Technical Overview and Performance Capability of the Agilent 7900s ICP-MS for Semiconductor Applications

Význam tématu

Metoda ICP MS poskytuje vysoce citlivou analýzu stopových prvků v chemikáliích pro polovodičový průmysl Přesná detekce na úrovni ng na litr podporuje kvalitu výroby a minimalizuje riziko závad v polovodičových součástkách

Cíle a přehled studie / článku

Článek podává technický přehled a výkonnostní charakteristiku ICP MS přístroje Agilent 7900s Optimalizace pro polovodičové aplikace zahrnuje pokročilé metody potlačení interferencí a zlepšenou stabilitu plazmatu

Použitá metodika a instrumentace

• Agilent 7900s ICP MS s octopolovou reakcni celou ORS4 pro kinetickou energetickou diskriminaci a reakci s plyny He H₂ NH₃
• PFA nebulizér Pt interfés a s typem iontoveho objektivu pro zvyseni iontove prenosnosti
• Frekvenčně laděný RF generator pro stabilni provoz ve vysoce prchavych organických rozpouštědlech
• Organics torch s výmenníkem pro analyzu IPA a dalsich rozpouštědel
• Software MassHunter s autokalibraci optimalizovanou pro ultracisté reagencie a modul IntelliQuant pro rychlé hodnoceni celkoveho složení vzorku

Hlavní výsledky a diskuse

V 1 procentu HNO₃ dosahuje většina prvků detekční meze kolem 0 1 ng l (ppt) nebo níže Podmínky cool plasma redukují intenzivni pozadove signaly pro Na K Ca Fe a zlepsuji detekcni mez až 50 násobně Reakce s vodikem H₂ odstraňuje polyatomicke interferénce N₂ pro stanovení Si a dusikove zbytky Pro koncentrace HCl byl efektivně odstraněn ClO přechod při stanovení V pomocí NH₃ buněčného plynu Dlouhodobá stabilita signalu v 9 hodinových testech byla v rozmezí ±5 procent RSD

Přínosy a praktické využití metody

• Vysoce nízké pozadové koncentrace a detekční meze umožňují rychlé a spolehlivé monitorování procesních chemikálií
• Univerzální přístup k organickým rozpouštědlům včetně IPA bez ztráty stability plazmatu
• Jednoduchá rutina údržby a kompaktní konstrukce vhodná do čistých prostor
• Automaticke ladeni a preset metody zkracují dobu přípravy a minimalizují chyby obsluhy

Budoucí trendy a možnosti využití

Zaměření na další vylepšení selektivních reakcí v buněčných systémech Rozšíření reakční chemie pro cílené potlačení specifických interferencí Využití strojového učení k optimalizaci provozních parametrů a prediktivní údržbě Integrace s online monitorováním procesních toků a miniaturizace pro nasazení v mikroplynulých systémech

Závěr

Agilent 7900s představuje kompaktní robustní řešení pro polovodičový průmysl Vysoká citlivost flexibilita provozu cool plasma a pokročilá buněčná chemie přispívají k spolehlivému stanovení ultrastopových prvků v širokém spektru chemikálií Analytická preciznost podpořená softwarem MassHunter a jednoduchá obsluha zvyšují efektivitu laboratorních procesů

Reference

• Agilent Technologies Technical Overview and Performance Capability of the Agilent 7900s ICP MS for Semiconductor Applications White Paper 2020