ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Analysis of High Purity Titanium Using an Agilent 9500 ICP-QQQ

Aplikace | 2026 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Materiálová analýza
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Analýza stopových nečistot v titanu vysoké čistoty je klíčová pro průmysly náročné na kvalitu materiálů, především polovodičový a letecký. I stopové množství cizorodých prvků může ovlivnit vlastnosti sputterovacích terčů, strukturu tenkých vrstev a mechanickou integritu součástí. Metody s extrémně nízkými detekčními limity a účinným potlačením spektrálních interferencí jsou proto nezbytné pro validaci materiálů s čistotou nad 99,99 %.


Cíle a přehled studie / článku


Cílem práce bylo ověřit schopnost Agilent 9500 ICP-QQQ (triple quadrupole ICP-MS) vybaveného m-lens a Dual-Cell System CRC pro kvantifikaci stopových kovových nečistot v modelovém roztoku titanu (200 ppm Ti), reprezentujícím typická vzorky z výroby. Studie hodnotila potlačení Ti-způsobených interferencí (Ti2+, TiO+, hydridy), přesnost (spike-recovery), reprodukovatelnost a dlouhodobou stabilitu při sekvenční analýze.


Použitá metodika


Postup šel podle ASTM E2371-21a: 1 g Ti prášku bylo rozpuštěno v kombinaci HCl, HF a HNO3, zahříváno a výsledný 1 % Ti roztok byl dále naředěn na 200 ppm Ti. Kalibrace proběhla metodou standardního přídavku (MSA) na blanku i v Ti matrici. K ověření přesnosti byly provedeny spike recoveries (přídavky před digescí) a kontrolní vzorky měřeny periodicky v sekvenci; vzorky A a B byly měřeny v 10 opakováních. K hodnocení interferences byly analyzovány více izotopy (např. 24,25,26Mg).


Použitá instrumentace


Seznam hlavních použitých komponentů a zařízení:


  • Agilent 9500 ICP-QQQ s Dual-Cell CRC a volitelným m-lens
  • I-AS autosampler, software Agilent OpenLab ICP-MS verze 1.1
  • MicroFlow PFA nebulizér s I‑AS sondou (self-aspiration), teplotně řízená křišťálová spray komora
  • Quartz torch s 2,5 mm ID injektorem
  • Platinový sampler cone (Pt tip, Cu base) a platinový skimmer cone (Pt tip, Ni base) určený pro m-lens
  • Reakční plyny: H2 a směs NH3 + H2 (NH3 10 % v He; v práci použit NH3 proud ~8 mL/min při 80 % nastavení)

Hlavní výsledky a diskuse


Analýza ukázala, že použití režimu MS/MS s řízenou reakcí v CRC efektivně potlačilo Ti2+ a TiO+ interferencí na klíčové analyty (Na, Mg, Cu, Zn). Konkrétní závěry:


  • Mass‑shift přístup snížil background equivalent concentration (BEC) u Cu ze 125 ppt (on‑mass) na 104 ppt (mass‑shift), což přispělo ke zvýšení spolehlivosti kvantifikace.
  • Pro Zn byl izotop 68Zn měřitelný on‑mass s velmi nízkým BEC (~14 ppt), protože TiO signál na tomto massu je relativně malý.
  • Mg byl potvrzen přítomností v prášku (cca 8 ppm), přičemž BEC hodnoty pro 24,25,26Mg ~1.6 ppb a shoda mezi izotopy potvrdila úspěšné odstranění Ti2+ interferencí.
  • Suma koncentrací detekovaných kovových nečistot po korekci BEC činila přibližně 31 ppm v původním prášku, tedy <0,01 %; výsledky jsou v souladu se specifikací >99,99 %.
  • Spike recoveries většiny prvků byly v rozmezí ±10 % s RSD typicky 1–3 % (vše <5 %), což dokládá přesnost a reprodukovatelnost metody.
  • Interní standard (In) zůstal stabilní v průběhu ~3 hodin v rozmezí 90–120 %, QC recoveries byly většinou v ±10 % (vše < ±20 %), což potvrzuje dlouhodobou stabilitu a robustnost měření.

Přínosy a praktické využití metody


Metoda založená na 9500 ICP-QQQ nabízí robustní řešení pro rutinní kontrolu kvality titanu vysoké čistoty:


  • Schopnost měřit stopové prvky v přítomnosti vysoké Ti matrice díky MS/MS a řízené chemii v buňce.
  • Ultralehké BEC/DL (ppt úrovně) umožňují ověřit shodu s přísnými průmyslovými standardy.
  • Vysoká reprodukovatelnost a dlouhodobá stabilita vhodná pro výrobní sekvence a výzkumné laboratoře.
  • Možnost automatického přepínání režimů (H2 vs. NH3+H2) pro optimalizaci potlačení různých interferencí během jedné analýzy.

Budoucí trendy a možnosti využití


Možnosti dalšího rozvoje a nasazení:


  • Další optimalizace průtoku NH3/H2 pro dosažení nižších DL při analýze materiálů s čistotou 99,999 % a vyšší.
  • Rozšíření přístupu na jiné vysokomatricové materiály (Cu, Si, slitinové systémy) s využitím m-lens a Dual-Cell CRC.
  • Integrace s čistými laboratorními workflow pro snížení kontaminací při přípravě vzorků a dosažení nižších BEC.
  • Automatizace kalibrace a kontroly kvality pro vysokokapacitní výrobní kontexty, včetně adaptivního řízení reakcí v CRC na základě spektra signálů v reálném čase.

Závěr


Studie prokázala, že Agilent 9500 ICP-QQQ s m-lens a Dual-Cell CRC je efektivní a spolehlivý nástroj pro ultrastopovou analýzu kovových nečistot v titanu vysoké čistoty. Řízená reakční chemie, MS/MS režim a optimalizovaná geometrie m-lens umožňují potlačit hlavní Ti-způsobené interference a dosáhnout přesných výsledků s nízkými DL a vysokou reprodukovatelností, což je klíčové pro aplikace v polovodičovém a leteckém průmyslu.


Reference


  1. Sugiyama N., Nakano K. Reaction data for 70 elements using O2, NH3 and H2 with the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS. Agilent Technologies publication, 5991-4585EN.
  2. Sugiyama N. Analysis of Ultratrace Impurities in High Purity Copper using the Agilent 8900 ICP-QQQ. Agilent Technologies publication, 5994-0383EN.
  3. Ying Y. Analysis of Ultratrace Impurities in High Silicon Matrix Samples by ICP-QQQ. Agilent Technologies publication, 5994-2890EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Agilent 9500 ICP‑QQQ with m‑Lens for Ultratrace Analysis of High‑Purity Reagents
Application Note Semiconductors Agilent 9500 ICP‑QQQ with m‑Lens for Ultratrace Analysis of High‑Purity Reagents Achieving low backgrounds under hot plasma conditions using ICP-QQQ preset methods Author Rentaro Yamashita Agilent Technologies, Inc. Introduction Controlling trace-metal contaminants is essential in both semiconductor…
Klíčová slova
ahm, ahmultratrace, ultratraceppt, pptgas, gasautotuned, autotunedlens, lenselements, elementsomega, omegamin, minbec, becpreset, presetdls, dlsplatinum, platinumpurity, purityqqq
The Agilent 9500 ICP-MS
The Agilent 9500 ICP-MS
2026|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS Introduction | 9500 | Design | DCS | Performance | OpenLab | Automation Are Interferences Impacting Your Trace Element Analysis? Do you face growing pressure to deliver faster, interference-free…
Klíčová slova
ahm, ahmicp, icpair, airmode, modeadvanced, advancedhelium, heliumview, viewsingle, singleyour, yourbec, beccell, celldcs, dcsinterference, interferencedual, dualppt
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpcps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS
2026|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS Introduction | 9500 | Design | DCS | Performance | OpenLab | Automation Are Interferences Impacting Your Trace Element Analysis? Do you face growing pressure to deliver faster, interference-free…
Klíčová slova
ahm, ahmicp, icpair, airmode, modeadvanced, advancedhelium, heliumyour, yourview, viewdcs, dcssingle, singlecell, cellinterference, interferenceeffortless, effortlessdual, dualbec
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
FacebookLinkedInYouTube
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.