ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Agilent ICP-MS Journal (April 2020, Issue 80)

Ostatní | 2020 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Software, ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


Časopis Agilent ICP-MS Journal (duben 2020) shrnuje nejnovější poznatky a technologické novinky v oblasti hmotnostní spektrometrie a optické emisní spektrometrie založené na plazmě. Poskytuje uživatelům profesionální podklady pro udržení špičkové kvality dat, představuje důležité aplikace, nové softwarové nástroje a podpůrné systémy, které minimalizují riziko kontaminace a optimalizují provoz přístrojů Agilent.

Cíle a přehled článku


Hlavním cílem vydání je:
  • Udržet podpůrné a vzdělávací zdroje pro uživatele ICP-MS a ICP-QQQ v době distančního provozu.
  • Poukázat na význam ultrapure vody (UPW) v analýze chemikálií pro polovodičový průmysl.
  • Představit nové funkce softwaru MassHunter verze 4.6 včetně IntelliQuant a vylepšené analýzy nanopartiklových signálů.
  • Informovat o dění na konferenci Winter Conference on Plasma Spectrochemistry 2020.
  • Ukázat nové obsahové zdroje v ICP-MS Resource Hub a nadcházející webináře pro zlepšení kvality dat.

Použitá metodika a instrumentace


Ve studii a aplikačních poznámkách byly využity tyto přístroje a metody:
  • ICP-QQQ (Agilent 8900) pro měření stopových prvků v ultracisté vodě a stanovení detekčních limitů na sub-ppt úrovni.
  • Integrovaný autosampler Agilent I-AS s orgánově navrženým průtokovým rinse portem napojeným na systém Organo Puric ω.
  • ICP-MS MassHunter Software verze 4.6 – nový modul IntelliQuant pro rychlý semikvantitativní screening a flexibilní nastavení bin size u nanopartiklových analýz.
  • Další systémy Agilent: 7800, 7900 a 7700 ICP-MS, 8800 ICP-QQQ, 5800 a 5900 ICP-OES.

Hlavní výsledky a diskuse


Významné poznatky a závěry:
  • Průtokový rinse port zajišťuje stabilní pozadí bez boru (B) v UPW, který se při odběru z lahve postupně zvyšuje vlivem laboratorní kontaminace.
  • IntelliQuant automatizuje semikvantitativní vyhodnocení Quick Scan dat bez nutnosti samostatné kalibrace, nabízí heat-map zobrazení a identifikaci potenciálních interferencí.
  • Nová funkce váženého bin size v nanopartiklové analýze zlepšuje vizualizaci distribuce signálů, zejména u velkých rozptylů signálových intenzit.
  • Konference v Tucsonu potvrdila rostoucí zájem o ICP-MS techniky pro single cell, bioimaging a isotopové studie, přičemž triple quadrupole ICP-MS zůstává klíčovou platformou.
  • Rozšířený ICP-MS Resource Hub a Atomic Spectroscopy Learning Hub nabídnou bezplatné e-learningové kurzy a výběr vhodných kovových kuželů pro různé aplikace.

Přínosy a praktické využití metody


Implementace průtokového rinse portu minimalizuje carry-over a zajišťuje reprodukovatelné blank hodnoty.
Modul IntelliQuant zjednodušuje denní rutinní analýzu, odhaluje interferenční jevy a podporuje rychlé rozhodování v QA/QC laboratořích.
Vylepšené nástroje pro analýzu nanopartiklů usnadňují vývoj nových produktů v oblasti nanomateriálů a biologického výzkumu.
Aktualizace online zdrojů a webináře podporují kontinuální rozvoj kompetencí uživatelů ICP-MS.

Budoucí trendy a možnosti využití


Očekává se další rozšíření triple quadrupole ICP-MS metod pro speciační analýzy a farmaceutické aplikace.
Automatizace pomocí cloudových platforem a umělé inteligence rozšíří možnosti prediktivní údržby a optimalizace provozu.
Rostoucí zájem o single cell a single nanoparticle analýzy otevře nové cesty v proteomice, environmentálních studiích a nano-toxikologii.
Vývoj ultrapure voda systémů nabídne ještě nižší blank hodnoty pro nejcitlivější aplikace v polovodičovém i farmaceutickém průmyslu.

Závěr


Dubnové vydání Agilent ICP-MS Journal představuje soubor praktických řešení, inovací a vzdělávacích nástrojů, které podporují efektivní a spolehlivou analytickou praxi. Klíčové přínosy zahrnují stabilní blanky v ultrapure vodě, automatizované screeningové funkce v softwaru MassHunter, vylepšenou analýzu nanopartikelů a bohaté online zdroje pro kontinuální odborný rozvoj.

Reference


  • Agilent Application note 5994-1561EN: Elemental Impurity Analysis of Sterile Artificial Tear Eye Drops Following USP <232>/<233> and ICH Q3D/Q2(R1) Protocols on the Agilent 7900 ICP-MS
  • Agilent Application note 5994-1785EN: Direct Analysis of Ultratrace Rare Earth Elements in Environmental Waters by ICP-QQQ
  • Agilent Application brief 5994-1747EN: Analysis of 15 nm Iron Nanoparticles in Organic Solvents by spICP-MS
  • Agilent Application brief 5994-1748EN: Routine Detection of Nanoparticles in Infant Formula using Single Particle ICP-MS

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry > Search entire document Contents 2 Trace Elements in the Semiconductor Industry 3 Three Decades of ICP-MS Experience Drives Continuous Innovation 6 Agilent ICP-MS Solutions for the Semiconductor Industry 7 Setups for…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductoricp, icpreturn, returndocument, documententire, entiresearch, searchcontents, contentstable, tablecontamination, contaminationwafer, waferlabware, labwareagilent, agilentupw, upwcleaning, cleaningchemicals
Ultratrace Impurity Analysis of Ultrapure Water with Low Boron Background by ICP-MS/MS
Application Brief Semiconductor Ultratrace Impurity Analysis of Ultrapure Water with Low Boron Background by ICP-MS/MS Achieving extremely low detection limits with the Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Takafumi Hoshino ORGANO Corp., Koto, Tokyo, Japan Tetsuo Kubota Agilent Technologies, Inc. Critical contamination…
Klíčová slova
lod, lodupw, upwpuric, puricboron, boronbec, becicp, icpsemiconductor, semiconductorhoshino, hoshinotakafumi, takafumiachieving, achievingsemicon, semiconkubota, kubotaimpurity, impuritytetsuo, tetsuominiaturization
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Leave Interferences Behind With MS/MS
Leave Interferences Behind With MS/MS
2025|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Leave Interferences Behind With MS/MS Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS Put Your ICP-MS Results Beyond Doubt Reliable interference removal is easier to achieve with the second generation Agilent 8900 ICP-QQQ. In 2012, Agilent released the Agilent 8800, the world’s first…
Klíčová slova
icp, icpqqq, qqqnanoparticle, nanoparticlecps, cpsions, ionsmasshunter, masshuntercell, cellparticle, particlesingle, singleinterferences, interferencesanalysis, analysisreaction, reactionconfigurations, configurationsagilent, agilentspeciation
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.