ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

APWC: Analysis of Organic Solvent Samples by Automatic Standard Addition Method using ASAS-ICP-MS/MS

Postery | 2017 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Průmysl a chemie
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Analýza stopových kovů v organických rozpouštědlech, jako je isopropylalkohol IPA, je klíčová pro zajištění kvality a spolehlivosti výrobních procesů v polovodičovém průmyslu.
Udržení úrovně kontaminantů pod požadovanými limity, například SEMI C41-0705 (<100 ppt), minimalizuje defekty na křemíkových waferech a zvyšuje výtěžnost výroby.
Automatizace tohoto procesu snižuje riziko kontaminace a lidské chyby.

Cíle a přehled studie


Cílem studie bylo kvantifikovat ultratrace množství kovových nečistot v IPA pomocí metody standardního přídavku (MSA) v kombinaci s automatizovaným systémem ASAS a trojčtvercovým ICP-MS/MS Agilent 8900.
Výzkum se zaměřil na:
  • Ověření schopnosti ASAS automatizovat přípravu standardních přídavků bez ohledu na zkušenosti operátora.
  • Hodnocení detekčních limitů a ekvivalentů obsahu v pozadí (BEC) pro 48 prvků.

Použitá metodika a instrumentace


Vzorkem byl elektronický grade IPA stabilizovaný 1 % kyselinou dusičnou.
Automatizovaný systém ASAS:
  • Automatické měření průtoku pomocí dvou optických senzorů a bublinové techniky.
  • Výpočet objemu standardního roztoku 1 ppb potřebného pro požadované koncentrační přírůstky.
  • Dodání standardu do vzorku prostřednictvím stříkačkového čerpadla a mixovacího bloku.

ICP-MS/MS Agilent 8900:
  • Skleněný koaxiální nebulizér, Peltier chlazená komůrka, křemenná hořáková trubice a platinové kužele.
  • Vyhodnocení interferencí s použitím plynů Ar, O2, NH3, He a H2 v CRC.

Hlavní výsledky a diskuse


Bylo změřeno 48 prvků s detekčními limity od 0,005 do 0,78 ng/L a hodnotami BEC od 0,002 do 6,4 ng/L.
Odstranění interferencí:
  • 24Mg: potlačení interference 12C12C+ v teplém plazmatu s NH3 (BEC 0,082 ng/L, DL 0,020 ng/L).
  • 27Al a 52Cr: úspěšné potlačení interferencí pomocí NH3 a O2.
  • 31P: měřeno v režimu He+O2, linearita 5–50 ppt, BEC 43 ng/L, DL 2,6 ng/L.

Přínosy a praktické využití metody

  • Vysoká úroveň automatizace snižuje riziko kontaminace a chybné manipulace.
  • Reprodukovatelné stanovení ultratrace prvků bez závislosti na operátorovi.
  • Dosažené limity detekce překračují požadavky SEMI C41-0705 pro IPA.

Budoucí trendy a možnosti využití


Další rozvoj může zahrnovat rozšíření metodiky na jiná rozpouštědla, plně integrované automatizační platformy s umělou inteligencí a aplikace v environmentálním a farmaceutickém odvětví.

Závěr


ASAS v kombinaci s Agilent 8900 ICP-MS/MS poskytuje robustní a vysoce automatizovaný přístup k analýze stopových kovů v IPA na úrovni sub-ppt. Eliminace manuálních kroků zvyšuje přesnost, snižuje riziko kontaminace a zlepšuje důvěryhodnost dat.

Reference

  • SEMI C41-0705 Specifications and Guidelines for 2-Propanol (2005).
  • J. Takahashi, K. Mizobuchi, Asia Pacific Winter Conference on Plasma Spectroscopy (2008).
  • K. Mizobuchi, N. Yamada, M. Yukinari, The Japan Society for Analytical Chemistry, 74th Touronkai (2014).
  • K. Mizobuchi, N. Yamada, M. Yukinari, The Japan Society for Analytical Chemistry, 66th Nenkai (2017).

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol
Application Note Semiconductor Automated Analysis of Ultratrace Elemental Impurities in Isopropyl Alcohol Online calibration using the IAS Automated Standard Addition System (ASAS) Authors Kazuhiro Sakai and Katsuo Mizobuchi Agilent Technologies, Japan Riro Kobayashi IAS Inc, Japan Introduction Contamination control is…
Klíčová slova
asas, asasspike, spikemsa, msasemiconductor, semiconductorultratrace, ultratraceplasma, plasmastandard, standardcell, cellautomated, automatedias, iasonline, onlinegas, gasflow, flowsample, samplerate
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ
Application Note Semiconductor Automated Analysis of Semiconductor Grade Hydrogen Peroxide and DI Water using ICP-QQQ Online MSA calibration using prepFAST S automated sample introduction and Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Kazuhiro Sakai Agilent Technologies, Japan Austin Schultz Elemental Scientific, USA Introduction…
Klíčová slova
gas, gasprepfast, prepfastcool, coolsemiconductor, semiconductoricp, icpelements, elementsbec, becmsa, msaautomated, automatedqqq, qqqconc, concultratrace, ultratraceupw, upwsample, sampletune
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.