ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Multielement Nanoparticle Analysis of Semiconductor Process Chemicals Using spICP-QQQ

Aplikace | 2019 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


V mikroelektronice je kontrola znečištění nanometrových částic klíčová pro zachování kvality a spolehlivosti polovodičových součástek. Výskyt kovových nanopartikel v chemikáliích používaných při výrobě může vést ke zkratu, defektům povrchu i k nežádoucím změnám během nanášení vrstev. Metoda spICP-QQQ (single particle ICP-MS/MS) umožňuje detekci a charakterizaci více kovových i nekovových nanopartikel v jedné analýze, což významně zvyšuje efektivitu kontroly kvality.

Cíle a přehled studie


Cílem studie bylo demonstrovat možnost simultánního měření nanopartikel Ag, Fe3O4, Al2O3, Au a SiO2 rozpuštěných v roztoku 1 % tetramethylamoniumhydroxidu (TMAH). Pomocí vyspělé platformy Agilent 8900 ICP-QQQ a doprovodného softwaru Rapid Multi-Element Nanoparticle Analysis byly ověřeny parametry přesnosti, reproducibility a časové úspory při víceprvkové analýze nanopartikel.

Použitá metodika


Vzorky standardních nanopartikel byly připraveny v 1 % TMAH ředění deionizovanou vodou tak, aby konečná koncentrace odpovídala rozsahu 20 ppt až 1 ppb podle prahových úrovní detekce. Analytický běh zahrnoval:
  • řízení ICP-QQQ v MS/MS režimu s Q1 a Q2 jako jednotkovými hmotnostními filtry,
  • alternativní použití H2 a NH3 jako reaktivních plynů pro eliminaci polyatomických interferencí (ArO, C2O2, C2H3, CNH),
  • rychlou časově rozlišenou analýzu (fast TRA) s rychlostí 10 000 impulsů/s pro každé m/z,
  • automatické nastavení prahových úrovní a baseline v Single Nanoparticle Application Module MassHunter.

Použitá instrumentace


Agilent 8900 ICP-QQQ v konfiguraci Semiconductor s křemennou hořákovou trubicí (1,5 mm i.d.), PFA koncentickým nebulizérem, quartzovou sprejovou komorou, platinovými kužely a integrovaným autosamplerem I-AS.

Hlavní výsledky a diskuse


• Nebulizační účinnost byla stanovena z 60 nm Ag NP referenčního materiálu na 8,1 %.
• Víceprvková analýza pěti typů nanopartikel byla dokončena za méně než 6 minut, což představuje úsporu 7 minut oproti tradičnímu sekvenčnímu přístupu.
• Rozdělení velikosti a koncentrace NP v TMAH ukázalo, že menší částice (30 nm Fe3O4) mohou být spolehlivě detekovány vedle větších (200 nm SiO2).
• Dlouhodobá stabilita: Al2O3 a SiO2 NP zůstaly stabilní po 10 h, u Fe3O4 a Ag NP došlo k poklesu koncentrace (usazování, částečné rozpouštění či adsorpce), Au NP vykazovaly stabilní velikost i koncentraci po úvodní fázi.

Přínosy a praktické využití metody


Rapid Multi-Element Nanoparticle Analysis spICP-MS zkracuje dobu analýzy, snižuje riziko kontaminace a nabízí vysokou citlivost i selektivitu. Metoda je vhodná pro rutinní kontrolu kvality polovodičových chemikálií a rychlou diagnostiku kontaminací v laboratorních i výrobních prostředích.

Budoucí trendy a možnosti využití


• Rozšíření na další typy nanopartikel a složitější matice (rozpouštědla, čištěná řešení).
• Integrace s automatizovanými systémy pro on-line monitoring výroby.
• Další optimalizace reakční chemie pro eliminaci vzájemných interferencí při analýze směsí kovových i nekovových částic.

Závěr


Studie prokázala efektivitu a spolehlivost multi-element spICP-QQQ pro analýzu nanopartikel v TMAH. Díky rychlé sekvenční akvizici a robustnímu řízení interferencí lze získat přesné údaje o velikostním rozdělení a koncentraci více typů částic v jediném běhu, což přináší významné časové úspory a zlepšení kontroly kvality.

Reference


  1. Susana Núñez, Heidi Goenaga Infante, Michiko Yamanaka et al. Analysis of 10 nm gold nanoparticles using the high sensitivity of the Agilent 8900 ICP-QQQ. Agilent Technologies, publ. 5991-6944EN, 2019.
  2. Jenny Nelson, Michiko Yamanaka, Francisco López-Linares et al. Single Nanoparticle Analysis of Asphaltene Solutions using ICP-QQQ: ICP-MS MassHunter software module simplifies spICP-MS analysis. Agilent publ. 5991-9498EN.
  3. Michiko Yamanaka, Steve Wilbur. Accurate Determination of TiO2 Nanoparticles in Complex Matrices using the Agilent 8900 ICP-QQQ. Agilent publ. 5991-8358EN.
  4. Michiko Yamanaka, Takayuki Itagaki, Steve Wilbur. High sensitivity analysis of SiO2 nanoparticles using the Agilent 8900 ICP-QQQ in MS/MS mode. Agilent publ. 5991-6596EN.
  5. Michiko Yamanaka, Takayuki Itagaki, Steve Wilbur. Measuring Multiple Elements in Nanoparticle using spICP-MS: Acquire NP data for up to 16 elements in Rapid Multi-Element Nanoparticle Analysis Mode. Agilent publ. 5994-0310EN.
  6. Craig Jones, Emmett Soffey, Mark Kelinske. Rapid Multielement Nanoparticle Analysis Using Single-Particle ICP-MS/MS. Spectroscopy 34(5):10–20, 2019.
  7. Steve Wilbur, Michiko Yamanaka, Sébastien Sannac. Characterization of nanoparticles in aqueous samples by ICP-MS. Agilent publ. 5991-5516EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Analysis of Nanoparticles in Organic Reagents by Agilent 8900 ICP-QQQ in spICP-MS Mode
Application Note Semiconductor Analysis of Nanoparticles in Organic Reagents by Agilent 8900 ICP-QQQ in spICP-MS Mode Determination of 25 and 30 nm Fe3O4 NPs in low-particle concentration solutions Author Donna Hsu, Yoshinori Shimamura, Brian Liao, and Michiko Yamanaka1 Chun-Hua Chen…
Klíčová slova
particle, particlesize, sizefrequency, frequencynps, npsconcentration, concentrationspicp, spicpbuac, buacpgmea, pgmeacps, cpsipa, ipasignal, signalnormalized, normalizedspiked, spikedwere, wereparticles
WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method
Yoshinori Shimamuraand Satoshi Kondo Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method Agilent Technologies, Inc., Tokyo, Japan Sample analysis performed in collaboration with Kakeru Usuba, Naoki Katano, and Takao Shibasaki EWCPS 2023 Th…
Klíčová slova
nps, npsnmp, nmpparticle, particleelement, elementspicp, spicptra, traicp, icpgrade, gradefast, fastnebulization, nebulizationparticles, particlesnanoparticle, nanoparticledistribution, distributiondiscriminaton, discriminatonkondo
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Application Note Semiconductor Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS Analysis of dissolved and particulate inorganic impurities in two grades of NMP using the Agilent 8900 ICP-QQQ Author Introduction Yoshinori Shimamura Ideally, analytical quality control (QC) testing procedures…
Klíčová slova
nmp, nmpppt, pptgrade, gradeicp, icpparticle, particleconc, concnanoparticle, nanoparticlesemiconductor, semiconductorgrades, gradeselements, elementsimpurities, impuritiesgas, gasnps, npsindustry, industryfabs
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.