Agilent 9500 ICP‑QQQ with m‑Lens for Ultratrace Analysis of High‑Purity Reagents
Aplikace | 2026 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Význam tématu
Kontrola stopových kovů v ultrachistých chemikáliích (např. HNO3, H2SO4) je kritická pro polovodičový průmysl a pro charakterizaci kovových materiálů. Požadavky na limit detekce často spadají do sub‑ppt oblasti při zachování robustnosti měření a reprodukovatelnosti. Metody, které umožní spolehlivé stanovení za „hot plasma“ podmínek a současně potlačí pozadí a polyatomické interfereny, jsou proto zásadní pro QA/QC a výzkum v tomto odvětví.
Cíle a přehled studie
Studie hodnotí výkon Agilent 9500 Triple Quadrupole ICP‑MS vybaveného m‑lensem a Dual‑Cell System (DCS) pro analýzu ultrachistých reagencií. Cílem bylo ověřit, zda lze pomocí přednastavených metod (UPW a H2SO4 preset) dosáhnout sub‑ppt limitů detekce (DL) a nízkých background equivalent concentrations (BEC) při analýze 1 % HNO3 a 9.8 % H2SO4. Důraz byl kladen na jednoduchost zavedení metody a na schopnost potlačit typické polyatomické interferencí matice (zejména sirové interferenty při stanovení Zn).
Použitá metodika
- Vzorky: ultrapure water (UPW), 1 % HNO3 (ředěné), 9.8 % H2SO4 (ředěné z high‑purity kyseliny).
- Kalibrace: vícebodová externí kalibrace (0, 5, 10, 20, 30 ng/kg = ppt) v maticově odpovídajícím roztoku; DL definován jako 3× standardní odchylka blanku z pěti replik; BEC vypočteno jako poměr průměrného blank signálu a kalibračního směřování (slope).
- Použité plyny/tuny: provoz v režimech no gas, Advanced Helium Mode (AHM), O2, NH3 a H2; pro H2SO4 byly navíc speciální tune pro Pt a Zn. Preset metody automaticky optimalizovaly makeup plyn a Omega lens napětí tak, aby byl CeO/Ce ~1–3 %.
Použitá instrumentace
- Agilent 9500 ICP‑QQQ s opcí m‑lens a Dual‑Cell System (DCS).
- Agilent I‑AS autosampler a OpenLab ICP‑MS SW verze 1.1.
- Vstřikování vzorku: MicroFlow PFA nebulizér s I‑AS sondou v self‑aspiration režimu (~200 µL/min), teplotně řízená křemenná sprchová komora, křemenná hořáková trubice s 2.5 mm id injektorem.
- Konusy: sampler cone s platinovou špičkou na měděném sedle; skimmer cone s platinovou špičkou na niklovém sedle (pro m‑lens).
- Režimy měření: jednokanálové i MS/MS nastavení, využití DCS a AHM pro potlačení interferencí.
Hlavní výsledky a diskuse
- Linearita: pro všechny sledované prvky byla dosažena v kalibračních rozsazích vysoká linearita (r > 0.99).
- Limity detekce a pozadí: většina analyzovaných prvků vykázala sub‑ppt DL a nízké BEC jak v 1 % HNO3, tak v 9.8 % H2SO4. DL byly získány z pěti replik jednoho blanku a BEC spočítány vůči kalibračnímu směřování.
- Příklad klíčového výsledku: Zn ve 9.8 % H2SO4 — použitím DCS v AHM spolu se Zn‑specifickým tune nastavením byla dosažena DL 0.64 ppt a BEC 0.89 ppt, což ilustruje účinné potlačení sirových polyatomických interferencí (32S32S, 32S34S atd.).
- Další poznatky: automatická optimalizace Omega lens a makeup plynu zajistila stabilní poměr CeO/Ce ~1–3 %, což svědčí o stabilitě plazmy a reprodukovatelnosti iontových podmínek i při „hot plasma“ režimu. Některé prvky byly v blanku nedetekovatelné (ND), což rovněž potvrzuje nízké úrovně pozadí.
Přínosy a praktické využití metody
- Robustnost a jednoduchost: přednastavené metody usnadňují nasazení rutinních ultrastopových analýz v laboratořích, které nepotřebují nejnižší možné DL pro každý prvek, ale požadují konzistentní nízké pozadí a vysokou reprodukovatelnost.
- Řešení interferencí: kombinace DCS a AHM umožňuje účinné potlačení argonových a maticových polyatomických interferencí, což je rozhodující při analýze prvků, které se měří na m/z postižených sirovými nebo jinými polyatomy (např. Zn v H2SO4).
- Aplikace: kontrola čistoty polovodičových chemikálií, kontrola kovových digesátů a další high‑purity procesy, kde jsou požadovány sub‑ppt úrovně zaručené jak bezpodmínečnou citlivostí, tak opakovatelností měření.
Budoucí trendy a možnosti využití
- Další snižování pozadí: pokračující vývoj lencí (m‑lens / s‑lens) a optimalizace DCS by mohl posunout praktické DL ještě níže, zejména pro konkurenceschopné konfigurace jako 8900 s s‑lensem pro extrémní potřeby.
- Rozšíření přednastavených metod: více přednastavených tune‑setů pro různé matice (např. silně síranové, chlórované) a prvky (např. Pt group metals) usnadní nasazení v průmyslových laboratořích.
- Automatizace a QA/QC integrace: další automatizace přípravy kalibrací, blanků a kontrolních vzorků s přímou validací výsledků pro výrobní linky polovodičů.
- Aplikace v metal‑matrix analýzách: kombinace robustnosti m‑lens a DCS je vhodná i pro náročné digesáty kovů, kde se očekávají vysoké matice a nutnost efektivního odstraňování interferencí.
Závěr
Agilent 9500 ICP‑QQQ vybavený m‑lens a DCS prokázal schopnost provádět ultrastopovou analýzu vysoce čistých reagencií s sub‑ppt DL a nízkými BEC i při „hot plasma“ podmínkách. Přednastavené metody pro UPW a H2SO4 zjednodušují implementaci, zatímco kombinace AHM a DCS efektivně potlačuje maticové interferency (ukázáno na Zn v H2SO4). Přístroj je vhodný pro rutinní ultrastopové aplikace v průmyslových i výzkumných laboratořích, které vyžadují vyváženost mezi citlivostí a provozní robustností.
Reference
1. Sugiyama N. Dual‑Cell System (DCS) and Advanced Helium Mode (AHM), Agilent publication, 5994‑8985EN.
2. Yamashita R. Analysis of High Purity Titanium Using an Agilent 9500 ICP‑QQQ, Agilent publication, 5994‑9024EN.
3. Sakai K., Shimamura Y. Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP‑QQQ with Hot Plasma Conditions, Agilent publication, 5994‑4025EN.
ICP/MS, ICP/MS/MS
ZaměřeníPolovodiče
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Shrnutí: Agilent 9500 ICP‑QQQ s m‑lens pro ultrastopové stanovení nečistot v vysoce čistých činidlech
Význam tématu
Kontrola stopových kovů v ultrachistých chemikáliích (např. HNO3, H2SO4) je kritická pro polovodičový průmysl a pro charakterizaci kovových materiálů. Požadavky na limit detekce často spadají do sub‑ppt oblasti při zachování robustnosti měření a reprodukovatelnosti. Metody, které umožní spolehlivé stanovení za „hot plasma“ podmínek a současně potlačí pozadí a polyatomické interfereny, jsou proto zásadní pro QA/QC a výzkum v tomto odvětví.
Cíle a přehled studie
Studie hodnotí výkon Agilent 9500 Triple Quadrupole ICP‑MS vybaveného m‑lensem a Dual‑Cell System (DCS) pro analýzu ultrachistých reagencií. Cílem bylo ověřit, zda lze pomocí přednastavených metod (UPW a H2SO4 preset) dosáhnout sub‑ppt limitů detekce (DL) a nízkých background equivalent concentrations (BEC) při analýze 1 % HNO3 a 9.8 % H2SO4. Důraz byl kladen na jednoduchost zavedení metody a na schopnost potlačit typické polyatomické interferencí matice (zejména sirové interferenty při stanovení Zn).
Použitá metodika
- Vzorky: ultrapure water (UPW), 1 % HNO3 (ředěné), 9.8 % H2SO4 (ředěné z high‑purity kyseliny).
- Kalibrace: vícebodová externí kalibrace (0, 5, 10, 20, 30 ng/kg = ppt) v maticově odpovídajícím roztoku; DL definován jako 3× standardní odchylka blanku z pěti replik; BEC vypočteno jako poměr průměrného blank signálu a kalibračního směřování (slope).
- Použité plyny/tuny: provoz v režimech no gas, Advanced Helium Mode (AHM), O2, NH3 a H2; pro H2SO4 byly navíc speciální tune pro Pt a Zn. Preset metody automaticky optimalizovaly makeup plyn a Omega lens napětí tak, aby byl CeO/Ce ~1–3 %.
Použitá instrumentace
- Agilent 9500 ICP‑QQQ s opcí m‑lens a Dual‑Cell System (DCS).
- Agilent I‑AS autosampler a OpenLab ICP‑MS SW verze 1.1.
- Vstřikování vzorku: MicroFlow PFA nebulizér s I‑AS sondou v self‑aspiration režimu (~200 µL/min), teplotně řízená křemenná sprchová komora, křemenná hořáková trubice s 2.5 mm id injektorem.
- Konusy: sampler cone s platinovou špičkou na měděném sedle; skimmer cone s platinovou špičkou na niklovém sedle (pro m‑lens).
- Režimy měření: jednokanálové i MS/MS nastavení, využití DCS a AHM pro potlačení interferencí.
Hlavní výsledky a diskuse
- Linearita: pro všechny sledované prvky byla dosažena v kalibračních rozsazích vysoká linearita (r > 0.99).
- Limity detekce a pozadí: většina analyzovaných prvků vykázala sub‑ppt DL a nízké BEC jak v 1 % HNO3, tak v 9.8 % H2SO4. DL byly získány z pěti replik jednoho blanku a BEC spočítány vůči kalibračnímu směřování.
- Příklad klíčového výsledku: Zn ve 9.8 % H2SO4 — použitím DCS v AHM spolu se Zn‑specifickým tune nastavením byla dosažena DL 0.64 ppt a BEC 0.89 ppt, což ilustruje účinné potlačení sirových polyatomických interferencí (32S32S, 32S34S atd.).
- Další poznatky: automatická optimalizace Omega lens a makeup plynu zajistila stabilní poměr CeO/Ce ~1–3 %, což svědčí o stabilitě plazmy a reprodukovatelnosti iontových podmínek i při „hot plasma“ režimu. Některé prvky byly v blanku nedetekovatelné (ND), což rovněž potvrzuje nízké úrovně pozadí.
Přínosy a praktické využití metody
- Robustnost a jednoduchost: přednastavené metody usnadňují nasazení rutinních ultrastopových analýz v laboratořích, které nepotřebují nejnižší možné DL pro každý prvek, ale požadují konzistentní nízké pozadí a vysokou reprodukovatelnost.
- Řešení interferencí: kombinace DCS a AHM umožňuje účinné potlačení argonových a maticových polyatomických interferencí, což je rozhodující při analýze prvků, které se měří na m/z postižených sirovými nebo jinými polyatomy (např. Zn v H2SO4).
- Aplikace: kontrola čistoty polovodičových chemikálií, kontrola kovových digesátů a další high‑purity procesy, kde jsou požadovány sub‑ppt úrovně zaručené jak bezpodmínečnou citlivostí, tak opakovatelností měření.
Budoucí trendy a možnosti využití
- Další snižování pozadí: pokračující vývoj lencí (m‑lens / s‑lens) a optimalizace DCS by mohl posunout praktické DL ještě níže, zejména pro konkurenceschopné konfigurace jako 8900 s s‑lensem pro extrémní potřeby.
- Rozšíření přednastavených metod: více přednastavených tune‑setů pro různé matice (např. silně síranové, chlórované) a prvky (např. Pt group metals) usnadní nasazení v průmyslových laboratořích.
- Automatizace a QA/QC integrace: další automatizace přípravy kalibrací, blanků a kontrolních vzorků s přímou validací výsledků pro výrobní linky polovodičů.
- Aplikace v metal‑matrix analýzách: kombinace robustnosti m‑lens a DCS je vhodná i pro náročné digesáty kovů, kde se očekávají vysoké matice a nutnost efektivního odstraňování interferencí.
Závěr
Agilent 9500 ICP‑QQQ vybavený m‑lens a DCS prokázal schopnost provádět ultrastopovou analýzu vysoce čistých reagencií s sub‑ppt DL a nízkými BEC i při „hot plasma“ podmínkách. Přednastavené metody pro UPW a H2SO4 zjednodušují implementaci, zatímco kombinace AHM a DCS efektivně potlačuje maticové interferency (ukázáno na Zn v H2SO4). Přístroj je vhodný pro rutinní ultrastopové aplikace v průmyslových i výzkumných laboratořích, které vyžadují vyváženost mezi citlivostí a provozní robustností.
Reference
1. Sugiyama N. Dual‑Cell System (DCS) and Advanced Helium Mode (AHM), Agilent publication, 5994‑8985EN.
2. Yamashita R. Analysis of High Purity Titanium Using an Agilent 9500 ICP‑QQQ, Agilent publication, 5994‑9024EN.
3. Sakai K., Shimamura Y. Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP‑QQQ with Hot Plasma Conditions, Agilent publication, 5994‑4025EN.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Analysis of High Purity Titanium Using an Agilent 9500 ICP-QQQ
2026|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Materials Testing & Research Analysis of High Purity Titanium Using an Agilent 9500 ICP-QQQ Ensuring purity and performance of titanium materials used in high-tech industries Author Introduction Rentaro Yamashita Importance of high-purity titanium and the role of ICP-QQQ…
Klíčová slova
titanium, titaniumpurity, purityppt, pptspike, spikeinterferences, interferencestech, techbackground, backgroundqqq, qqqhigh, highicp, icpmatrix, matrixpowder, powderwere, weresignals, signalstio
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
2021|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Semiconductor Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions Meeting single- and sub-ppt guideline levels for ASTM/SEMI elements in ultrapure water using an Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Kazuhiro Sakai and Yoshinori Shimamura Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductorppt, pptbecs, becsdls, dlselements, elementsicp, icpultratrace, ultratracebec, becplasma, plasmaeie, eiecontaminants, contaminantsastm, astmupw, upwbackgrounds, backgroundssemi
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpcps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
The Agilent 9500 ICP-MS
2026|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
The Easiest Smart Decision You Can Make The Agilent 9500 ICP-MS Introduction | 9500 | Design | DCS | Performance | OpenLab | Automation Are Interferences Impacting Your Trace Element Analysis? Do you face growing pressure to deliver faster, interference-free…
Klíčová slova
ahm, ahmicp, icpair, airmode, modeadvanced, advancedhelium, heliumview, viewsingle, singleyour, yourbec, beccell, celldcs, dcsinterference, interferencedual, dualppt