ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS
Ostatní | 2016 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Vysoká čistota propylenu je klíčová pro průmyslové aplikace, zejména v polymeračním procesu, kde stopové nečistoty ovlivňují vlastnosti výsledného polymeru, životnost katalyzátorů a kvalitu produktu. Cílené stanovení sulfidu vodíku, karbonylsulfidu, fosfinu a arsinu v koncentracích až na úrovni jednotek ppb umožňuje efektivní sledování a kontrolu výroby i ochranu katalyzátorů.
Studie se zaměřuje na vývoj jedné analytické metody využívající kolonuu Agilent Select Low Sulfur společně s GC-ICP-MS QQQ (Agilent 7890B GC a 8800 ICP-QQQ) v režimu MS/MS s reakcí kyslíkem. Hlavní cíl spočívá v dosahování spolehlivého rozdělení všech analyzovaných nečistot na jedné kolonné sadě bez změny ladicích podmínek a zároveň v potlačení rušivých interferencí.
Pro separaci analyzovaných plynů byla zvolena 60 m dlouhá kolona Select Low Sulfur (0,32 mm ID) při isotermní teplotě 35 °C s heliovým nosným plynem při tlaku 20 psig. GC byl napojen na ICP-QQQ detektor s použitím Agilent GC-ICP-MS rozhraní. Detekce probíhala v MS/MS masovém posunu (mass-shift) s kyslíkem jako cytochemickým plynem:
Vzorky a standardy byly dodány v plynné formě (PH₃, AsH₃ v rovnovážném H₂; H₂S, COS v Ar) a dynamicky ředěny pomocí vysokopřesnostního restriktorového ředicího systému. Pro korekci posunu retenčních časů v reálné matrici sloužil desetiportový přepínač standardního přídavku (10-port GSV) s následným odvětráním matricového plynu pomocí Deansova přepínače.
Metoda prokázala vynikající detekční limity na úrovni:
Použití kyslíku v ORS minimalizovalo izobarické rušení (např. OO⁺ na m/z 32). Chromatogramy ukázaly, že uhlovodíkové matrice mohou dočasně potlačit signál síry nebo naopak zesílit signál fosfinu vlivem změny plazmové stoichiometrie. Včasné odvětrání matrice zabránilo zanášení kon. rozet a zajišťovalo stabilitu měření.
Jedna separační kolona a jediné ladění pro všechny analyty zvyšují efektivitu laboratorního provozu a snižují dobu analýzy. Metoda umožňuje spolehlivé kvantitativní stanovení nečistot v rozsahu sub-ppb až jednotek ppb, což je klíčové pro predikci životnosti katalyzátorů a zajištění kvality polypropylenu.
Další směřování může zahrnovat:
Použití Agilent Select Low Sulfur kolony spolu s GC-ICP-MS QQQ v režimu MS/MS s kyslíkem umožňuje spolehlivé, citlivé a rychlé stanovení klíčových nečistot v propylenu na úrovni jednotek ppb bez potřeby výměny kolon či ladicích podmínek. Metoda podporuje efektivní řízení kvality a predikci životnosti procesních katalyzátorů.
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
ZaměřeníPrůmysl a chemie
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Vysoká čistota propylenu je klíčová pro průmyslové aplikace, zejména v polymeračním procesu, kde stopové nečistoty ovlivňují vlastnosti výsledného polymeru, životnost katalyzátorů a kvalitu produktu. Cílené stanovení sulfidu vodíku, karbonylsulfidu, fosfinu a arsinu v koncentracích až na úrovni jednotek ppb umožňuje efektivní sledování a kontrolu výroby i ochranu katalyzátorů.
Cíle a přehled studie / článku
Studie se zaměřuje na vývoj jedné analytické metody využívající kolonuu Agilent Select Low Sulfur společně s GC-ICP-MS QQQ (Agilent 7890B GC a 8800 ICP-QQQ) v režimu MS/MS s reakcí kyslíkem. Hlavní cíl spočívá v dosahování spolehlivého rozdělení všech analyzovaných nečistot na jedné kolonné sadě bez změny ladicích podmínek a zároveň v potlačení rušivých interferencí.
Použitá metodika a instrumentace
Pro separaci analyzovaných plynů byla zvolena 60 m dlouhá kolona Select Low Sulfur (0,32 mm ID) při isotermní teplotě 35 °C s heliovým nosným plynem při tlaku 20 psig. GC byl napojen na ICP-QQQ detektor s použitím Agilent GC-ICP-MS rozhraní. Detekce probíhala v MS/MS masovém posunu (mass-shift) s kyslíkem jako cytochemickým plynem:
- H₂S a COS: m/z 32→48, doba snímání 0,4 s
- PH₃: m/z 31→47, doba snímání 0,4 s
- AsH₃: m/z 75→91, doba snímání 0,1 s
Vzorky a standardy byly dodány v plynné formě (PH₃, AsH₃ v rovnovážném H₂; H₂S, COS v Ar) a dynamicky ředěny pomocí vysokopřesnostního restriktorového ředicího systému. Pro korekci posunu retenčních časů v reálné matrici sloužil desetiportový přepínač standardního přídavku (10-port GSV) s následným odvětráním matricového plynu pomocí Deansova přepínače.
Hlavní výsledky a diskuse
Metoda prokázala vynikající detekční limity na úrovni:
- Arsin: 0,05 ppb
- Fosfin: 0,15 ppb
- Karbonylsulfid: 1,9 ppb
- Sulfid vodíku: 2,5 ppb
Použití kyslíku v ORS minimalizovalo izobarické rušení (např. OO⁺ na m/z 32). Chromatogramy ukázaly, že uhlovodíkové matrice mohou dočasně potlačit signál síry nebo naopak zesílit signál fosfinu vlivem změny plazmové stoichiometrie. Včasné odvětrání matrice zabránilo zanášení kon. rozet a zajišťovalo stabilitu měření.
Přínosy a praktické využití metody
Jedna separační kolona a jediné ladění pro všechny analyty zvyšují efektivitu laboratorního provozu a snižují dobu analýzy. Metoda umožňuje spolehlivé kvantitativní stanovení nečistot v rozsahu sub-ppb až jednotek ppb, což je klíčové pro predikci životnosti katalyzátorů a zajištění kvality polypropylenu.
Budoucí trendy a možnosti využití
Další směřování může zahrnovat:
- Optimalizaci pro vyšší průtoky a mega-bore kolony ke snížení detekčních limitů
- Automatizované vzorkování a online monitoring plynné fáze
- Rozšíření aplikačního spektra na jiné průmyslové plyny
- Integraci s pokročilými datovými algoritmy pro prediktivní údržbu a kvalitu výroby
Závěr
Použití Agilent Select Low Sulfur kolony spolu s GC-ICP-MS QQQ v režimu MS/MS s kyslíkem umožňuje spolehlivé, citlivé a rychlé stanovení klíčových nečistot v propylenu na úrovni jednotek ppb bez potřeby výměny kolon či ladicích podmínek. Metoda podporuje efektivní řízení kvality a predikci životnosti procesních katalyzátorů.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
2015|Agilent Technologies|Aplikace
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ Application note Semiconductor and petrochemical Authors William Geiger CONSCI, Ltd., Pasadena, Texas, USA Emmett Soffey, Steve Wilbur and Chris Scanlon Agilent Technologies Inc., USA Introduction Hydride gases, such as phosphine and…
Klíčová slova
sulfide, sulfideicp, icpppb, ppbqqq, qqqgas, gascarbonyl, carbonylcell, cellphosphine, phosphinesilane, silanecos, cosomega, omegahydride, hydrideusing, usingsemiconductor, semiconductorpetrochemical
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
2020|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method Authors Introduction William M. Geiger, Blake McElmurry, Jesus Anguiano1 Mark…
Klíčová slova
germane, germanearsine, arsinephosphine, phosphinesilane, silanesulfide, sulfideicp, icpgas, gashydrogen, hydrogenhydride, hydrideintegration, integrationdopants, dopantsqqq, qqqtime, timegallium, galliumstandard
Agilent ICP-MS Journal (July/August 2015 – Issue 62)
2015|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal July/August 2015 – Issue 62 Inside this Issue 2-3 New! Solution-ready Agilent 7800 ICP-MS 4-5 Sub-ppb Detection Limits for Hydride Gas Contaminants using GC-ICP-QQQ 6 Agilent MAPs: Innovative New Services Benefit Customers in EMEAI 7 Software Tips…
Klíčová slova
icp, icpmaps, mapsagilent, agilentpolyatomic, polyatomicphosphine, phosphinecustomers, customershydride, hydrideqqq, qqqnew, newnanoparticle, nanoparticleemeai, emeaimatrix, matrixmany, manylimits, limitsanalysis
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode