ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS

Ostatní | 2016 | Agilent TechnologiesInstrumentace
GC, ICP/MS, Speciační analýza, ICP/MS/MS
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Vysoká čistota propylenu je klíčová pro průmyslové aplikace, zejména v polymeračním procesu, kde stopové nečistoty ovlivňují vlastnosti výsledného polymeru, životnost katalyzátorů a kvalitu produktu. Cílené stanovení sulfidu vodíku, karbonylsulfidu, fosfinu a arsinu v koncentracích až na úrovni jednotek ppb umožňuje efektivní sledování a kontrolu výroby i ochranu katalyzátorů.

Cíle a přehled studie / článku


Studie se zaměřuje na vývoj jedné analytické metody využívající kolonuu Agilent Select Low Sulfur společně s GC-ICP-MS QQQ (Agilent 7890B GC a 8800 ICP-QQQ) v režimu MS/MS s reakcí kyslíkem. Hlavní cíl spočívá v dosahování spolehlivého rozdělení všech analyzovaných nečistot na jedné kolonné sadě bez změny ladicích podmínek a zároveň v potlačení rušivých interferencí.

Použitá metodika a instrumentace


Pro separaci analyzovaných plynů byla zvolena 60 m dlouhá kolona Select Low Sulfur (0,32 mm ID) při isotermní teplotě 35 °C s heliovým nosným plynem při tlaku 20 psig. GC byl napojen na ICP-QQQ detektor s použitím Agilent GC-ICP-MS rozhraní. Detekce probíhala v MS/MS masovém posunu (mass-shift) s kyslíkem jako cytochemickým plynem:
  • H₂S a COS: m/z 32→48, doba snímání 0,4 s
  • PH₃: m/z 31→47, doba snímání 0,4 s
  • AsH₃: m/z 75→91, doba snímání 0,1 s

Vzorky a standardy byly dodány v plynné formě (PH₃, AsH₃ v rovnovážném H₂; H₂S, COS v Ar) a dynamicky ředěny pomocí vysokopřesnostního restriktorového ředicího systému. Pro korekci posunu retenčních časů v reálné matrici sloužil desetiportový přepínač standardního přídavku (10-port GSV) s následným odvětráním matricového plynu pomocí Deansova přepínače.

Hlavní výsledky a diskuse


Metoda prokázala vynikající detekční limity na úrovni:
  • Arsin: 0,05 ppb
  • Fosfin: 0,15 ppb
  • Karbonylsulfid: 1,9 ppb
  • Sulfid vodíku: 2,5 ppb

Použití kyslíku v ORS minimalizovalo izobarické rušení (např. OO⁺ na m/z 32). Chromatogramy ukázaly, že uhlovodíkové matrice mohou dočasně potlačit signál síry nebo naopak zesílit signál fosfinu vlivem změny plazmové stoichiometrie. Včasné odvětrání matrice zabránilo zanášení kon. rozet a zajišťovalo stabilitu měření.

Přínosy a praktické využití metody


Jedna separační kolona a jediné ladění pro všechny analyty zvyšují efektivitu laboratorního provozu a snižují dobu analýzy. Metoda umožňuje spolehlivé kvantitativní stanovení nečistot v rozsahu sub-ppb až jednotek ppb, což je klíčové pro predikci životnosti katalyzátorů a zajištění kvality polypropylenu.

Budoucí trendy a možnosti využití


Další směřování může zahrnovat:
  • Optimalizaci pro vyšší průtoky a mega-bore kolony ke snížení detekčních limitů
  • Automatizované vzorkování a online monitoring plynné fáze
  • Rozšíření aplikačního spektra na jiné průmyslové plyny
  • Integraci s pokročilými datovými algoritmy pro prediktivní údržbu a kvalitu výroby

Závěr


Použití Agilent Select Low Sulfur kolony spolu s GC-ICP-MS QQQ v režimu MS/MS s kyslíkem umožňuje spolehlivé, citlivé a rychlé stanovení klíčových nečistot v propylenu na úrovni jednotek ppb bez potřeby výměny kolon či ladicích podmínek. Metoda podporuje efektivní řízení kvality a predikci životnosti procesních katalyzátorů.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ Application note Semiconductor and petrochemical Authors William Geiger CONSCI, Ltd., Pasadena, Texas, USA Emmett Soffey, Steve Wilbur and Chris Scanlon Agilent Technologies Inc., USA Introduction Hydride gases, such as phosphine and…
Klíčová slova
sulfide, sulfideicp, icpppb, ppbqqq, qqqgas, gascarbonyl, carbonylcell, cellphosphine, phosphinesilane, silanecos, cosomega, omegahydride, hydrideusing, usingsemiconductor, semiconductorpetrochemical
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
Application Note Semiconductor Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method Authors Introduction William M. Geiger, Blake McElmurry, Jesus Anguiano1 Mark…
Klíčová slova
germane, germanearsine, arsinephosphine, phosphinesilane, silanesulfide, sulfideicp, icpgas, gashydrogen, hydrogenhydride, hydrideintegration, integrationdopants, dopantsqqq, qqqtime, timegallium, galliumstandard
Agilent ICP-MS Journal (July/August 2015 – Issue 62)
Agilent ICP-MS Journal July/August 2015 – Issue 62 Inside this Issue 2-3 New! Solution-ready Agilent 7800 ICP-MS 4-5 Sub-ppb Detection Limits for Hydride Gas Contaminants using GC-ICP-QQQ 6 Agilent MAPs: Innovative New Services Benefit Customers in EMEAI 7 Software Tips…
Klíčová slova
icp, icpmaps, mapsagilent, agilentpolyatomic, polyatomicphosphine, phosphinecustomers, customershydride, hydrideqqq, qqqnew, newnanoparticle, nanoparticleemeai, emeaimatrix, matrixmany, manylimits, limitsanalysis
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
FacebookLinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.