Measuring optical filters
Aplikace | 2011 | Agilent TechnologiesInstrumentace
Bandpass filtry jsou klíčové pro selekci úzkého pásma optického záření a nacházejí uplatnění v mnoha oblastech inkrementální spektroskopie, laserové optiky či optického senzoru.
Měření jejich přesných parametrů (šířka pásma, propustnost, potlačení) je zásadní pro spolehlivost a reprodukovatelnost analýz.
Cílem studie bylo vyhodnotit metodické přístupy vedoucí k minimalizaci artefaktů měření pásmových filtrů založených na interferenčních principech, které jsou citlivé na úhel dopadu i polarizaci světla.
Studie porovnávala naměřené charakteristiky dvou referenčních filtrů – úzkopásmového (FWHM ~0,3 nm při 630 nm) a širokopásmového (FWHM 50 nm při 260 nm).
Pro přesné rozlišení úzkopásmového filtru byla šířka spektrálního pásma (SBW) nastavena pod hodnotu 1/10 očekávané šířky signálu (0,03 nm) a u širokého filtru na 2 nm.
Signální průměrací čas (SAT) nastavený na 0,1 s zajistil vyvážený poměr mezi stabilitou signálu a dobou měření.
Interval dat byl volen tak, aby přes každou šířku pásma připadly nejméně tři měřicí body (0,01 nm pro úzký filtr, 1 nm pro široký).
Redukce pevných úhlů svazku (solid angle) se prováděla pomocí maskování v rovině otvoru štěrbin a obrazů difrakčního mřížkového systému; použitím 5 mm a 2 mm otvorů se úhly omezily až na ±0,6°.
Potlačení vlivu polarizace proběhlo vložením depolarizéru před vzorek.
Pro korekci nulové a 100 % linky bylo aplikováno ASTM E903, které zohledňuje elektronický šum a optické chyby měření s cílem poskytovat kompenzovaný přenos.
Beam masking vedlo ke zmenšení měřené FWHM u úzkého filtru z 0,462 nm (standardní konfigurace) na 0,360 nm (2 mm masky), zatímco u širokopásmového filtru zůstala šířka konstantní (~46,9 nm).
Postupná redukce solidního úhlu přinesla současný posun špičky k delší vlnové délce a zvýšení maximální propustnosti, což dokládá lepší průnik úzkého pásma.
ASTM korekce prokázala významné snížení odchylek v měřeních na úrovni nízkých transmittancí (<10−5 T), klíčové pro odhad out-of-band úniku („blocking“).
Depolarizér eliminoval přechodové artefakty při změně detektoru (800 nm), zajišťující rovnoměrnou odezvu bez vlivu polarizace.
Vývoj filtrů s aktivním laděním propustného pásma využívající MEMS či elektrooptické materiály.
Integrace integračních sfér pro jednotnou korekci stray-light a rozšíření měření do středního infračerveného pásma.
Automatizované workflow podporováné umělou inteligencí pro predikci a kompenzaci instrumentálních odchylek.
Realizace inline kontrol optických filtrů v průběhu výroby a nasazení v miniaturizovaných spektrometrech pro terénní analýzy.
Striktní kontrola instrumentálních parametrů (SBW, SAT, interval, úhly svazku) v kombinaci s korekcemi podle ASTM a maskováním solidního úhlu výrazně zlepšuje přesnost měření pásmových filtrů.
Popsaná metodika umožňuje detailní výpočet FWHM, potlačení nechtěného přenosu a neutrální odezvu na polarizaci, což je nezbytné pro spolehlivé optické aplikace.
UV–VIS Spektrofotometrie
ZaměřeníMateriálová analýza
VýrobceAgilent Technologies
Souhrn
Význam tématu
Bandpass filtry jsou klíčové pro selekci úzkého pásma optického záření a nacházejí uplatnění v mnoha oblastech inkrementální spektroskopie, laserové optiky či optického senzoru.
Měření jejich přesných parametrů (šířka pásma, propustnost, potlačení) je zásadní pro spolehlivost a reprodukovatelnost analýz.
Cíle a přehled studie
Cílem studie bylo vyhodnotit metodické přístupy vedoucí k minimalizaci artefaktů měření pásmových filtrů založených na interferenčních principech, které jsou citlivé na úhel dopadu i polarizaci světla.
Studie porovnávala naměřené charakteristiky dvou referenčních filtrů – úzkopásmového (FWHM ~0,3 nm při 630 nm) a širokopásmového (FWHM 50 nm při 260 nm).
Použitá instrumentace
- Cary 5 UV-Vis-NIR spektrofotometr
- Držáky pevných vzorků
- Světelné masky (2 mm)
- Glan Taylorův polarizér
- Depolarizér
Použitá metodika
Pro přesné rozlišení úzkopásmového filtru byla šířka spektrálního pásma (SBW) nastavena pod hodnotu 1/10 očekávané šířky signálu (0,03 nm) a u širokého filtru na 2 nm.
Signální průměrací čas (SAT) nastavený na 0,1 s zajistil vyvážený poměr mezi stabilitou signálu a dobou měření.
Interval dat byl volen tak, aby přes každou šířku pásma připadly nejméně tři měřicí body (0,01 nm pro úzký filtr, 1 nm pro široký).
Redukce pevných úhlů svazku (solid angle) se prováděla pomocí maskování v rovině otvoru štěrbin a obrazů difrakčního mřížkového systému; použitím 5 mm a 2 mm otvorů se úhly omezily až na ±0,6°.
Potlačení vlivu polarizace proběhlo vložením depolarizéru před vzorek.
Pro korekci nulové a 100 % linky bylo aplikováno ASTM E903, které zohledňuje elektronický šum a optické chyby měření s cílem poskytovat kompenzovaný přenos.
Hlavní výsledky a diskuse
Beam masking vedlo ke zmenšení měřené FWHM u úzkého filtru z 0,462 nm (standardní konfigurace) na 0,360 nm (2 mm masky), zatímco u širokopásmového filtru zůstala šířka konstantní (~46,9 nm).
Postupná redukce solidního úhlu přinesla současný posun špičky k delší vlnové délce a zvýšení maximální propustnosti, což dokládá lepší průnik úzkého pásma.
ASTM korekce prokázala významné snížení odchylek v měřeních na úrovni nízkých transmittancí (<10−5 T), klíčové pro odhad out-of-band úniku („blocking“).
Depolarizér eliminoval přechodové artefakty při změně detektoru (800 nm), zajišťující rovnoměrnou odezvu bez vlivu polarizace.
Přínosy a praktické využití metody
- Precizní charakterizace pásmových filtrů pro lékařské spektrofotometry, laserovou techniku a optické senzory
- Zlepšení kvality QA/QC procedur v průmyslové a akademické praxi
- Možnost standardizace měřicích protokolů a automatizace pomocí speciálních softwarových skriptů
- Spolehlivý odhad potlačení nežádoucích vlnových délek pro ochranu citlivých detektorů
Budoucí trendy a možnosti využití
Vývoj filtrů s aktivním laděním propustného pásma využívající MEMS či elektrooptické materiály.
Integrace integračních sfér pro jednotnou korekci stray-light a rozšíření měření do středního infračerveného pásma.
Automatizované workflow podporováné umělou inteligencí pro predikci a kompenzaci instrumentálních odchylek.
Realizace inline kontrol optických filtrů v průběhu výroby a nasazení v miniaturizovaných spektrometrech pro terénní analýzy.
Závěr
Striktní kontrola instrumentálních parametrů (SBW, SAT, interval, úhly svazku) v kombinaci s korekcemi podle ASTM a maskováním solidního úhlu výrazně zlepšuje přesnost měření pásmových filtrů.
Popsaná metodika umožňuje detailní výpočet FWHM, potlačení nechtěného přenosu a neutrální odezvu na polarizaci, což je nezbytné pro spolehlivé optické aplikace.
Reference
- ASTM E903: Standard Test Method for Solar Absorptance, Reflectance, and Transmittance of Materials Using Integrating Spheres, ASTM, Philadelphia, 1987.
Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.
Podobná PDF
Optical Characterization of Materials Using Spectroscopy
2023|Agilent Technologies|Příručky
Applications of UV-Vis-NIR Optical Characterization of Materials Using Spectroscopy Application Compendium > Return to table of contents Table of contents Introduction 4 Optics 5 Characterizing Sub-Nanometer Narrow Bandpass Filters Evaluation of the Cary Specular Reflectance Accessory for…
Klíčová slova
optical, opticalreturn, returnreflectance, reflectancecontents, contentstable, tableangle, angleincidence, incidencemeasurements, measurementswavelength, wavelengthtransmittance, transmittancereflection, reflectionspectrophotometer, spectrophotometermeasurement, measurementcoating, coatingbeam
Characterizing Sub-Nanometer Narrow Bandpass Filters Using an Agilent Cary UV-Vis-NIR
2023|Agilent Technologies|Aplikace
Application Note Materials Characterizing Sub-Nanometer Narrow Bandpass Filters Using an Agilent Cary UV-Vis-NIR Author Travis Burt Agilent Technologies, Inc. Abstract Bandpass filters can provide an inexpensive alternative to grating monochromators for isolating narrow wavelength regions. Many commercial bandpass filters have…
Klíčová slova
bandpass, bandpasswavelength, wavelengthfilters, filtersangle, anglespectrophotometer, spectrophotometernanometer, nanometershift, shiftnarrow, narrowcary, caryfilter, filtersbw, sbwrear, rearnir, nirshould, shouldcone
Characterizing sub-nanometer narrow bandpass filters using a Cary 400/500
2011|Agilent Technologies|Aplikace
Characterizing sub-nanometer narrow bandpass filters using a Cary 400/500 Application Note Author Introduction Travis Burt Bandpass filters can provide an inexpensive alternative to grating monochromators for isolating narrow wavelength regions. Many commercial bandpass filters have full-widthhalf-maximum (FWHM) bandwidths of 10…
Klíčová slova
bandpass, bandpasswavelength, wavelengthfilters, filtersnanometer, nanometerapertures, aperturesangle, angleincidence, incidencebeam, beamaperture, aperturefwhm, fwhmnarrow, narrowspectrophotometer, spectrophotometerrear, rearsub, subfront
Agilent Cary 4000/5000/6000i Series UV-VIS-NIR Spectrophotometers
2022|Agilent Technologies|Brožury a specifikace
Unrivaled. Precise. Consistent. Agilent Cary 4000/5000/6000i Series UV-VIS-NIR Spectrophotometers Unrivaled Agilent is your premier resource and partner for molecular spectroscopy. The world-renowned Cary product line, encompasses FTIR, UV-Vis-NIR and Fluorescence, offering you a comprehensive range of molecular spectroscopy solutions. Answers…
Klíčová slova
accessory, accessoryreflectance, reflectancewavelength, wavelengthdiffuse, diffusenir, nirabs, absholder, holdercary, caryangle, anglemeasurements, measurementsingaas, ingaascoatings, coatingsoptical, opticalsample, samplefilm