Analysis of High Purity Titanium Using an Agilent 9500 ICP-QQQ
Aplikace | 2026 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Analýza stopových nečistot v titanu vysoké čistoty je klíčová pro průmysly náročné na kvalitu materiálů, především polovodičový a letecký. I stopové množství cizorodých prvků může ovlivnit vlastnosti sputterovacích terčů, strukturu tenkých vrstev a mechanickou integritu součástí. Metody s extrémně nízkými detekčními limity a účinným potlačením spektrálních interferencí jsou proto nezbytné pro validaci materiálů s čistotou nad 99,99 %.
Cílem práce bylo ověřit schopnost Agilent 9500 ICP-QQQ (triple quadrupole ICP-MS) vybaveného m-lens a Dual-Cell System CRC pro kvantifikaci stopových kovových nečistot v modelovém roztoku titanu (200 ppm Ti), reprezentujícím typická vzorky z výroby. Studie hodnotila potlačení Ti-způsobených interferencí (Ti2+, TiO+, hydridy), přesnost (spike-recovery), reprodukovatelnost a dlouhodobou stabilitu při sekvenční analýze.
Postup šel podle ASTM E2371-21a: 1 g Ti prášku bylo rozpuštěno v kombinaci HCl, HF a HNO3, zahříváno a výsledný 1 % Ti roztok byl dále naředěn na 200 ppm Ti. Kalibrace proběhla metodou standardního přídavku (MSA) na blanku i v Ti matrici. K ověření přesnosti byly provedeny spike recoveries (přídavky před digescí) a kontrolní vzorky měřeny periodicky v sekvenci; vzorky A a B byly měřeny v 10 opakováních. K hodnocení interferences byly analyzovány více izotopy (např. 24,25,26Mg).
Seznam hlavních použitých komponentů a zařízení:
Analýza ukázala, že použití režimu MS/MS s řízenou reakcí v CRC efektivně potlačilo Ti2+ a TiO+ interferencí na klíčové analyty (Na, Mg, Cu, Zn). Konkrétní závěry:
Metoda založená na 9500 ICP-QQQ nabízí robustní řešení pro rutinní kontrolu kvality titanu vysoké čistoty:
Možnosti dalšího rozvoje a nasazení:
Studie prokázala, že Agilent 9500 ICP-QQQ s m-lens a Dual-Cell CRC je efektivní a spolehlivý nástroj pro ultrastopovou analýzu kovových nečistot v titanu vysoké čistoty. Řízená reakční chemie, MS/MS režim a optimalizovaná geometrie m-lens umožňují potlačit hlavní Ti-způsobené interference a dosáhnout přesných výsledků s nízkými DL a vysokou reprodukovatelností, což je klíčové pro aplikace v polovodičovém a leteckém průmyslu.
ICP/MS, ICP/MS/MS
ZaměřeníMateriálová analýza
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Analýza stopových nečistot v titanu vysoké čistoty je klíčová pro průmysly náročné na kvalitu materiálů, především polovodičový a letecký. I stopové množství cizorodých prvků může ovlivnit vlastnosti sputterovacích terčů, strukturu tenkých vrstev a mechanickou integritu součástí. Metody s extrémně nízkými detekčními limity a účinným potlačením spektrálních interferencí jsou proto nezbytné pro validaci materiálů s čistotou nad 99,99 %.
Cíle a přehled studie / článku
Cílem práce bylo ověřit schopnost Agilent 9500 ICP-QQQ (triple quadrupole ICP-MS) vybaveného m-lens a Dual-Cell System CRC pro kvantifikaci stopových kovových nečistot v modelovém roztoku titanu (200 ppm Ti), reprezentujícím typická vzorky z výroby. Studie hodnotila potlačení Ti-způsobených interferencí (Ti2+, TiO+, hydridy), přesnost (spike-recovery), reprodukovatelnost a dlouhodobou stabilitu při sekvenční analýze.
Použitá metodika
Postup šel podle ASTM E2371-21a: 1 g Ti prášku bylo rozpuštěno v kombinaci HCl, HF a HNO3, zahříváno a výsledný 1 % Ti roztok byl dále naředěn na 200 ppm Ti. Kalibrace proběhla metodou standardního přídavku (MSA) na blanku i v Ti matrici. K ověření přesnosti byly provedeny spike recoveries (přídavky před digescí) a kontrolní vzorky měřeny periodicky v sekvenci; vzorky A a B byly měřeny v 10 opakováních. K hodnocení interferences byly analyzovány více izotopy (např. 24,25,26Mg).
Použitá instrumentace
Seznam hlavních použitých komponentů a zařízení:
- Agilent 9500 ICP-QQQ s Dual-Cell CRC a volitelným m-lens
- I-AS autosampler, software Agilent OpenLab ICP-MS verze 1.1
- MicroFlow PFA nebulizér s I‑AS sondou (self-aspiration), teplotně řízená křišťálová spray komora
- Quartz torch s 2,5 mm ID injektorem
- Platinový sampler cone (Pt tip, Cu base) a platinový skimmer cone (Pt tip, Ni base) určený pro m-lens
- Reakční plyny: H2 a směs NH3 + H2 (NH3 10 % v He; v práci použit NH3 proud ~8 mL/min při 80 % nastavení)
Hlavní výsledky a diskuse
Analýza ukázala, že použití režimu MS/MS s řízenou reakcí v CRC efektivně potlačilo Ti2+ a TiO+ interferencí na klíčové analyty (Na, Mg, Cu, Zn). Konkrétní závěry:
- Mass‑shift přístup snížil background equivalent concentration (BEC) u Cu ze 125 ppt (on‑mass) na 104 ppt (mass‑shift), což přispělo ke zvýšení spolehlivosti kvantifikace.
- Pro Zn byl izotop 68Zn měřitelný on‑mass s velmi nízkým BEC (~14 ppt), protože TiO signál na tomto massu je relativně malý.
- Mg byl potvrzen přítomností v prášku (cca 8 ppm), přičemž BEC hodnoty pro 24,25,26Mg ~1.6 ppb a shoda mezi izotopy potvrdila úspěšné odstranění Ti2+ interferencí.
- Suma koncentrací detekovaných kovových nečistot po korekci BEC činila přibližně 31 ppm v původním prášku, tedy <0,01 %; výsledky jsou v souladu se specifikací >99,99 %.
- Spike recoveries většiny prvků byly v rozmezí ±10 % s RSD typicky 1–3 % (vše <5 %), což dokládá přesnost a reprodukovatelnost metody.
- Interní standard (In) zůstal stabilní v průběhu ~3 hodin v rozmezí 90–120 %, QC recoveries byly většinou v ±10 % (vše < ±20 %), což potvrzuje dlouhodobou stabilitu a robustnost měření.
Přínosy a praktické využití metody
Metoda založená na 9500 ICP-QQQ nabízí robustní řešení pro rutinní kontrolu kvality titanu vysoké čistoty:
- Schopnost měřit stopové prvky v přítomnosti vysoké Ti matrice díky MS/MS a řízené chemii v buňce.
- Ultralehké BEC/DL (ppt úrovně) umožňují ověřit shodu s přísnými průmyslovými standardy.
- Vysoká reprodukovatelnost a dlouhodobá stabilita vhodná pro výrobní sekvence a výzkumné laboratoře.
- Možnost automatického přepínání režimů (H2 vs. NH3+H2) pro optimalizaci potlačení různých interferencí během jedné analýzy.
Budoucí trendy a možnosti využití
Možnosti dalšího rozvoje a nasazení:
- Další optimalizace průtoku NH3/H2 pro dosažení nižších DL při analýze materiálů s čistotou 99,999 % a vyšší.
- Rozšíření přístupu na jiné vysokomatricové materiály (Cu, Si, slitinové systémy) s využitím m-lens a Dual-Cell CRC.
- Integrace s čistými laboratorními workflow pro snížení kontaminací při přípravě vzorků a dosažení nižších BEC.
- Automatizace kalibrace a kontroly kvality pro vysokokapacitní výrobní kontexty, včetně adaptivního řízení reakcí v CRC na základě spektra signálů v reálném čase.
Závěr
Studie prokázala, že Agilent 9500 ICP-QQQ s m-lens a Dual-Cell CRC je efektivní a spolehlivý nástroj pro ultrastopovou analýzu kovových nečistot v titanu vysoké čistoty. Řízená reakční chemie, MS/MS režim a optimalizovaná geometrie m-lens umožňují potlačit hlavní Ti-způsobené interference a dosáhnout přesných výsledků s nízkými DL a vysokou reprodukovatelností, což je klíčové pro aplikace v polovodičovém a leteckém průmyslu.
Reference
- Sugiyama N., Nakano K. Reaction data for 70 elements using O2, NH3 and H2 with the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS. Agilent Technologies publication, 5991-4585EN.
- Sugiyama N. Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ. Agilent Technologies publication, 5994-0383EN.
- Ying Y. Analysis of Ultratrace Impurities in High Silicon Matrix Samples by ICP-QQQ. Agilent Technologies publication, 5994-2890EN.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Agilent 9500 ICP‑QQQ with m‑Lens for Ultratrace Analysis of High‑Purity Reagents
2026|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductors Agilent 9500 ICP‑QQQ with m‑Lens for Ultratrace Analysis of High‑Purity Reagents Achieving low backgrounds under hot plasma conditions using ICP-QQQ preset methods Author Rentaro Yamashita Agilent Technologies, Inc. Introduction Controlling trace-metal contaminants is essential in both semiconductor…
Klíčová slova
ahm, ahmultratrace, ultratraceppt, pptgas, gasautotuned, autotunedlens, lenselements, elementsomega, omegamin, minbec, becpreset, presetdls, dlsplatinum, platinumpurity, purityqqq
The Agilent 9500 ICP-MS
2026|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS Introduction | 9500 | Design | DCS | Performance | OpenLab | Automation Are Interferences Impacting Your Trace Element Analysis? Do you face growing pressure to deliver faster, interference-free…
Klíčová slova
ahm, ahmicp, icpair, airmode, modeadvanced, advancedhelium, heliumview, viewsingle, singleyour, yourbec, beccell, celldcs, dcsinterference, interferencedual, dualppt
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpcps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS
2026|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS Introduction | 9500 | Design | DCS | Performance | OpenLab | Automation Are Interferences Impacting Your Trace Element Analysis? Do you face growing pressure to deliver faster, interference-free…
Klíčová slova
ahm, ahmicp, icpair, airmode, modeadvanced, advancedhelium, heliumyour, yourview, viewdcs, dcssingle, singlecell, cellinterference, interferenceeffortless, effortlessdual, dualbec