Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ
Aplikace | 2018 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Ultrašetrné stanovení stopových hladin fosforu, síry, křemíku a chlóru je klíčové pro kontrolu kvality ultračistých vod a chemikálií v polovodičovém průmyslu a dalších high-tech odvětvích. Při koncentracích v rozsahu pg/L (ppt) se zvyšují nároky na potlačení polyatomových interferencí, minimalizaci kontaminace a dosažení co nejnižších detekčních limitů.
Cílem studie bylo ověřit výkonnost druhé generace Agilent 8900 ICP-QQQ při analýze P, S, Si a Cl v ultračisté vodě (UPW) a P, S, Si v peroxidu vodíku nejvyšší čistoty. Důraz byl kladen na potlačení spektrálních interferencí, stanovení pozadí ekvivalentních koncentrací (BEC) a dosažení sub-ppt detekčních limitů (DL).
Pro každou skupinu prvků byla zvolena vhodná reakční buňka a plynný reaktant:
Očekává se rozšíření aplikací ICP-QQQ do analýzy dalších obtížných prvků a biomolekul, integrace automatizovaných systémů pro kontinuální online monitoring, využití v environmentální analýze a vývoj prediktivních algoritmů pro automatickou optimalizaci reakčních režimů.
Agilent 8900 ICP-QQQ prokázal schopnost potlačit hlavní polyatomové rušení a dosáhnout dosud nejnižších BEC a DL pro P, S, Si a Cl v ultračistých matricích. Metoda MS/MS s O2 a H2 v reakční buňce poskytuje robustní a reprodukovatelnou platformu pro ultra-trace analýzu v průmyslových i výzkumných aplikacích.
ICP/MS, ICP/MS/MS
ZaměřeníPolovodiče
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Ultrašetrné stanovení stopových hladin fosforu, síry, křemíku a chlóru je klíčové pro kontrolu kvality ultračistých vod a chemikálií v polovodičovém průmyslu a dalších high-tech odvětvích. Při koncentracích v rozsahu pg/L (ppt) se zvyšují nároky na potlačení polyatomových interferencí, minimalizaci kontaminace a dosažení co nejnižších detekčních limitů.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem studie bylo ověřit výkonnost druhé generace Agilent 8900 ICP-QQQ při analýze P, S, Si a Cl v ultračisté vodě (UPW) a P, S, Si v peroxidu vodíku nejvyšší čistoty. Důraz byl kladen na potlačení spektrálních interferencí, stanovení pozadí ekvivalentních koncentrací (BEC) a dosažení sub-ppt detekčních limitů (DL).
Použitá metodika a instrumentace
Pro každou skupinu prvků byla zvolena vhodná reakční buňka a plynný reaktant:
- O2 mass-shift pro S (32→48) a P (31→47) reagující s O2 na SO+ a PO+.
- H2 on-mass režim pro Si (28→28) k odstranění N2+ a CO+ interferencí.
- H2 mass-shift režim pro Cl (35→37) sekvenčními reakcemi Cl+→ClH+→ClH2+.
- Průtoky plynů v reakční buňce, napětí na optických prvcích a axiální akcelerace byly optimalizovány pro maximální citlivost a potlačení rušení.
- Příprava vzorků: vzorky UPW a H2O2 byly analýzou standardních přídavků (MSA) kalibrovány na úrovni nízkých ppt s použitím čistých standardů a alkalického proplachu TMAH.
Hlavní výsledky a diskuse
- Kalibrace ukázaly vysokou linearitu (R²>0,999) pro všechny analyty v rozsahu sub-ppt až jednotek ppb.
- BEC v UPW: P 10,5 ppt, S 75,4 ppt, Si 259 ppt, Cl 1,83 ppb; v H2O2: P 16,2 ppt, S 244 ppt, Si 492 ppt.
- Detekční limity (3σ, 1 s integrace) v UPW: P 3,3 ppt, S 5,5 ppt, Si 14,7 ppt, Cl 0,28 ppb; v H2O2: P 2,3 ppt, S 12,5 ppt, Si 18,8 ppt.
- MS/MS režim s předfiltrací v Q1 a Q2 zajistil selektivní měření produktových iontů bez rušení i v přítomnosti konkurenčních matic.
Přínosy a praktické využití metody
- Možnost sledovat nepolární ne-kovové prvky na ultranízkých úrovních v procesech produkce ultračisté vody a chemikálií.
- Vysoká spolehlivost při kontrole kvality polovodičových materiálů a nástrojů.
- Minimalizace falešně pozitivních signálů díky selektivní reakční chemii a optimalizované detekci.
Budoucí trendy a možnosti využití
Očekává se rozšíření aplikací ICP-QQQ do analýzy dalších obtížných prvků a biomolekul, integrace automatizovaných systémů pro kontinuální online monitoring, využití v environmentální analýze a vývoj prediktivních algoritmů pro automatickou optimalizaci reakčních režimů.
Závěr
Agilent 8900 ICP-QQQ prokázal schopnost potlačit hlavní polyatomové rušení a dosáhnout dosud nejnižších BEC a DL pro P, S, Si a Cl v ultračistých matricích. Metoda MS/MS s O2 a H2 v reakční buňce poskytuje robustní a reprodukovatelnou platformu pro ultra-trace analýzu v průmyslových i výzkumných aplikacích.
Reference
- Agilent 8800 ICP-QQQ Application Handbook, 2015, publ. 5991-2802EN.
- Fernández S. D., Sugiyama N., Encinar J. R., Sanz-Medel A., Triple Quad ICP-QQQ as a New Tool for Absolute Quantitative Proteomics and Phosphoproteomics, Anal. Chem., 2012, 84, 5851-5857.
- Sugiyama N., Trace level analysis of sulfur, phosphorus, silicon and chlorine in NMP using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS, Agilent application note, 2013, 5991-2303EN.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
2022|Agilent Technologies|Příručky
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
2021|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions Meeting single- and sub-ppt guideline levels for ASTM/SEMI elements in ultrapure water using an Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Kazuhiro Sakai and Yoshinori Shimamura Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductorppt, pptbecs, becsdls, dlselements, elementsicp, icpultratrace, ultratracebec, becplasma, plasmaeie, eiecontaminants, contaminantsastm, astmupw, upwbackgrounds, backgroundssemi
Agilent ICP-MS Journal (December 2016 – Issue 67)
2016|Agilent Technologies|Ostatní
Agilent ICP-MS Journal December 2016 – Issue 67 Inside this Issue 2-3 Determination of Ultra Trace Elements in High Purity Sulfuric Acid and Hydrogen Peroxide using ICP-QQQ 4-5 Sulfur Isotope Ratio Analysis in Mineral Waters using ICP-QQQ 5 Environmental Inorganic…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqsulfur, sulfurppt, pptmineral, mineralelements, elementsisotope, isotopeagilent, agilentsulfuric, sulfuricsemiconductor, semiconductortestimonial, testimonialeuropean, europeantrace, tracebias, biaswater