Analysis of Volatile Metalloid Species in Gas Samples using a Commercial Cryotrapping System (TDS-G-CIS GC) Coupled to ICP-MS with PH3 and SF6 as Example Compounds
Aplikace
| 2002 | GERSTEL
GC, Termální desorpce, ICP/MS, Speciační analýza
Instrumentace
GC, Termální desorpce, ICP/MS, Speciační analýza
Výrobce
Agilent Technologies, GERSTEL
Zaměření
Životní prostředí, Potraviny a zemědělství
Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode
Aplikace
| 2014 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determining Elemental Impurities in Pharmaceutical Ingredients using ICP-MS
Aplikace
| 2021 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Farmaceutická analýza
Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Průmysl a chemie
Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Hydrochloric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2013 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS
Aplikace
| 2017 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace
| 2016 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Trace Metal Impurities in High Purity Nitric Acid Using ICP-QQQ
Aplikace
| 2018 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ