Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using GC-ICP-QQQ
Aplikace | 2015 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Hydridické plyny jako fosfin, arsine, germane, silan, sulfid vodíku a karbonylsulfid představují klíčové kontaminanty v chemických procesech petrochémie i polovodičového průmyslu.
Jejich přítomnost i v ultra-stopových koncentracích může výrazně ovlivnit výkon katalyzátorů, kvalitu polovodičových materiálů a životnost elektronických součástek.
Přesná a reprodukovatelná analýza těchto plynů na sub-ppb úrovních je nezbytná pro optimalizaci výroby, prevenci defektů a maximalizaci efektivity procesů.
Cílem studie bylo vyvinout a validovat vysoce citlivou metodiku pro stanovení hydridických kontaminantů v plynech na detekční meze řádu ppt až sub-ppb.
Metoda kombinuje plynovou chromatografii s trojitým kvadrupólovým ICP-MS (ICP-QQQ) v MS/MS režimu.
Testovány byly analyty: fosfin, arsine, germane, silan, sulfid vodíku a karbonylsulfid.
Vyvinutá metoda nabízí:
Kombinace GC a ICP-QQQ v MS/MS režimu s reaktivními plyny O2 a H2 umožňuje dosáhnout sub-ppb až ppt detekčních mezí pro hydridické plyny.
Metoda významně předčí konvenční GC-ICP-MS a poskytuje spolehlivý nástroj pro kontrolu kvality procesních plynů v petrochemii i polovodičové výrobě.
GC, Speciační analýza, ICP/MS/MS
ZaměřeníPrůmysl a chemie, Polovodiče
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Hydridické plyny jako fosfin, arsine, germane, silan, sulfid vodíku a karbonylsulfid představují klíčové kontaminanty v chemických procesech petrochémie i polovodičového průmyslu.
Jejich přítomnost i v ultra-stopových koncentracích může výrazně ovlivnit výkon katalyzátorů, kvalitu polovodičových materiálů a životnost elektronických součástek.
Přesná a reprodukovatelná analýza těchto plynů na sub-ppb úrovních je nezbytná pro optimalizaci výroby, prevenci defektů a maximalizaci efektivity procesů.
Cíle a přehled studie
Cílem studie bylo vyvinout a validovat vysoce citlivou metodiku pro stanovení hydridických kontaminantů v plynech na detekční meze řádu ppt až sub-ppb.
Metoda kombinuje plynovou chromatografii s trojitým kvadrupólovým ICP-MS (ICP-QQQ) v MS/MS režimu.
Testovány byly analyty: fosfin, arsine, germane, silan, sulfid vodíku a karbonylsulfid.
Použitá metodika a instrumentace
- Chromatografie: Agilent 7890 GC s 100 m kolonkou DB-1 (0,53 mm × 5,0 μm), izotermická separace, izobarická kontrola tlaku (20 psig).
- Vzorkování: 6portový ventil s 400 µL vzorkovací smyčkou, dynamické ředění v helia pomocí tlakového restriktoru.
- Detekce: Agilent 8800 ICP-QQQ s ORS3 octopólovou reakcí buňkou.
- Režimy MS/MS:
- O2 jako reaktivní plyn pro měření produktů PO+ (m/z 47), AsO+ (m/z 91), GeO+ (m/z 90) a SO+ (m/z 48).
- H2 jako reakční plyn pro odstranění interferencí CO+ a N2+ a měření Si+ (m/z 28) přímo na‐mass.
- Plazma: RF výkon 1350 W, hloubka vzorku 8,4 mm, proud argonu 0,85 L/min.
- Tuning: optimalizace napětí extraktů, bias a KED napětí pro oba režimy.
Hlavní výsledky a diskuse
- Detekční meze fosfinu: ~8,7 ppt (2× S/N) a ~19 ppt (7 replikací).
- Multielementová analýza PH3, GeH4, AsH3 dosahuje MDL: 0,012, 0,0038 a 0,0013 ppb (2× S/N) s celkovou integrační dobou pod 1 s.
- H2S a COS MDL v O2 režimu: ~0,11 ppb (2× S/N), 0,21/0,12 ppb (7 replikací).
- SiH4 v H2 režimu: MDL ~0,20 ppb (2× S/N) a ~0,14 ppb (7 replikací), s efektivním odstraněním pozadí při m/z 28.
- Porovnání s GC-ICP-MS (Agilent 7900) ukázalo 5–10× zlepšení DL u fosfinu, sulfidů a silanu v režimu ICP-QQQ.
Přínosy a praktické využití metody
Vyvinutá metoda nabízí:
- Výrazně nižší detekční limity pro kritické kontaminanty.
- Odstranění polyatomických interferencí díky MS/MS a reakční buňce.
- Vysokou reprodukovatelnost a spolehlivost ve složitých matricích.
- Využití v QA/QC petrochemie a polovodičové výrobě pro řízení čistoty plynů a optimalizaci katalyzátorů.
Budoucí trendy a možnosti využití
- Další snižování detekčních mezí pro nové plynové kontaminanty.
- Integrace s online monitorovacími systémy pro kontinuální kontrolu kvality.
- Rozšíření o další reaktivní plyny a sloučeniny ve výzkumu pokročilých procesů.
- Přenosné benchtop systémy pro rychlé terénní analýzy.
Závěr
Kombinace GC a ICP-QQQ v MS/MS režimu s reaktivními plyny O2 a H2 umožňuje dosáhnout sub-ppb až ppt detekčních mezí pro hydridické plyny.
Metoda významně předčí konvenční GC-ICP-MS a poskytuje spolehlivý nástroj pro kontrolu kvality procesních plynů v petrochemii i polovodičové výrobě.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Agilent ICP-MS Journal (July/August 2015 – Issue 62)
2015|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal July/August 2015 – Issue 62 Inside this Issue 2-3 New! Solution-ready Agilent 7800 ICP-MS 4-5 Sub-ppb Detection Limits for Hydride Gas Contaminants using GC-ICP-QQQ 6 Agilent MAPs: Innovative New Services Benefit Customers in EMEAI 7 Software Tips…
Klíčová slova
icp, icpmaps, mapsagilent, agilentpolyatomic, polyatomicphosphine, phosphinecustomers, customershydride, hydrideqqq, qqqnew, newnanoparticle, nanoparticleemeai, emeaimatrix, matrixmany, manylimits, limitsanalysis
Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ
2020|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method Authors Introduction William M. Geiger, Blake McElmurry, Jesus Anguiano1 Mark…
Klíčová slova
germane, germanearsine, arsinephosphine, phosphinesilane, silanesulfide, sulfideicp, icpgas, gashydrogen, hydrogenhydride, hydrideintegration, integrationdopants, dopantsqqq, qqqtime, timegallium, galliumstandard
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS
2016|Agilent Technologies|Ostatní
CHEMICAL & ENERGY ANALYSIS ANALYSIS OF PROPYLENE IMPURITIES USING SELECT LOW SULFUR COLUMN AND SINGLE TUNE WITH GC-ICP-MS QQQ ORS Solutions for Your Analytical Business Markets and Applications Programs Author William M. Geiger Blake McElmurry Jesus Anguiano CONSCI, Ltd. Pasadena,…
Klíčová slova
propylene, propylenesulfide, sulfidearsine, arsinephosphine, phosphinetune, tunesulfur, sulfurmarkets, marketscarbonyl, carbonylpropane, propaneanalyte, analyteselect, selectmatrix, matrixmcelmurry, mcelmurrysingle, singleblake