Trace level analysis of sulfur, phosphorus, silicon and chlorine in NMP using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Aplikace | 2013 | Agilent TechnologiesInstrumentace
N-Methyl-2-pyrrolidon (NMP) je klíčový vysoce čistý organický rozpouštěč používaný v polovodičovém průmyslu jako čisticí prostředek a odstraňovač fotorezistu. Pro zajištění kvality polovodičových procesů je nutné stanovovat stopové množství nežádoucích nekovových prvků (S, P, Si, Cl) na úrovni ppt–ppb. Nízká ionizační účinnost a tvorba C-, N- a O-polyatomických interferencí v organickém matrice činí analýzu konvenčními ICP-MS technikami velmi náročnou.
Cílem bylo vyhodnotit výkon Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS v MS/MS režimu pro kvantifikaci síry, fosforu, křemíku a chlóru v acidifikovaném NMP. Studie porovnává on-mass a mass-shift přístupy, různé reakční plyny (O2, H2) a režimy detekce (jednokvadruplové vs. MS/MS), aby se minimalizovaly BEC a detekční limity.
Vzorky semikond. kvality NMP byly sub-vroucí destilací vyčištěny a acidifikovány na 1 % HNO3. Analýza probíhala bez dalšího ředění metodou standardních přídavků (MSA).
Instrumentace:
Mass-shift přístup v MS/MS režimu dosáhl významného snížení pozadí (BEC) oproti tradičnímu on-mass režimu:
Metoda umožňuje rychlou, cílenou analýzu čisticích lázní a procesních chemikálií v polovodičovém průmyslu na úrovni ppt–ppb bez časově náročných předúprav. Díky jedinému průchodu vzorku lze zároveň kvantifikovat metaloidy i nekovy a zajistit kvalitu reagentů pro QA/QC.
Další rozvoj může směřovat k:
Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS v MS/MS režimu s mass-shift metodami pro O2 a H2 dokáže efektivně kvantifikovat stopové množství S, P, Si a Cl v NMP. Nízké BEC a DL úrovně potvrzují výhody trojitého kvadruplu při eliminaci matricových interferencí a dosažení požadované citlivosti v polovodičovém průmyslu.
ICP/MS, ICP/MS/MS
ZaměřeníFarmaceutická analýza
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
N-Methyl-2-pyrrolidon (NMP) je klíčový vysoce čistý organický rozpouštěč používaný v polovodičovém průmyslu jako čisticí prostředek a odstraňovač fotorezistu. Pro zajištění kvality polovodičových procesů je nutné stanovovat stopové množství nežádoucích nekovových prvků (S, P, Si, Cl) na úrovni ppt–ppb. Nízká ionizační účinnost a tvorba C-, N- a O-polyatomických interferencí v organickém matrice činí analýzu konvenčními ICP-MS technikami velmi náročnou.
Cíle a přehled studie
Cílem bylo vyhodnotit výkon Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS v MS/MS režimu pro kvantifikaci síry, fosforu, křemíku a chlóru v acidifikovaném NMP. Studie porovnává on-mass a mass-shift přístupy, různé reakční plyny (O2, H2) a režimy detekce (jednokvadruplové vs. MS/MS), aby se minimalizovaly BEC a detekční limity.
Použitá metodika a instrumentace
Vzorky semikond. kvality NMP byly sub-vroucí destilací vyčištěny a acidifikovány na 1 % HNO3. Analýza probíhala bez dalšího ředění metodou standardních přídavků (MSA).
Instrumentace:
- Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS s polovodičovou konfigurací (Pt konické elektrody, vysoce propustný iontový čočkový systém).
- Organická hořáková trubice (1,5 mm ID) a C-flow 200 PFA nebulizér v samo-nasávacím režimu.
- Volitelná injekce 20 % O2 v Ar do nosného plynu k prevenci zanášení rozhraní uhlíkem.
- ORS3 octopólová reakční buňka s plyny O2 a H2 v MS/MS (Q1 filtrování na vstupu, Q2 analýza produktů reakce).
- Parametry plazmy: RF výkon 1550 W, nosný plyn 0,50 L/min, make-up plyn 0,10 L/min, teplota komory 0 °C.
Hlavní výsledky a diskuse
Mass-shift přístup v MS/MS režimu dosáhl významného snížení pozadí (BEC) oproti tradičnímu on-mass režimu:
- Fosfor (P→PO+ m/z 47): BEC 0,55 ppb, DL 0,06 ppb.
- Síra (S→SO+ m/z 48): BEC 5,5 ppb, DL 0,25 ppb.
- Křemík (Si→SiO2+ m/z 60): BEC 11,9 ppb, DL 0,48 ppb; on-mass (Q1=28/Q2=28) BEC 15,8 ppb.
- Chlór (Cl→H2Cl+ m/z 37): BEC 34,2 ppb, DL 3,61 ppb; O2 mass-shift metoda byla méně efektivní.
Přínosy a praktické využití metody
Metoda umožňuje rychlou, cílenou analýzu čisticích lázní a procesních chemikálií v polovodičovém průmyslu na úrovni ppt–ppb bez časově náročných předúprav. Díky jedinému průchodu vzorku lze zároveň kvantifikovat metaloidy i nekovy a zajistit kvalitu reagentů pro QA/QC.
Budoucí trendy a možnosti využití
Další rozvoj může směřovat k:
- rozšíření na jiné organické matrice a chemické procesy,
- novým kombinacím reakčních plynů a optimalizaci kinetiky reakcí,
- integrované automatizaci přípravy vzorků a online monitoringu,
- aplikacím v kombinaci s separačními technikami (UHPLC-ICP-QQQ) a speciační analýzou.
Závěr
Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS v MS/MS režimu s mass-shift metodami pro O2 a H2 dokáže efektivně kvantifikovat stopové množství S, P, Si a Cl v NMP. Nízké BEC a DL úrovně potvrzují výhody trojitého kvadruplu při eliminaci matricových interferencí a dosažení požadované citlivosti v polovodičovém průmyslu.
Reference
- Agilent Technologies, Understanding oxygen reaction mode in ICP-MS/MS, publikace 5991-1708EN.
- Y. Ikezo, S. Matsuoka, M. Takebe, A. Viggiano, Gas phase ion-molecule reaction rate constants through 1986, Maruzen Company Ltd.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
2022|Agilent Technologies|Příručky
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ
2018|Agilent Technologies|Aplikace
Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ Application note Semiconductor Author Kazumi Nakano, Agilent Technologies, Japan Introduction Quadrupole ICP-MS (ICP-QMS) is one of the most sensitive and versatile analytical tools used in inorganic…
Klíčová slova
bec, becelements, elementsicp, icpshift, shiftmass, massqqq, qqqelement, elementinterferences, interferencescell, cellppt, pptmode, modelens, lensomega, omegadifficult, difficultsilicon
Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900
2022|Agilent Technologies|Příručky
5th Edition Handbook of ICP-QQQ Applications using the Agilent 8800 and 8900 Primer > Return to table of contents > Search entire document Foreword Agilent Technologies launched its 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (ICP-QQQ) at the 2012 Winter Conference on Plasma…
Klíčová slova
return, returncontents, contentstable, tableicp, icpqqq, qqqcps, cpsgas, gasmass, massppt, pptcell, celldocument, documentconc, concentire, entiresearch, searchmode
Analysis of silicon, phosphorus and sulfur in 20% methanol using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
2012|Agilent Technologies|Aplikace
Analysis of silicon, phosphorus and sulfur in 20% methanol using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS Application note Semiconductor analysis; metallomics; energy & fuels Author Emmett Soffey, Bert Woods and Steve Wilbur Agilent Technologies Bellevue, WA, USA Introduction Analysis of…
Klíčová slova
bec, becquad, quadppb, ppbmode, modeions, ionssulfur, sulfursingle, singleanalyte, analytemonitored, monitoredquantification, quantificationcell, cellmass, massorganic, organicflow, flowsemiconductor