Evaluation of TOC of Sulfuric Acid using Wet Oxidation TOC Analyzer
Aplikace
| 2024 | Shimadzu
TOC
Instrumentace
TOC
Výrobce
Shimadzu
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Analysis of Electroceramics by Laser Ablation ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS, Laserová ablace
Instrumentace
ICP/MS, Laserová ablace
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Optical Characterization of Materials Using Spectroscopy
Příručky
| 2023 | Agilent Technologies
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Instrumentace
NIR Spektroskopie, UV–VIS Spektrofotometrie
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Materiálová analýza, Polovodiče
Characterization of Surface Metal Contamination on Silicon Wafers Using Surface Metal Extraction Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (SME- ICP-MS)
Aplikace
| 2001 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Characterization of Iron Nanoparticles in Hydrocarbon Matrices by Single Particle (sp)ICP-MS
Aplikace
| 2022 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Instrumentace
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie, Polovodiče
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Analysis of 50 nm Silica Nanoparticles in Semiconductor Process Chemicals by spICP-MS/MS
Aplikace
| 2023 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ