Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Aplikace | 2018 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Purita procesních chemikálií, jako je ultrapure voda a peroxid vodíku, je v polovodičové výrobě zásadní pro dosažení vysokého výtěžku a spolehlivosti čipů. I velmi nízké úrovně kovových a organických nečistot mohou ovlivnit elektrické vlastnosti a zkrátit životnost zařízení. Metody schopné detekovat stopové prvky na úrovni jednotek ppt proto hrají klíčovou roli v kontrolách kvality.
Cílem studie bylo vyvinout plně automatizovaný postup pro kvantifikaci ultratrace prvků v demineralizované vodě a polovodičové kvalitě H2O2. Kombinací systému prepFAST S pro automatickou přípravu a kalibraci vzorků s ICP-QQQ Agilent 8900 v režimu MS/MS bylo možné dosáhnout nejnižších detekčních limitů a minimalizovat riziko kontaminace při manuální manipulaci.
Metodika vychází z automatického ředění, acidifikace (0,5 % HNO3 u H2O2), přídavku standardních přídavků (MSA) a následné analýzy v multi-tune režimu. Pro odstranění polyatomových interferencí se využívají různé plynné fáze (He, H2, O2, NH3) v reakcní buňce ICP-QQQ, optimalizované pro každý prvek. Všechny kroky přípravy a analýzy probíhají v čisté laboratoři třídy 10 000.
Kalibrace pro prvky Na, K, Si, P, S a kovové stopové prvky prokázaly výbornou lineární odezvu v rozsahu 10–50 ppt. V DI vodě bylo dosaženo detekčních limitů <1 ppt pro 46 prvků, u Si, P a S na single-ppt úrovni. V 35 % H2O2 byly podobné výsledky, pouze B a Si překročily 10 ppt. Všechny hodnoty spadají do limitů specifikovaných normou SEMI C30-1110 pro Grade 5.
Automatizace eliminovala manuální kroky, čímž omezila riziko kontaminace a chyb při pipetování. Celková doba analýzy včetně kalibrace nepřesáhla 30 minut. Jeden přístrojový běh pokryl všechny požadované prvky, což zvyšuje efektivitu a spolehlivost QA/QC kontrol v průmyslových laboratořích.
Dalším krokem je integrace takto automatizované přípravy vzorků přímo na výrobních linkách, rozšíření na vyšší throughput a adaptace na další kritické chemikálie. Vývoj plně autonomních laboratoří zároveň podpoří konzistenci dat a zrychlí odezvu na nové požadavky procesů.
Spojení Agilent 8900 ICP-QQQ s ESI prepFAST S poskytuje robustní řešení pro ultratrace analýzu polovodičových chemikálií. Metoda splňuje přísné normy SEMI pro stopové prvky v ultrapure vodě i H2O2 a zkracuje dobu analýzy při minimalizaci kontaminace.
ICP/MS, ICP/MS/MS
ZaměřeníPolovodiče
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Purita procesních chemikálií, jako je ultrapure voda a peroxid vodíku, je v polovodičové výrobě zásadní pro dosažení vysokého výtěžku a spolehlivosti čipů. I velmi nízké úrovně kovových a organických nečistot mohou ovlivnit elektrické vlastnosti a zkrátit životnost zařízení. Metody schopné detekovat stopové prvky na úrovni jednotek ppt proto hrají klíčovou roli v kontrolách kvality.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem studie bylo vyvinout plně automatizovaný postup pro kvantifikaci ultratrace prvků v demineralizované vodě a polovodičové kvalitě H2O2. Kombinací systému prepFAST S pro automatickou přípravu a kalibraci vzorků s ICP-QQQ Agilent 8900 v režimu MS/MS bylo možné dosáhnout nejnižších detekčních limitů a minimalizovat riziko kontaminace při manuální manipulaci.
Použitá metodika a instrumentace
Metodika vychází z automatického ředění, acidifikace (0,5 % HNO3 u H2O2), přídavku standardních přídavků (MSA) a následné analýzy v multi-tune režimu. Pro odstranění polyatomových interferencí se využívají různé plynné fáze (He, H2, O2, NH3) v reakcní buňce ICP-QQQ, optimalizované pro každý prvek. Všechny kroky přípravy a analýzy probíhají v čisté laboratoři třídy 10 000.
Použitá instrumentace
- ICP-QQQ Agilent 8900 v semikonfiguraci s PFA koncentrickou nebulizací
- ESI prepFAST S automatizovaný systém pro mřížkované ředění, acidifikaci a MSA kalibraci
- Peltierem chlazená křemenná spray komora a hořák (2,5 mm id)
- Platinové sampling a skimmer kužely, s-lens
Hlavní výsledky a diskuse
Kalibrace pro prvky Na, K, Si, P, S a kovové stopové prvky prokázaly výbornou lineární odezvu v rozsahu 10–50 ppt. V DI vodě bylo dosaženo detekčních limitů <1 ppt pro 46 prvků, u Si, P a S na single-ppt úrovni. V 35 % H2O2 byly podobné výsledky, pouze B a Si překročily 10 ppt. Všechny hodnoty spadají do limitů specifikovaných normou SEMI C30-1110 pro Grade 5.
Přínosy a praktické využití metody
Automatizace eliminovala manuální kroky, čímž omezila riziko kontaminace a chyb při pipetování. Celková doba analýzy včetně kalibrace nepřesáhla 30 minut. Jeden přístrojový běh pokryl všechny požadované prvky, což zvyšuje efektivitu a spolehlivost QA/QC kontrol v průmyslových laboratořích.
Budoucí trendy a možnosti využití
Dalším krokem je integrace takto automatizované přípravy vzorků přímo na výrobních linkách, rozšíření na vyšší throughput a adaptace na další kritické chemikálie. Vývoj plně autonomních laboratoří zároveň podpoří konzistenci dat a zrychlí odezvu na nové požadavky procesů.
Závěr
Spojení Agilent 8900 ICP-QQQ s ESI prepFAST S poskytuje robustní řešení pro ultratrace analýzu polovodičových chemikálií. Metoda splňuje přísné normy SEMI pro stopové prvky v ultrapure vodě i H2O2 a zkracuje dobu analýzy při minimalizaci kontaminace.
Reference
- SEMI C30-1110, Specifications for hydrogen peroxide, 2010
- Kazuo Yamanaka, Determination of ultra trace elements in high purity hydrogen peroxide with Agilent 8900 ICP-QQQ, Agilent 2016, 5991-7701EN
- Kazumi Nakano, Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ, Agilent 2016, 5991-6852EN
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
2021|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions Meeting single- and sub-ppt guideline levels for ASTM/SEMI elements in ultrapure water using an Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Kazuhiro Sakai and Yoshinori Shimamura Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductorppt, pptbecs, becsdls, dlselements, elementsicp, icpultratrace, ultratracebec, becplasma, plasmacontaminants, contaminantseie, eieastm, astmupw, upwbackgrounds, backgroundssemi
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
2022|Agilent Technologies|Příručky
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol
2022|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol Online calibration using the IAS Automated Standard Addition System (ASAS) Authors Kazuhiro Sakai and Katsuo Mizobuchi Agilent Technologies, Japan Riro Kobayashi IAS Inc, Japan Introduction Contamination control is…
Klíčová slova
asas, asasspike, spikemsa, msasemiconductor, semiconductorultratrace, ultratraceplasma, plasmastandard, standardcell, cellautomated, automatedias, iasonline, onlinegas, gasflow, flowsample, samplerate