ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS

Aplikace | 2020 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


V moderní výrobě polovodičů může i stopové množství kovových nanočástic vést k defektům na povrchu waferů a snížení výtěžnosti. Detekce a charakterizace železných nanočástic (Fe NPs) o velikosti kolem 15 nm v organických rozpouštědlech je proto klíčová pro zajištění kvality procesních chemikálií a spolehlivosti finálních produktů.

Cíle a přehled studie


Hlavním cílem studie bylo ověřit schopnost metody spICP-MS (single particle ICP-MS) na přístroji Agilent 8900 ICP-QQQ k detekci, kvantifikaci a velikostní analýze 15 nm železných nanočástic v běžně využívaných organických rozpouštědlech (IPA, PGMEA, PGME). Studie rovněž sledovala dlouhodobou stabilitu signálu a velikostní distribuci částic.

Použitá metodika a instrumentace


Metoda spICP-MS byla provozována na Agilent 8900 ICP-QQQ v semiconductorské konfiguraci s křemennou torčí (1,5 mm i.d.) a injektorem. Pro odstranění interferencí na ^56Fe (ArO, C2O2) byl použit kyslík jako plyn do buněk. Vzorky se automaticky aspirují PFA nebulizérem a autosamplerem SPS 4, který umožňuje nasávání objemnějších lahví (100–500 mL) pro testy stability. Analýza dat probíhala v modulu Single Nanoparticle Application softwaru MassHunter.

Hlavní výsledky a diskuse


Analýza 15 nm Fe NPs ve spiked vzorcích IPA, PGMEA a PGME prokázala jasné rozlišení signálů nanočástic od pozadí. Naměřená průměrná velikost se pohybovala kolem 15 nm, v souladu s nominálními parametry částic.
Stability testy po dobu 10 hodin ukázaly konstantní počet detekovaných částic i velikost s %RSD 4–6 % (počet) a 2–3 % (velikost).
Porovnání signálových intenzit jedné 30 nm a jedné 15 nm částice potvrdilo kubický vztah mezi průměrem a intenzitou, s naměřeným poměrem 8,44, což odpovídá teoretické hodnotě 8.
Vedle toho analýza 30 nm Fe NPs v IPA ukázala, že velikostní distribuce je po šesti měsících téměř shodná s čerstvou suspenzí, což naznačuje dobrou dlouhodobou stabilitu rozptýlených částic.

Přínosy a praktické využití metody


  • Možnost přímé analýzy organických rozpouštědel včetně IPA, PGMEA a PGME.
  • Vysoká citlivost a nízké pozadí přístroje Agilent 8900 umožňuje spolehlivou detekci částic od 15 nm výše.
  • Stabilní měření po řadu hodin i měsíců podporuje dlouhodobý monitoring kvality procesních chemikálií.

Budoucí trendy a možnosti využití


Postupně se očekává rozšíření aplikací spICP-MS na detekci dalších kovových nanočástic a jejich sloučenin v různých průmyslových médiích. Integrace s pokročilými metodami separace a automatizace může dále zvýšit přesnost a průkaznost analýz ve výrobě polovodičů a dalších vysokotechnologických odvětvích.

Závěr


Studie prokázala, že metoda spICP-MS na Agilent 8900 ICP-QQQ je vhodná pro citlivou a spolehlivou detekci železných nanočástic velikosti 15–30 nm v organických rozpouštědlech. Metoda nabízí stabilní výsledky v čase i dobrou reprodukovatelnost, což napomáhá zajištění kvality a spolehlivosti procesních chemikálií v polovodičovém průmyslu.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Analysis of Nanoparticles in Organic Reagents by Agilent 8900 ICP-QQQ in spICP-MS Mode
Application Note Semiconductor Analysis of Nanoparticles in Organic Reagents by Agilent 8900 ICP-QQQ in spICP-MS Mode Determination of 25 and 30 nm Fe3O4 NPs in low-particle concentration solutions Author Donna Hsu, Yoshinori Shimamura, Brian Liao, and Michiko Yamanaka1 Chun-Hua Chen…
Klíčová slova
particle, particlesize, sizefrequency, frequencynps, npsconcentration, concentrationspicp, spicpbuac, buacpgmea, pgmeacps, cpsipa, ipasignal, signalnormalized, normalizedspiked, spikedwere, wereparticles
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ
Application Note Semiconductor Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ Characterization of Ag, Fe3O4, Al2O3, Au, and SiO2 NPs in TMAH in a single analytical run Author Yoshinori Shimamura, Donna Hsu, and Michiko Yamanaka Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
cps, cpsfrequency, frequencynanoparticle, nanoparticleparticle, particlecount, counttmah, tmahnormalized, normalizedsize, sizeelement, elementsec, secsignal, signalintensity, intensitynanoparticles, nanoparticlestime, timenebulization
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchelements
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.