ICPMS
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.

Agilent ICP-MS Journal (April 2018. Issue 72)

Ostatní | 2018 | Agilent TechnologiesInstrumentace
ICP/MS, ICP/MS/MS
Zaměření
Potraviny a zemědělství, Polovodiče
Výrobce
Agilent Technologies

Souhrn

Význam tématu


  • Spektrometrie ICP-MS hraje klíčovou roli v kontrole stopových kontaminantů v polovodičovém průmyslu, kde i nejmenší množství kovů může výrazně ovlivnit výtěžnost a spolehlivost polovodičových součástek.
  • Vysoce čisté kyseliny používané při výrobě čipů (HNO₃, HCl) vyžadují analýzu kontaminantů na sub-ppt úrovni.
  • Zkoumání přítomnosti kovových stop ve výparných složkách e-cigaret upozorňuje na nový zdroj expozice toxickým kovům.
  • Neustálé zdokonalování technologie ICP-MS (zejména přechod na trojkvadrupólové systémy MS/MS) posouvá hranice citlivosti a selektivity měření.

Cíle a přehled článků


  • Popis vývoje a inovací Agilent ICP-MS a ICP-QQQ pod tlakem požadavků polovodičového průmyslu.
  • Metody přímé analýzy ultrakrátkých kontaminantů v koncentrovaných kyselinách HNO₃ a HCl pomocí Agilent 8900 ICP-QQQ.
  • Studie přenosu kovů z topných spirál do kapaliny a aerosolu v elektronických cigaretách, měřená Agilent 8800 ICP-QQQ.
  • Souhrn klíčových témat z konference Winter Plasma Conference 2018 a Agilent zákaznických akcí.
  • Přehled hlavních průlomových inovací Agilent ve spektrální analýze od 80. let do současnosti.

Použitá metodika a instrumentace


  • Agilent 8900 a 8800 ICP-QQQ provozované v režimu MS/MS pro potlačení polyatomových interferencí a dosažení sub-ppt detekčních limitů.
  • Bezodstředivý odskokový iontový systém (off-axis ion lens) a technologie „cool plasma“ pro analýzu prvků jako Na, K, Ca a Fe.
  • Metoda standard addition (MSA) pro kvantifikaci stopových kovů v nezředěných vzorcích kyselin.
  • Vzorkování aerosolu z e-cigaret za účelem stanovení kovových koncentrací ve výparu.
  • Software ICP Expert a MassHunter pro optimalizaci metod a vyhodnocení dat.

Hlavní výsledky a diskuse


  • Vysoká linearita a detekční limity na úrovni desítek až stovek fg/L pro 49 prvků v koncentrovaném HNO₃ a pro 50 prvků v HCl.
  • Koncentrace kovových kontaminantů v komerčních kyselinách výrazně nižší než limity SEMI pro Tier-B a Tier-C specifikace.
  • Aerosol z e-cigaret obsahoval až desítky μg/kg Pb, Ni, Cr a Mn, což naznačuje významný přenos kovů z topných spirál.
  • Na konferenci WPC 2018 dominovala témata speciační analýzy, laserové ablaci, analýzy nanopartikulí, izotopových poměrů a vývoje triple quadrupole ICP-MS.

Přínosy a praktické využití metody


  • Zavedení ultračistých protokolů a MS/MS technologie umožňuje spolehlivou kontrolu kvality chemikálií ve výrobě polovodičů.
  • Monitorování stopových kovů v e-cigaretách poskytuje vědecký základ pro hodnocení zdravotních rizik.
  • Přesné stanovení kontaminantů v ultrakrátkých vzorcích zkracuje čas přípravy a minimalizuje riziko přidání rušivých nečistot.

Budoucí trendy a možnosti využití


  • Další rozvoj trojkvadrupólových ICP-QQQ systémů směrem k vyšší citlivosti a nižšímu pozadí, zvláště pro lehké a vysoce reaktivní prvky (P, Si, S, Cl).
  • Rozšíření aplikací na analýzu jednotlivých nanopartikulí, jednorázových buněk a složitých matic v biomedicíně a environmentální chemii.
  • Integrace pokročilých softwarových nástrojů pro automatizované vyhodnocování dat a řízení kvality v reálném čase.

Závěr


  • Agilent ICP-QQQ technologie splňuje náročné požadavky monitoringu kontaminantů v polovodičovém průmyslu, ultrakrátkých kyselinách a nově i v aerosolech e-cigaret.
  • Rozvoj MS/MS metod a čistých rozhraní vzorkování dál posouvá hranici možného v ultra-stopové analýze.

Reference


  • SEMI C35-0708: Specifications and Guidelines for Nitric Acid (2008).
  • SEMI C27-0708: Specifications and Guidelines for Hydrochloric Acid (2008).
  • Agilent Application Notes: 5991-8675EN, 5991-8798EN, 5991-7701EN, 5991-7008EN, 5991-6852EN, 5991-1693EN.

Obsah byl automaticky vytvořen z originálního PDF dokumentu pomocí AI a může obsahovat nepřesnosti.

PDF verze ke stažení a čtení
 

Podobná PDF

Toggle
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry
Agilent Atomic Spectroscopy Solutions for the Semiconductor Industry > Search entire document Contents 2 Trace Elements in the Semiconductor Industry 3 Three Decades of ICP-MS Experience Drives Continuous Innovation 6 Agilent ICP-MS Solutions for the Semiconductor Industry 7 Setups for…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductoricp, icpreturn, returndocument, documententire, entiresearch, searchcontents, contentstable, tablecontamination, contaminationwafer, waferlabware, labwareagilent, agilentupw, upwcleaning, cleaningchemicals
Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
Applications of ICP-MS Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing Application Compendium > Return to table of contents > Search entire document Table of contents ICP-MS and ICP-QQQ in the Semiconductor Industry 4 Agilent Has Three Decades of ICP-MS Experience Driving…
Klíčová slova
return, returncontents, contentsicp, icptable, tablecps, cpsppt, pptgas, gassemiconductor, semiconductorconc, concqqq, qqqbec, becdocument, documententire, entiresearch, searchmode
Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions
Application Note Semiconductor Ultrapure Process Chemicals Analysis by ICP-QQQ with Hot Plasma Conditions Meeting single- and sub-ppt guideline levels for ASTM/SEMI elements in ultrapure water using an Agilent 8900 ICP-QQQ Authors Kazuhiro Sakai and Yoshinori Shimamura Agilent Technologies, Inc. Introduction…
Klíčová slova
semiconductor, semiconductorppt, pptbecs, becsdls, dlselements, elementsicp, icpultratrace, ultratracebec, becplasma, plasmacontaminants, contaminantseie, eieastm, astmupw, upwbackgrounds, backgroundssemi
Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS
Application Note Semiconductor Automated Surface Analysis of Metal Contaminants in Silicon Wafers by Online VPD-ICP-MS/MS Agilent 8900 ICP-QQQ integrated with IAS Expert PS VPD provides the sensitivity and robustness required for 24/7 contamination control of wafers Authors Introduction Tatsu Ichinose…
Klíčová slova
vpd, vpdwafer, wafericp, icpfabs, fabsasas, asassurface, surfacescan, scansemiconductor, semiconductorsystem, systemintegrated, integratedautomated, automatedexpert, expertdroplet, dropletfab, fabistd
Další projekty
GCMS
LCMS
Sledujte nás
Další informace
WebinářeO násKontaktujte násPodmínky užití
LabRulez s.r.o. Všechna práva vyhrazena. Obsah dostupný pod licencí CC BY-SA 4.0 Uveďte původ-Zachovejte licenci.