ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
    1. Databáze

    1. Zaměření

    1. Instrumentace

    1. Výrobce

    1. Autor

    1. Typ Publikace

    1. Rok vydání

    WATER CHILLERS - COOLING SOLUTIONS

    Brožury a specifikace
    | 2020 | LabTech
    Instrumentace
    Výrobce
    Zaměření

    Is Your Agilent Spectrometer as Cool as it Should Be?

    Technické články
    | 2022 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/OES, ICP/MS/MS, MP/ICP-AES
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření

    Improvement of ICP-MS detectability of phosphorus and titanium in high purity silicon samples using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS

    Aplikace
    | 2013 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Direct Analysis of Trace Metallic Impurities in High Purity Hydrochloric Acid by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Průmysl a chemie

    WCPS: Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Reagents by Automatic Standard Addition Methods Using prepFAST S - ICP-MS/MS

    Postery
    | 2018 | Agilent Technologies
    Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    Příprava vzorků, ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies, Elemental Scientific
    Zaměření
    Průmysl a chemie, Polovodiče

    Direct Measurement of Metallic Impurities in 20% Ammonium Hydroxide by 7700s/7900 ICP-MS

    Aplikace
    | 2017 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS

    Aplikace
    | 2003 | Agilent Technologies
    ICP/MS
    Instrumentace
    ICP/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode

    Aplikace
    | 2014 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2016 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče

    Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ

    Aplikace
    | 2018 | Agilent Technologies
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Instrumentace
    ICP/MS, ICP/MS/MS
    Výrobce
    Agilent Technologies
    Zaměření
    Polovodiče
     

    Mohlo by Vás zajímat


    Měření čistoty malých objemů DNA při 4 °C s použitím Agilent Cary 60 UV-Vis spektrofotometru s optickým vláknem s mikrosondou

    Út, 16.4.2024
    Altium International

    Stanovení nominální hodnoty koncentrace analytu a její nejistoty ve vodných kalibračních roztocích prvků primárními metodami

    Po, 15.4.2024
    ANALYTIKA

    Tuk je možné vydolovat i z tisíce let staré keramiky, říká Veronika Brychová

    Čt, 25.4.2024
    Akademie věd České republiky
    Další projekty
    Sledujte nás
    Další informace
    WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
    LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.