Validation of quantitative method for determination of elemental impurities in pharmaceutical products following USP 232/233 on ICPMS-2030
Aplikace | 2019 | ShimadzuInstrumentace
Stanovení stopových elementárních nečistot ve farmaceutických přípravcích je klíčové pro bezpečnost pacientů a zachování účinnosti léčiv. Nové směrnice USP 232/233 nahrazují historické kolorimetrické testy a zavádějí kvantitativní limity pro 24 kovových a nekovových prvků.
Studie se zaměřuje na optimalizaci a validaci jedné univerzální ICP-MS metody s jediným kolizním režimem pro stanovení všech cílových prvků dle USP 232/233. Testováno bylo na třech formách lékových přípravků: kapsle, tablety a tekutý roztok.
Optimalizovaná ICP-MS metoda na přístroji ICPMS-2030 nabízí validované stanovení 24 elementárních nečistot dle USP 232/233 s vynikající linearitou, nízkými LOD/LOQ a vysokou reprodukovatelností. Metoda podporuje efektivní kontrolu kvality farmaceutických produktů.
ICP/MS
ZaměřeníFarmaceutická analýza
VýrobceShimadzu
Souhrn
Význam tématu
Stanovení stopových elementárních nečistot ve farmaceutických přípravcích je klíčové pro bezpečnost pacientů a zachování účinnosti léčiv. Nové směrnice USP 232/233 nahrazují historické kolorimetrické testy a zavádějí kvantitativní limity pro 24 kovových a nekovových prvků.
Cíle a přehled studie / článku
Studie se zaměřuje na optimalizaci a validaci jedné univerzální ICP-MS metody s jediným kolizním režimem pro stanovení všech cílových prvků dle USP 232/233. Testováno bylo na třech formách lékových přípravků: kapsle, tablety a tekutý roztok.
Použitá instrumentace
- ICPMS-2030 (Shimadzu)
- Autosampler AS-10 (Shimadzu)
- Milestone Ethos Easy – uzavřený mikrovlnný digesční systém
- Mini-Torch, nebulizér 07UES, cyklónová komora
Použitá metodika
- Vzorky (~0,4 g) digesovány v uzavřených nádobách s 2 mL HNO₃, 0,5 mL HCl a 0,5 mL H₂O₂; program: ramp-up na 220 °C za 20 min, držení 20 min
- Naředění digesta na 100 mL (2 % HNO₃, 0,5 % HCl), 250× diluce; online přidání interních standart Sc, Y, Bi (100 µg/L)
- Analýza na ICPMS-2030 v He kolizním režimu; RF výkon 1,20 kW; průtoky Ar: plazma 8,0 L/min, pomocný plyn 1,10 L/min, dopravní plyn 0,70 L/min
- Externí kalibrace na úrovních 0,5J, 1,0J a 2,0J dle PDE; kontrola driftu a opakovatelnosti
Hlavní výsledky a diskuse
- Kalibrace všech 24 prvků prokázaly vysokou linearitu (r ≥ 0,9994)
- LOD a LOQ byly výrazně pod limity J definovanými USP 232
- V analyzovaných vzorcích většina prvků nedetekovatelná nebo pod LOQ; detekce V a Ni v nízkých koncentracích
- Systémová stabilita: drift < 5 %; přesnost (recovery) 88–115 %; opakovatelnost (RSD) ≤ 2,5 %
- Specifičnost ověřena bez interferencí ve vybraných profilech As, Cd a Hg
Přínosy a praktické využití metody
- Jednoduchá a efektivní metoda s jediným kolizním režimem pro všech 24 prvků
- Vysoká citlivost a spolehlivost splňující požadavky QA/QC v farmaceutickém průmyslu
- Zkrácený čas analýzy díky minimálním přesunům režimů a jednotné metodě
Budoucí trendy a možnosti využití
- Automatizace přípravy vzorků pro zvýšení throughput laboratoří
- Rozšíření metody na další typy matrik a lékových forem
- Použití pokročilých kolizních a reaktivních plynů ke snížení interferencí
- On-line monitoring výrobních procesů pro průběžnou kontrolu kontaminant
Závěr
Optimalizovaná ICP-MS metoda na přístroji ICPMS-2030 nabízí validované stanovení 24 elementárních nečistot dle USP 232/233 s vynikající linearitou, nízkými LOD/LOQ a vysokou reprodukovatelností. Metoda podporuje efektivní kontrolu kvality farmaceutických produktů.
Reference
- USP General Chapter 232 Elemental Impurities – Limits, USP 40-NF 35, 2017
- USP General Chapter 233 Elemental Impurities – Procedures, USP 38-NF 33, 2015
- Wang T. a kol., A multi-element ICP-MS survey method, J. Pharm. Biomed. Anal. 2000, 23(5), 867–890
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Analysis of Pharmaceutical Raw Materials Compliant with ICH Q3D Guideline Using ICP-MS with Collision/Reaction Mode
2025|Shimadzu|Aplikace
Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer ICPMS-2050 Application News Analysis of Pharmaceutical Raw Materials Compliant with ICH Q3D Guideline Using ICP-MS with Collision/Reaction Mode Yujing Jiang User Benefits The 24 elements identified in the ICH Q3D guideline can be measured…
Klíčová slova
spike, spikespiked, spikedpharmaceutical, pharmaceuticalaccuracy, accuracyrecovery, recoveryflowrate, flowrateelement, elementtarget, targetinquiry, inquirygas, gasnogas, nogassample, samplemoo, mooraw, rawcell
Analysis of Pharmaceutical Raw Materials Compliant with ICH Q3D Guideline Using ICP-MS with Collision Mode
2025|Shimadzu|Aplikace
Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer ICPMS-2040 Application News Analysis of Pharmaceutical Raw Materials Compliant with ICH Q3D Guideline Using ICP-MS with Collision Mode Yujing Jiang User Benefits The 24 elements identified in the ICH Q3D guideline can be measured…
Klíčová slova
spike, spikeelement, elementspiked, spikedpharmaceutical, pharmaceuticalaccuracy, accuracyflowrate, flowraterecovery, recoveryinterelement, interelementinquiry, inquirytarget, targetgas, gasnogas, nogascollision, collisionsample, sampleraw
Analysis of Artificial Tear Eye Drops For Elemental Impurities
2022|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Pharma & Biopharma Analysis of Artificial Tear Eye Drops For Elemental Impurities Using an ICP-MS and USP <232>/<233> and ICH Q3D(R2)/Q2(R1) protocols. Authors Jennifer Sanderson and Lindsey Whitecotton Agilent Technologies, Inc. Introduction As pharmaceutical products are released to…
Klíčová slova
pde, pdeppb, ppbday, dayratio, ratioelement, elementconcentration, concentrationtear, tearelemental, elementalelements, elementsdaily, dailyeye, eyedrops, dropsruggedness, ruggednesssuitability, suitabilityspike
Determining Elemental Impurities in Pharmaceutical Ingredients using ICP-MS
2021|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Pharmaceuticals Determining Elemental Impurities in Pharmaceutical Ingredients using ICP-MS USP/ICH methodology used to measure 24 elemental impurities in raw materials dissolved in DMSO Authors Radhey S. Dhuria, Vinay Jain, Gaurav Kapadnis and Samir Vyas Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
pharmaceutical, pharmaceuticalimpurities, impuritieselement, elementelemental, elementalusp, uspdmso, dmsostandardization, standardizationingredients, ingredientsvalue, valuegas, gasich, ichicp, icporganic, organicmicrowave, microwaveclosed