ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Agilent ICP-MS Journal (November 2022, Issue 90)

Ostatní | 2022 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Průmysl a chemie, Farmaceutická analýza, Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Rychlý rozvoj alternativních zdrojů bílkovin a stále přísnější požadavky na čistotu chemikálií v polovodičovém průmyslu vyžadují citlivé a spolehlivé metody pro stanovení stopových prvků, těžkých kovů a kovových nanopartikulí. ICP-MS a ICP-QQQ techniky s výkonným ovládacím a datovým softwarem MassHunter představují klíčový nástroj pro zajištění kvality surovin a výrobků.

Cíle a přehled studie / článku

  • Popis aplikace US FDA EAM 4.7 pro multielementární analýzu těžkých kovů a stopových prvků v alternativních bílkovinách (rostlinných, houbových, hmyzí a kultivovaném masu).
  • Představení nové verze softwaru Agilent ICP-MS MassHunter v. 5.2 a jejích klíčových funkcí pro řízení přístrojů a analýzu dat.
  • Ukázka ultratrace analýzy rozpuštěných i částicových kontaminantů v n-methyl-2-pyrrolidonu (NMP) pro polovodičové aplikace.
  • Popis inovací v chromatografické kalibraci (multi-injekční CIC) a funkce normalizace měřených prvků na 100 % pro LA-ICP-MS.

Použitá metodika a instrumentace

  • ICP-MS a ICP-QQQ (Agilent 7850, 7900, 8900) pro stanovení rozpuštěných prvků a spICP-MS pro analýzu kovových nanopartiklí.
  • Mikrovlnná digesce vzorků pro potravinářské a média pro kultivaci buněk.
  • HPLC/GC interfaced s ICP-MS MassHunter v. 5.2, vč. modulů pro multi-injekční CIC a sumaci dat na 100 %.
  • Laserová ablace spojená s ICP-MS pro prostorovou distribuci stopových prvků.

Hlavní výsledky a diskuse

  • Validace EAM 4.7 na Agilent 7850 pro alternativní proteiny pro 48hodinový provoz s opakovatelnými výsledky a vysokou spolehlivostí výkonu.
  • Multielementární spICP-MS analýza 14 kovových prvků v nanopartiklech v různých stupních čistoty NMP potvrdila účinné rozlišení a kvantifikaci i při ultranízkých koncentracích.
  • Rozšíření počtu hmotností pro sNP analýzu bez limitu prvků v jedné vzorkové lahvičce.
  • Multi-injekční CIC kalibrace umožňuje škálovat odezvu prvku z různých sloučenin měřených v samostatných vzorcích.
  • Funkce normalizace na 100 % pro LA-ICP-MS zajišťuje přesnější korekci variability ablačního výtěžku bez nutnosti matricově vázaných standardů.

Přínosy a praktické využití metody

  • Uplatnění validovaných ICP-MS postupů při kontrole kvality potravinových inovací a médii pro kultivované maso.
  • Možnost monitoringu ultracistých chemikálií a polovodičových rozpouštědel pod aktuálními požadavky SEMI.
  • Zvýšená flexibilita analýzy v chromatografii, nanopartiklech i laserové ablaci díky pokročilému softwaru.

Budoucí trendy a možnosti využití

  • Další rozvoj integrovaných softwarových modulů pro automatizované vyhodnocování nanopartikulí a spektrálních interferencí.
  • Návrh nových průmyslových standardů pro ultranízké limity kontaminantů v ekosystémech potravin i polovodičů.
  • Využití umělé inteligence pro prediktivní údržbu přístrojů a optimalizaci analytických protokolů.

Závěr


Nová verze softwaru MassHunter v. 5.2 společně s rozšířenými metodami ICP-MS a ICP-QQQ poskytuje pokročilé nástroje pro spolehlivou multi-elementární a nanopartikulární analýzu v různých odvětvích od potravinářství po polovodiče. Inovativní funkce CIC a normalizace na 100 % významně zefektivňují kalibraci a vyhodnocení dat i tam, kde chybí vhodné referenční materiály.

Reference

  • Patrick J. Gray, William R. Mindak, John Cheng, US FDA Elemental Analysis Manual, 4.7, Final version 1.2 (February 2020)
  • Determination of Heavy Metals and Trace Elements in Alternative Meats Per EAM 4.7 Method for ICP-MS, Agilent publication 5994-5181EN
  • SEMI F104 – Test Method for Evaluation of Particle Contribution of Components Used in Ultrapure Water and Liquid Chemical Distribution Systems
  • SEMI C33-0213 – Specifications for n-Methyl-2-Pyrrolidone (2013)
  • High-purity Solvent and Acid, FujiFilm Wako Pure Chemical Corporation
  • Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-QQQ, Agilent publication 5994-5365EN

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS
Application Note Semiconductor Elemental and Particle Analysis of N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP) by ICP-MS/MS Analysis of dissolved and particulate inorganic impurities in two grades of NMP using the Agilent 8900 ICP-QQQ Author Introduction Yoshinori Shimamura Ideally, analytical quality control (QC) testing procedures…
Klíčová slova
nmp, nmpppt, pptgrade, gradeicp, icpparticle, particlenanoparticle, nanoparticleconc, concsemiconductor, semiconductorgrades, gradeselements, elementsimpurities, impuritiesgas, gasnps, npsfabs, fabsindustry
WCPS: Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2- Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method
Yoshinori Shimamuraand Satoshi Kondo Particle Analysis of Two High Purity Grades of N-Methyl-2Pyrrolidone (NMP) using Single Particle (sp)ICP-MS/MS Method Agilent Technologies, Inc., Tokyo, Japan Sample analysis performed in collaboration with Kakeru Usuba, Naoki Katano, and Takao Shibasaki EWCPS 2023 Th…
Klíčová slova
nps, npsnmp, nmpelement, elementspicp, spicpparticle, particletra, traicp, icpgrade, gradefast, fastnebulization, nebulizationnanoparticle, nanoparticleparticles, particlesdistribution, distributiondiscriminaton, discriminatonkondo
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS brochure
Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS brochure
2024|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Leave Interferences Behind With MS/MS. Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Put Your ICP-MS Results Beyond Doubt Reliable interference removal is easier to achieve with the 2nd generation Agilent 8900 ICP-QQQ. In 2012, Agilent released the Agilent 8800, the world’s first…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnanoparticle, nanoparticlecps, cpsions, ionsmasshunter, masshuntercell, cellparticle, particlesingle, singleagilent, agilentanalysis, analysisintegrated, integratedreaction, reactioninterferences, interferencessemiconductor
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.