Rozcestník
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.
Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Direct Analysis of Photoresist and Related Solvents Using the Agilent 7500cs ICP-MS
Aplikace
| 2004 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of Trace Metal Impurities in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
Aplikace
| 2003 | Agilent Technologies
ICP/MS
Instrumentace
ICP/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Determination of challenging elements in ultrapure semiconductor grade sulfuric acid by Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace
| 2015 | Agilent Technologies
ICP/MS, ICP/MS/MS
Instrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Polovodiče
Sborník příspěvků XXIII. ročník Mezinárodní konference o separační chemii a analýze toxických látek
Příručky
| 2021 | Hasičský záchranný sbor ČR (Mezinárodní konference o separační chemii a analýze toxických látek)
GC/MSD, Termální desorpce, GC/SQ, ICP/MS, ICP/OES, AAS
Instrumentace
GC/MSD, Termální desorpce, GC/SQ, ICP/MS, ICP/OES, AAS
Výrobce
Agilent Technologies
Zaměření
Životní prostředí, Forenzní analýza a toxikologie, Nebezpečné látky
- Před
- 1
- Další
Mohlo by Vás zajímat
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.