisocyanuric Acid Used as Disinfectant

Aplikace
| 2026 | Shimadzu
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Farmaceutická analýza

High Precision Analysis of Major Components in Precious Metals by ICP-OES

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza

Analysis of Heavy Metals in Baby FoodUsing ICP-MS

Aplikace
| 2025 | Shimadzu
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Potraviny a zemědělství

ICP-OES Analysis of Copper Recovered from Li-Ion Batteries for Foil Manufacturing

Aplikace
| 2025 | Agilent Technologies
Instrumentace
ICP-OES
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Materiálová analýza
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.