ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ

Aplikace | 2018 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Ultrašetrné stanovení stopových hladin fosforu, síry, křemíku a chlóru je klíčové pro kontrolu kvality ultračistých vod a chemikálií v polovodičovém průmyslu a dalších high-tech odvětvích. Při koncentracích v rozsahu pg/L (ppt) se zvyšují nároky na potlačení polyatomových interferencí, minimalizaci kontaminace a dosažení co nejnižších detekčních limitů.

Cíle a přehled studie / článku


Cílem studie bylo ověřit výkonnost druhé generace Agilent 8900 ICP-QQQ při analýze P, S, Si a Cl v ultračisté vodě (UPW) a P, S, Si v peroxidu vodíku nejvyšší čistoty. Důraz byl kladen na potlačení spektrálních interferencí, stanovení pozadí ekvivalentních koncentrací (BEC) a dosažení sub-ppt detekčních limitů (DL).

Použitá metodika a instrumentace


Pro každou skupinu prvků byla zvolena vhodná reakční buňka a plynný reaktant:
  • O2 mass-shift pro S (32→48) a P (31→47) reagující s O2 na SO+ a PO+.
  • H2 on-mass režim pro Si (28→28) k odstranění N2+ a CO+ interferencí.
  • H2 mass-shift režim pro Cl (35→37) sekvenčními reakcemi Cl+→ClH+→ClH2+.
  • Průtoky plynů v reakční buňce, napětí na optických prvcích a axiální akcelerace byly optimalizovány pro maximální citlivost a potlačení rušení.
  • Příprava vzorků: vzorky UPW a H2O2 byly analýzou standardních přídavků (MSA) kalibrovány na úrovni nízkých ppt s použitím čistých standardů a alkalického proplachu TMAH.

Hlavní výsledky a diskuse


  • Kalibrace ukázaly vysokou linearitu (R²>0,999) pro všechny analyty v rozsahu sub-ppt až jednotek ppb.
  • BEC v UPW: P 10,5 ppt, S 75,4 ppt, Si 259 ppt, Cl 1,83 ppb; v H2O2: P 16,2 ppt, S 244 ppt, Si 492 ppt.
  • Detekční limity (3σ, 1 s integrace) v UPW: P 3,3 ppt, S 5,5 ppt, Si 14,7 ppt, Cl 0,28 ppb; v H2O2: P 2,3 ppt, S 12,5 ppt, Si 18,8 ppt.
  • MS/MS režim s předfiltrací v Q1 a Q2 zajistil selektivní měření produktových iontů bez rušení i v přítomnosti konkurenčních matic.

Přínosy a praktické využití metody


  • Možnost sledovat nepolární ne-kovové prvky na ultranízkých úrovních v procesech produkce ultračisté vody a chemikálií.
  • Vysoká spolehlivost při kontrole kvality polovodičových materiálů a nástrojů.
  • Minimalizace falešně pozitivních signálů díky selektivní reakční chemii a optimalizované detekci.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se rozšíření aplikací ICP-QQQ do analýzy dalších obtížných prvků a biomolekul, integrace automatizovaných systémů pro kontinuální online monitoring, využití v environmentální analýze a vývoj prediktivních algoritmů pro automatickou optimalizaci reakčních režimů.

Závěr


Agilent 8900 ICP-QQQ prokázal schopnost potlačit hlavní polyatomové rušení a dosáhnout dosud nejnižších BEC a DL pro P, S, Si a Cl v ultračistých matricích. Metoda MS/MS s O2 a H2 v reakční buňce poskytuje robustní a reprodukovatelnou platformu pro ultra-trace analýzu v průmyslových i výzkumných aplikacích.

Reference


  1. Agilent 8800 ICP-QQQ Application Handbook, 2015, publ. 5991-2802EN.
  2. Fernández S. D., Sugiyama N., Encinar J. R., Sanz-Medel A., Triple Quad ICP-QQQ as a New Tool for Absolute Quantitative Proteomics and Phosphoproteomics, Anal. Chem., 2012, 84, 5851-5857.
  3. Sugiyama N., Trace level analysis of sulfur, phosphorus, silicon and chlorine in NMP using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS, Agilent application note, 2013, 5991-2303EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Application Note Semiconductor Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions Meeting single- and sub-ppt guideline levels for ASTM/SEMI elements in ultrapure water using an Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Kazuhiro Sakai and Yoshinori Shimamura Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductorppt, pptbecs, becsdls, dlselements, elementsicp, icpultratrace, ultratracebec, becplasma, plasmaeie, eiecontaminants, contaminantsastm, astmupw, upwbackgrounds, backgroundssemi
Agilent ICP-MS Journal (December 2016 – Issue 67)
Agilent ICP-MS Journal (December 2016 – Issue 67)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal December 2016 – Issue 67 Inside this Issue 2-3 Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Sulfuric Acid and Hydrogen Peroxide using ICP-QQQ 4-5 Sulfur Isotope Ratio Analysis in Mineral Waters using ICP-QQQ 5 Environmental Inorganic…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqsulfur, sulfurppt, pptmineral, mineralelements, elementsisotope, isotopeagilent, agilentsulfuric, sulfuricsemiconductor, semiconductortestimonial, testimonialeuropean, europeantrace, tracebias, biaswater
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.