ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    Aplikace z oblasti Polovodiče | LabRulez ICPMS

    Evaluation of TOC of Sulfuric Acid using Wet Oxidation TOC Analyzer

    Aplikace
    | 2024 | Shimadzu
    TOC
    Instrumentace
    TOC
    Výrobce
    Shimadzu
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Analysis of Electroceramics by Laser Ablation ICP-MS

    Aplikace
    | 2004 | Agilent Technologies
    ICP/MS, Laserová ablace
    Instrumentace
    ICP/MS, Laserová ablace
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Optical Characterization of Materials Using Spectroscopy

    Příručky
    | 2023 | Agilent Technologies
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Instrumentace
    NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Materiálová analýza, Polovodiče

    Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)

    Aplikace
    | 2001 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS

    Aplikace
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2015 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS

    Aplikace
    | 2023 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    LABOREXPO & PROCESEXPO 2024 (doprovodný odborný program)

    Čt, 16.5.2024
    LabRulez

    SHIMADZU: Pololetní události – Příležitosti k setkání s Vámi

    St, 15.5.2024
    SHIMADZU Handels GmbH - organizační složka

    Přednáška LABOREXPO 2024: Kam směřuje FTIR a Ramanova spektrometrie? Nové technologie, kde je hledat a jak je využít.

    Po, 27.5.2024
    LabRulez
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.